一种清洗局部电镀零件的施工方法及试验方法技术

本发明专利技术涉及阻镀漆清除技术领域，特别涉及一种清洗局部电镀零件的施工方法及试验方法。其中施工方法包含以下步骤：S1.使用氩氧冷等离子体对局部电镀零件表面阻镀漆进行清洗，分解去除阻镀漆中的有机物，残留物以无机物为主，残留物呈现为网孔结构；S2.对所述残留物进行超声波清洗。本申请所述的一种清洗局部电镀零件的施工方法，利用氩氧冷等离子体清洗方式和超声波清洗方式协同清洗，使得电镀零件上阻镀漆更容易被有效清洗，而且清洗所需温度不高，能够满足用于高精密的零件上阻镀漆的清洗。洗。洗。

【技术实现步骤摘要】
Fatigue Performance of 2024
‑
T3Aluminium Alloy Sheet.Journal of Minerals and Materials Characterization and Engineering，6，15
‑
24.展示的研究内容，但这些研究中，其去除阻镀漆温度达到400℃以上，去除阻镀漆过程对基材性能和表面形貌都有一定的影响，因此不适合高精密的零件。

技术实现思路

[0005]本专利技术的目的在于克服
技术介绍
中所存在的化学清洗方法难以彻底清洁零件，在零件角落、螺纹等特征位置容易残留，造成电子器件接触不良，影响电子器件的性能。热等离子体去除阻镀漆温度高，不适用于高精密的零件的问题，提供一种清洗局部电镀零件的施工方法及试验方法。
[0006]为了实现上述目的，本专利技术采用的技术方案为：
[0007]一种清洗局部电镀零件的施工方法，包含以下步骤：
[0008]S1.使用氩氧冷等离子体对局部电镀零件表面阻镀漆进行清洗，分解去除阻镀漆中的有机物，残留物以无机物为主，残留物呈现为网孔结构；
[0009]S2.对所述残留物进行超声波清洗。
[0010]本申请所述的一种清洗局部电镀零件的施工方法，对局部电镀零件进行氩氧冷等离子体清洗，一是氩氧冷等离子体通过化学作用分解掉阻镀漆中的有机高分子；二是有机高分子的分解导致了阻镀漆附着力的降低，利于后续工艺的去除；三是等离子体处理后阻镀漆残留物形成的网孔结构以增强后续超声波清洗的作用效果；
>[0011]而氩氧冷等离子体处理阻镀漆增强了超声波清洗的作用：阻镀漆是有机高分子包裹滑石粉的结构，有机高分子起着粘合剂的作用，滑石粉起着支撑增强阻镀漆的作用。氩氧冷等离子体通过化学作用分解掉阻镀漆中的有机物，并使残留的滑石粉颗粒经过坍塌和分子间的重新结合形成了网孔结构，在进行超声波清洗时，这种网孔结构有利于水分子的渗入，进而使得超声波空泡在残留物的内部产生，并且超声波空泡的破坏力大于滑石粉分子间的作用力，因此导致残留物从内部分解并脱离金属表面。
[0012]综上所述，本申请所述的一种清洗局部电镀零件的施工方法，利用氩氧冷等离子体清洗方式和超声波清洗方式协同清洗，使得电镀零件上阻镀漆更容易被有效清洗，而且清洗所需温度不高，能够满足用于高精密的零件上阻镀漆的清洗。
[0013]优选地，步骤S1中氩氧冷等离子体清洗为等离子体射流清洗。
[0014]具体地，步骤S1中等离子体射流清洗具体为通过手持等离子体射流装置，清洗局部电镀零件上剩余阻镀漆。
[0015]具体地，步骤S1中等离子体射流清洗具体为通过机械臂夹持等离子体射流装置，再通过数控移动系统移动离子体射流装置或零件进行清洗；
[0016]具体地，步骤S1中等离子体射流清洗具体为基于机器视觉系统，检测零件污染位置并控制机械臂清洗局部电镀零件上有污染的部分。
[0017]优选地，步骤S1中氩氧冷等离子体清洗为真空等离子体清洗。
[0018]具体地，步骤S1中，真空等离子体清洗具体为：把局部电镀零件放在真空腔室中，再利用真空中激发的等离子体去清洗局部电镀零件，并通过真空泵将等离子体分解阻镀漆后产生的气相物质从真空腔室中抽出。
[0019]优选地，当光谱强度增加所带来的清洗效率增益与入射角增大所带来的清洗效率衰减平衡时，氩氧冷等离子体清洗效率能够达到最大。
[0020]优选地，步骤S1之前包含步骤S0：对局部电镀零件表面阻镀漆进行化学清洗。
[0021]本申请所述的一种清洗局部电镀零件的施工方法，通过化学清洗去除局部电镀零件上大部分阻镀漆，之后对局部电镀零件剩余下的阻镀漆进行氩氧冷等离子体清洗，一是氩氧冷等离子体通过化学作用分解掉阻镀漆中的有机高分子；二是有机高分子的分解导致了阻镀漆附着力的降低，利于后续工艺的去除；三是等离子体处理后阻镀漆残留物形成的网孔结构以增强后续超声波清洗的作用效果；
[0022]而氩氧冷等离子体处理阻镀漆增强了超声波清洗的作用：阻镀漆是有机高分子包裹滑石粉的结构，有机高分子起着粘合剂的作用，滑石粉起着支撑增强阻镀漆的作用。氩氧冷等离子体通过化学作用分解掉阻镀漆中的有机物，并使残留的滑石粉颗粒经过坍塌和分子间的重新结合形成了网孔结构，在进行超声波清洗时，这种网孔结构有利于水分子的渗入，进而使得超声波空泡在残留物的内部产生，并且超声波空泡的破坏力大于滑石粉分子间的作用力，因此导致残留物从内部分解并脱离金属表面。
[0023]综上所述，本申请所述的一种清洗局部电镀零件的施工方法，利用化学清洗、氩氧冷等离子体清洗方式和超声波清洗方式协同清洗，使得电镀零件上阻镀漆更容易被有效清洗，而且清洗所需温度不高，能够满足用于高精密的零件上阻镀漆的清洗。
[0024]优选地，将局部电镀零件放入阻镀漆溶剂浸泡一段时间，之后在该阻镀漆溶剂中刷洗一次，即完成步骤S0。不用再通过多道冲刷清洗来清洗阻镀漆，从而大大节省化学清洗的时间和工作量。
[0025]本专利技术还公开了一种清洗局部电镀零件的实验方法，包含以下步骤：
[0026]A1.制备样品，并使样品模拟零件在化学清洗后残留污染的状态；
[0027]A2.对所述样品进行不同功率、工作气体种类及工作气体比例的氩氧冷等离子体清洗效果实验；
[0028]A3.分析所述样品经氩氧冷等离子体清洗后的残留物，并基于分析结果选择后续补充清洗方式。
[0029]本申请所述的一种清洗局部电镀零件的实验方法，通过制备样品，并使样品模拟零件在化学清洗后残留污染的状态，之后对所述样品进行不同功率、工作气体种类及工作气体比例的氩氧冷等离子体清洗效果实验，并通过分析所述样品经氩氧冷等离子体清洗后的残留物，并基于分析结果选择后续补充清洗方式，来从原理上保证阻镀漆的彻底清除，为工艺成型做出理论基础。
[0030]优选地，步骤A3具体为：分析所述样品经氩氧冷等离子体清洗后的残留物，并对残留物进行超声波清洗。
[0031]优选地，在步骤A1中，在所述样品表面划出微米级沟壑，并将阻镀漆通过滴液的方式污染所述样品，以模拟局部电镀零件在化学清洗后剩余阻镀漆
[0032]优选地，在A2步骤中：通过称量氩氧冷等离子体清洗前后样品的质量来获得阻镀漆去除量，以表征阻镀漆清洗效率；
[0033]优选地，在A2步骤中：利用光谱仪测量等离子体光谱强度变化，以表征等离子体活性粒子浓度的变化。
[0034]综上所述，由于采用了上述技术方案，本专利技术的有益效果是：
[0035]1、本申请所述的一种清洗局部电镀零件的施工方法，利用化学清洗、氩氧冷等离子体清洗方式和超声波清洗方式协同清洗，使得电镀零件上阻镀漆更容易被有效清洗，而且清洗所需温度不高，能够满足用于高精密的零件上阻镀漆的清洗。
[0036]2、本申请所述的一种清洗局部电镀零件的实验方法，通过制备样品，并使样品模拟零件在化学清洗后残留污染的状态，之后对所述样品进行不同功本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种清洗局部电镀零件的施工方法，其特征在于，包含以下步骤：S1.使用氩氧冷等离子体对局部电镀零件(1)表面阻镀漆进行清洗，分解去除阻镀漆中的有机物，残留物以无机物为主，残留物呈现为网孔结构；S2.对所述残留物进行超声波清洗。2.根据权利要求1所述的一种清洗局部电镀零件的施工方法，其特征在于：步骤S1中氩氧冷等离子体清洗为等离子体射流清洗或真空等离子体清洗。3.根据权利要求2所述的一种清洗局部电镀零件的施工方法，其特征在于，步骤S1中氩氧冷等离子体清洗为等离子体射流清洗时，具体为：通过手持等离子体射流装置(2)，清洗局部电镀零件(1)上剩余阻镀漆；或，通过机械臂夹持等离子体射流装置(2)，再通过数控移动系统移动离子体射流装置或零件进行清洗；或，基于机器视觉系统，检测零件污染位置并控制机械臂清洗局部电镀零件(1)上有污染的部分。4.根据权利要求2所述的一种清洗局部电镀零件的施工方法，其特征在于：当步骤S1中氩氧冷等离子体清洗为真空等离子体清洗时，具体为：把局部电镀零件(1)放在真空腔室(8)中，再利用真空中激发的等离子体去清洗局部电镀零件(1)，并通过真空泵(9)将等离子体分解阻镀漆后产生的气相物质从真空腔室(8)中抽出。5.根据权利要求1所述的一种清洗局部电镀零件的施工方法，其特征在于：当光谱强度增加所带来的清洗效率增益与入射角增大所带来的清洗效率衰减平衡时，氩氧冷...

【专利技术属性】
技术研发人员：张鹏，赵应鑫，邓双全，刘进伟，余德平，曹修全，
申请(专利权)人：中江立江电子有限公司，
类型：发明
国别省市：