【技术实现步骤摘要】
本技术涉及光刻胶涂布设备，具体是一种光刻胶涂布机构。
技术介绍
1、在半导体器件和平板显示面板制造的光刻工艺中，电路图形需要在基板表面涂布光刻胶，然后曝光、显影。现有技术中在基板表面涂布光刻胶的方法通常为离心涂布，具体方法为：将基板平放在涂布台面上，喷嘴利用均速泵产生的均匀压力，将光刻胶涂布在基板上，然后通过旋转单元使得光刻胶在基板上涂布均匀。然而，为了使光刻胶可以均匀地涂布于基板上，通常会先在基板上涂布大量光刻胶，然后旋转基板使光刻胶均匀涂布，这种涂布方式中大部分的光刻胶都在离心涂布的过程中被排入废液槽中，造成光刻胶利用率低下。而光刻胶材料又比较昂贵，因此生产成本也会大大增加。
2、经检索，中国技术专利提出了一种光刻胶涂布装置(公告号：cn210666332u)，包括转轴、涂布平台和转筒，所述涂布平台水平设置并能够绕所述转轴转动，以带动放置在所述涂布平台上的玻璃基板旋转，所述转筒包括从内朝外向下倾斜设置的筒底、设置在所述筒底外沿的筒壁以及设置在所述筒底和所述筒壁交汇处的排放管，其能在光刻胶离心涂布时，有效收集多余的光刻胶，同时防止光刻胶在高速离心力的作用下飞溅出来，并从排放管中回收，但是，在使用过程中，回收的光刻胶位于涂布平台侧面的转筒内，为避免积存的光刻胶影响下一次光刻胶涂布，每次光刻胶涂布后就需要及时进行排放，从而不仅使用起来比较麻烦，也影响光刻胶涂布的效率。
技术实现思路
1、本技术的目的在于提供一种光刻胶涂布机构，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
3、一种光刻胶涂布机构，包括离心机构和回收机构，所述离心机构包括转轴、涂布平台和玻璃基板，所述转轴的上端固定连接有涂布平台，涂布平台的上表面设有相匹配的玻璃基板，所述涂布平台上连接有回收机构，回收机构包括套筒、连通管、筒盖、注入管、环形箱和排料管，涂布平台的侧面固定连接有套筒，套筒上螺纹连接有相匹配的筒盖，筒盖上固定连接有注入管，套筒的下表面通过多个均匀分布的连通管固定连接有环形箱，环形箱的下表面固定连通有多个均匀分布的排料管。
4、作为本技术进一步的方案：所述筒盖的上表面通过多个均匀分布的连接柱固定连接有操作环。
5、作为本技术进一步的方案：所述操作环的表面开设有防滑纹。
6、作为本技术进一步的方案：所述套筒的下表面通过多个均匀分布的连接杆与环形箱的上表面固定连接。
7、作为本技术进一步的方案：所述连通管的数量共四个，且两两所述连通管之间呈90度夹角设置。
8、作为本技术进一步的方案：所述排料管的下端螺纹连接有相匹配的管盖。
9、与现有技术相比，本技术的有益效果是：
10、本技术通过离心机构和回收机构的配合使用，在光刻胶涂布离心涂布过程中，不仅能够收集多余的光刻胶，而且能够将收集到的光刻胶单独存放于环形箱，无需每次光刻胶离心涂布后就需放，使其能够连续进行离心涂布，不仅使用起来比较方便，也提高了光刻胶涂布的效率。
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1.一种光刻胶涂布机构，其特征在于，包括:
2.根据权利要求1所述的一种光刻胶涂布机构，其特征在于，所述筒盖(8)的上表面通过多个均匀分布的连接柱(9)固定连接有操作环(10)。
3.根据权利要求2所述的一种光刻胶涂布机构，其特征在于，所述操作环(10)的表面开设有防滑纹。
4.根据权利要求1所述的一种光刻胶涂布机构，其特征在于，所述套筒(3)的下表面通过多个均匀分布的连接杆(6)与环形箱(5)的上表面固定连接。
5.根据权利要求1所述的一种光刻胶涂布机构，其特征在于，所述连通管(4)的数量共四个，且两两所述连通管(4)之间呈90度夹角设置。
6.根据权利要求1所述的一种光刻胶涂布机构，其特征在于，所述排料管(13)的下端螺纹连接有相匹配的管盖(7)。
【技术特征摘要】
1.一种光刻胶涂布机构，其特征在于，包括:
2.根据权利要求1所述的一种光刻胶涂布机构，其特征在于，所述筒盖(8)的上表面通过多个均匀分布的连接柱(9)固定连接有操作环(10)。
3.根据权利要求2所述的一种光刻胶涂布机构，其特征在于，所述操作环(10)的表面开设有防滑纹。
4.根据权利要求1所述的一种光刻胶涂布机构，其特...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈晓光，康小文，于深，
申请(专利权)人：住晶新材料科技烟台有限公司，
类型：新型
国别省市：
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