一种光刻胶均匀的喷涂装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种光刻胶均匀的喷涂装置，涉及光刻胶喷涂装置技术领域。本实用新型专利技术包括底座，底座上表面固定有支架，支架顶部固定有料箱；料箱一端固定有连接管，连接管一端固定有活动块，连接管表面固定有料泵；所说活动块一侧固定有喷头；活动块内部开有活动槽，活动槽表面开有若干通孔；活动块内部固定有若干伸缩杆，伸缩杆外侧套接有弹簧，伸缩杆一端固定有连接板；连接板一侧固定有连接杆。本实用新型专利技术通过活动块的作用，该装置可以将活动块与限位杆之间的滑动摩擦变为滚动摩擦，可以大大的减少活动块在滑动时的摩擦力，同时减少其在加工时的震动，使得在工作过程中喷头更加稳定，以此达到可以均匀的喷涂光刻胶的效果。果。果。

【技术实现步骤摘要】
一种光刻胶均匀的喷涂装置


[0001]本技术属于光刻胶喷涂装置
，特别是涉及一种光刻胶均匀的喷涂装置。

技术介绍

[0002]光刻工艺是半导体制造技术中使用的最频繁、最关键的技术之一，凡是半导体元件、光电器件等，都需要光刻工艺将所需元件的基本组成单元和线路的掩膜图形转移到衬底表面的光刻胶图形上。在半导体制作中，需要通过在半导体元件上喷涂光刻胶以为下一步刻蚀做好工艺准备。在光刻工艺中，需要在硅片表面涂覆一层粘附性好、厚度适当、厚薄均匀的光刻胶。
[0003]公开号为“CN114918053B”，名称为“一种光刻胶喷涂设备”的技术公开了一种光刻胶的喷涂装置，其主要是通过旋转雾化件的设置能够使得喷涂的光刻胶配合空气进行雾化，气体和液体颗粒撞击，进行破碎，并保持旋转，使雾滴形成所需的圆锥形喷雾形态，可有效提高喷涂均匀性效果。但是该装置的喷头在使用时，会产生一定的震动，该震动会导致在喷涂过程中产生一定的偏移，从而会出现喷涂结果不均匀的情况出现。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种光刻胶均匀的喷涂装置，通过活动块的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光刻胶均匀的喷涂装置，包括底座(1)，其特征在于：所述底座(1)上表面固定有支架(2)，所述支架(2)顶部固定有料箱(3)；所述料箱(3)一端固定有连接管(4)，所述连接管(4)一端固定有活动块(5)，所述连接管(4)表面固定有料泵(6)；所说活动块(5)一侧固定有喷头(7)；所述活动块(5)内部开有活动槽(8)，所述活动槽(8)表面开有若干通孔(9)；所述活动块(5)内部固定有若干伸缩杆一(10)，所述伸缩杆一(10)外侧套接有弹簧(11)，所述伸缩杆一(10)一端固定有连接板(12)；所述连接板(12)一侧固定有连接杆(13)，所述连接杆(13)一端固定有限位槽(14)，所述限位槽(14)内部滚动连接有防护球(15)；所述底座(1)上表面通过第一螺栓固定连接有支撑座(16)，所述支撑座(16)一侧固定有若干限位杆(17)，所述限位杆(17)贯穿活动槽(8)。2.根据权利要求1所述的一种光...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈晓光，康小文，于深，
申请(专利权)人：住晶新材料科技烟台有限公司，
类型：新型
国别省市：