一种光刻胶均匀的喷涂装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种光刻胶均匀的喷涂装置，涉及光刻胶喷涂装置技术领域。本实用新型专利技术包括底座，底座上表面固定有支架，支架顶部固定有料箱；料箱一端固定有连接管，连接管一端固定有活动块，连接管表面固定有料泵；所说活动块一侧固定有喷头；活动块内部开有活动槽，活动槽表面开有若干通孔；活动块内部固定有若干伸缩杆，伸缩杆外侧套接有弹簧，伸缩杆一端固定有连接板；连接板一侧固定有连接杆。本实用新型专利技术通过活动块的作用，该装置可以将活动块与限位杆之间的滑动摩擦变为滚动摩擦，可以大大的减少活动块在滑动时的摩擦力，同时减少其在加工时的震动，使得在工作过程中喷头更加稳定，以此达到可以均匀的喷涂光刻胶的效果。果。果。

【技术实现步骤摘要】
一种光刻胶均匀的喷涂装置


[0001]本技术属于光刻胶喷涂装置
，特别是涉及一种光刻胶均匀的喷涂装置。

技术介绍

[0002]光刻工艺是半导体制造技术中使用的最频繁、最关键的技术之一，凡是半导体元件、光电器件等，都需要光刻工艺将所需元件的基本组成单元和线路的掩膜图形转移到衬底表面的光刻胶图形上。在半导体制作中，需要通过在半导体元件上喷涂光刻胶以为下一步刻蚀做好工艺准备。在光刻工艺中，需要在硅片表面涂覆一层粘附性好、厚度适当、厚薄均匀的光刻胶。
[0003]公开号为“CN114918053B”，名称为“一种光刻胶喷涂设备”的技术公开了一种光刻胶的喷涂装置，其主要是通过旋转雾化件的设置能够使得喷涂的光刻胶配合空气进行雾化，气体和液体颗粒撞击，进行破碎，并保持旋转，使雾滴形成所需的圆锥形喷雾形态，可有效提高喷涂均匀性效果。但是该装置的喷头在使用时，会产生一定的震动，该震动会导致在喷涂过程中产生一定的偏移，从而会出现喷涂结果不均匀的情况出现。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种光刻胶均匀的喷涂装置，通过活动块的作用，该装置可以将活动块与限位杆之间的滑动摩擦变为滚动摩擦，可以大大的减少活动块在滑动时的摩擦力，同时减少其在加工时的震动，使得在工作过程中喷头更加稳定，以此达到可以均匀的喷涂光刻胶的效果，解决了现有的喷头在使用时，会产生一定的震动，该震动会导致在喷涂过程中产生一定的偏移，从而会出现喷涂结果不均匀的情况出现的问题。
[0005]为实现上述目的，本技术提供了如下技术方案：
[0006]一种光刻胶均匀的喷涂装置，包括底座，所述底座上表面固定有支架，所述支架顶部固定有料箱；
[0007]所述料箱一端固定有连接管，所述连接管一端固定有活动块，所述连接管表面固定有料泵；
[0008]所说活动块一侧固定有喷头；
[0009]所述活动块内部开有活动槽，所述活动槽表面开有若干通孔；
[0010]所述活动块内部固定有若干伸缩杆，所述伸缩杆外侧套接有弹簧，所述伸缩杆一端固定有连接板；
[0011]所述连接板一侧固定有连接杆，所述连接杆一端固定有限位槽，所述限位槽内部滚动连接有防护球；
[0012]所述底座上表面通过第一螺栓固定连接有支撑座，所述支撑座一侧固定有若干限位杆，所述限位杆贯穿活动槽。
[0013]本技术进一步设置为：所述限位杆表面开有若干防护槽，所述防护球在防护
槽内壁滚动。
[0014]本技术进一步设置为：所述支撑座表面固定有螺纹管，所述螺纹管内部螺纹连接有螺纹杆；
[0015]所述螺纹杆一端固定有电机，所述螺纹杆远离电机一端固定有传动杆。
[0016]本技术进一步设置为：所述传动杆一端固定有轴承，所述轴承外圈与活动块固定连接；
[0017]所述电机与支撑座之间固定有伸缩杆。
[0018]本技术进一步设置为：所述限位杆一端活动连接有限位板，所述限位杆与限位板表面均开有螺纹孔；
[0019]所述螺纹孔内部螺纹连接有第二螺栓。
[0020]本技术具有以下有益效果：
[0021]1、本技术通过活动块的作用，该装置可以将活动块与限位杆之间的滑动摩擦变为滚动摩擦，可以大大的减少活动块在滑动时的摩擦力，同时减少其在加工时的震动，使得在工作过程中喷头更加稳定，以此达到可以均匀的喷涂光刻胶的效果。
[0022]2、本技术通过螺纹杆的作用，螺纹杆在转动时，由于在螺纹管内部转动连接，故螺纹杆相较于支撑座做直线运动，以此带动活动块活动，活动块则带动喷头活动，该装置可以灵活的调节喷头的位置，便于该装置高效的进行喷涂加工。
[0023]当然，实施本技术的任一产品并不一定需要同时达到以上所述的所有优点。
附图说明
[0024]为了更清楚地说明本技术实施例的技术方案，下面将对实施例描述所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0025]图1为本技术一种光刻胶均匀的喷涂装置的结构示意图。
[0026]图2为本技术的仰视视角结构示意图。
[0027]图3为本技术的支撑座结构示意图。
[0028]图4为本技术的活动块内部结构示意图。
[0029]图5为本技术的图4中A处局部放大图。
[0030]附图中，各标号所代表的部件列表如下：
[0031]1‑
底座，2
‑
支架，3
‑
料箱，4
‑
连接管，5
‑
活动块，6
‑
料泵，7
‑
喷头，8
‑
活动槽，9
‑
通孔，10
‑
伸缩杆一，11
‑
弹簧，12
‑
连接板，13
‑
连接杆，14
‑
限位槽，15
‑
防护球，16
‑
支撑座，17
‑
限位杆，18
‑
防护槽，19
‑
螺纹管，20
‑
螺纹杆，21
‑
电机，22
‑
传动杆，23
‑
轴承，24
‑
伸缩杆二，25
‑
限位板，26
‑
螺纹孔。
具体实施方式
[0032]需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互结合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本技术。
[0033]需要指出的是，除非另有指明，本申请使用的所有技术和科学术语具有与本申请
所属
的普通技术人员通常理解的相同含义。
[0034]本技术中，在未作相反说明的情况下，使用的方位如“上、下”通常是针对附图所示的方向而言，或者是针对竖直、垂直或重力方向上而言的；同样地，为便于理解和描述，“左、右”通常是针对附图所示的左、右；“内、外”是指相对于各部件本身的轮廓的内、外，但上述方位词并不用于限制本技术。
[0035]实施例一
[0036]请参阅图1
‑
5，本技术提供以下技术方案：
[0037]具体地是指一种光刻胶均匀的喷涂装置，包括底座1，底座1上表面固定有支架2，支架2顶部固定有料箱3；料箱3一端固定有连接管4，连接管4一端固定有活动块5，连接管4表面固定有料泵6；所说活动块5一侧固定有喷头7；活动块5内部开有活动槽8，活动槽8表面开有若干通孔9；活动块5内部固定有若干伸缩杆一10，伸缩杆一10外侧套接有弹簧11，伸缩杆一10一端固定有连接板12；连接板12一侧固定有连接杆13，连接杆13一本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光刻胶均匀的喷涂装置，包括底座(1)，其特征在于：所述底座(1)上表面固定有支架(2)，所述支架(2)顶部固定有料箱(3)；所述料箱(3)一端固定有连接管(4)，所述连接管(4)一端固定有活动块(5)，所述连接管(4)表面固定有料泵(6)；所说活动块(5)一侧固定有喷头(7)；所述活动块(5)内部开有活动槽(8)，所述活动槽(8)表面开有若干通孔(9)；所述活动块(5)内部固定有若干伸缩杆一(10)，所述伸缩杆一(10)外侧套接有弹簧(11)，所述伸缩杆一(10)一端固定有连接板(12)；所述连接板(12)一侧固定有连接杆(13)，所述连接杆(13)一端固定有限位槽(14)，所述限位槽(14)内部滚动连接有防护球(15)；所述底座(1)上表面通过第一螺栓固定连接有支撑座(16)，所述支撑座(16)一侧固定有若干限位杆(17)，所述限位杆(17)贯穿活动槽(8)。2.根据权利要求1所述的一种光...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈晓光，康小文，于深，
申请(专利权)人：住晶新材料科技烟台有限公司，
类型：新型
国别省市：