一种真空镀膜挂载结构及方法技术

本发明专利技术涉及真空镀膜技术领域，涉及一种真空镀膜挂载结构及方法。本发明专利技术的支撑杆对筒状工件进行支撑使得该筒状工件上的通孔呈竖直方向设置，使得筒状工件的通孔以及其上的通孔均为上下方向设置，可完全避免真空镀膜时产生的离子灰沉积，有效避免传统挂架挂装的方式导致筒状工件横向放置，其朝上的顶面面积大更加容易积灰的问题；同时横向设置的孔位的落灰会在孔位的底面上进行沉积，采用呈竖直方向设置，不仅减小了工件朝上的顶面面积小，同时原本沉积在孔位的底面的离子灰会从通孔或者孔位穿下去，不会造成孔位沉积，有效保证真空镀膜质量。膜质量。膜质量。

【技术实现步骤摘要】
一种真空镀膜挂载结构及方法


[0001]本专利技术涉及真空镀膜
，涉及一种真空镀膜挂载结构及方法。

技术介绍

[0002]真空镀膜是一种物理气相沉积制备功能薄膜的方法，其基本原理是在真空室内材料的原子在电磁场作用下从靶源离析出来打到被镀物表面上，其被广泛应用在各种元器件的表面处理上，特别是对于一些车灯反射镜、汽车装饰件以及一些工艺品的表面均需要通过镀膜以覆盖一层保护膜，从而延长产品的使用寿命。
[0003]而现有技术中，针对圆筒类或者圆环类工件一般采用挂架对其进行挂装，再将挂架夹具整体固定于真空镀膜机炉腔内进行真空镀膜操作，传统挂架挂装的方式一般会将工件横向或者倾斜放置使其顶面朝上，不仅会使得挂载位置无法镀膜，同时由于工件顶面面积大会更加容易积灰，且工件横向放置还会使得其上孔位的落灰会在孔位的底面上进行沉积，影响工件真空镀膜质量。

技术实现思路

[0004]本专利技术要解决的技术问题是提供一种可完全避免真空镀膜时产生的离子灰沉积，有效保证真空镀膜质量的真空镀膜挂载结构及方法。
[0005]为了解决上述技术问题，本专利技术解决其技术问题所采用的技术方案是：
[0006]一种真空镀膜挂载方法，包括：
[0007]将挂架设置在真空镀膜设备中，所述挂架包括旋转杆，所述旋转杆垂直设置于真空镀膜设备中，在旋转杆上设置有治具，将筒状工件设置于治具上，使得该旋转杆穿设在筒状工件上；
[0008]所述治具包括治具底座，所述治具底座套设在旋转杆上，所述治具底座上设置的支撑杆对筒状工件进行支撑，使得该筒状工件上的通孔呈竖直方向设置；
[0009]将治具以及筒状工件依次逐个堆叠在旋转杆上，对固定在所述挂架上的所述筒状工件进行真空镀膜处理。
[0010]进一步的，对固定在所述挂架上的所述筒状工件进行真空镀膜处理，包括：
[0011]所述旋转杆带动治具以及治具上的筒状工件转动，用以对筒状工件的内外进行均匀真空镀膜处理。
[0012]进一步的，所述旋转杆进行间歇性或者持续性的旋转，带动旋转杆上的治具以及筒状工件发生轻微震动，用以抖落筒状工件在进行真空镀膜时粘连的离子灰。
[0013]进一步的，相邻两筒状工件之间的间距为该筒状工件厚度的0.5
‑
5倍。
[0014]进一步的，所述真空镀膜处理包括：
[0015]将固定在所述治具上的所述筒状工件放置入真空区域内；
[0016]在真空区域内充入反应气体；
[0017]对所述筒状工件施加电流；
[0018]对反应原料施加电流，使得所述反应原料形成带电粒子轰击所述筒状工件表面并在所述筒状工件表面沉积形成镀膜层。
[0019]进一步的，所述治具底座上均匀设置有多个支撑杆，多个支撑杆对筒状工件上的阶梯槽、孔位以及底面进行抵接，在筒状工件的重力作用下支撑杆对筒状工件上的阶梯槽、孔位以及底面进行卡紧。
[0020]本专利技术还包括一种真空镀膜挂载结构，包括挂架，所述挂架包括旋转杆，所述旋转杆垂直设置于真空镀膜设备的镀膜腔内，所述旋转杆上设置有用于放置筒状工件的治具，所述治具包括治具底座，所述治具底座上设置有治具孔，所述旋转杆穿设在所述治具孔上，所述治具底座上设置有支撑杆，所述支撑杆用于对筒状工件进行支撑使得该筒状工件上的通孔呈竖直方向设置。
[0021]进一步的，所述支撑杆包括第一杆和第二杆，所述第一杆与第二杆连接呈钝角结构设置，所述第一杆设置在所述治具底座的侧面上，所述第二杆的自由端与所述筒状工件上的阶梯槽、孔位以及底面抵接。
[0022]进一步的，所述治具底座包括本体，所述本体顶部设置有安装筒体，所述本体的底部设置有定位筒体，所述定位筒体的外径小于等于所述安装筒体的内径，当治具底座在旋转杆上堆叠时位于上方的本体的定位筒体穿设在位于下方的安装筒体上。
[0023]进一步的，所述第二杆为具有一定弹性金属或者非金属材料制成，将筒状工件放置在第二杆上，在其重力的作用下多个第二杆相对于第一杆相对转动，使得多个第二杆的自由端对筒状工件进行张紧定位。
[0024]本专利技术的有益效果：
[0025]本专利技术的支撑杆对筒状工件进行支撑使得该筒状工件上的通孔呈竖直方向设置，使得筒状工件的通孔以及其上的通孔均为上下方向设置，可完全避免真空镀膜时产生的离子灰沉积，有效避免传统挂架挂装的方式导致筒状工件横向放置，其朝上的顶面面积大更加容易积灰的问题；同时横向设置的孔位的落灰会在孔位的底面上进行沉积，采用呈竖直方向设置，不仅减小了工件朝上的顶面面积小，同时原本沉积在孔位的底面的离子灰会从通孔或者孔位穿下去，不会造成孔位沉积，有效保证真空镀膜质量。
附图说明
[0026]图1是本专利技术的一种真空镀膜挂载结构示意图。
[0027]图中标号说明：1、挂架；2、筒状工件；3、旋转杆；4、治具；41、治具底座；42、安装筒体；43、定位筒体；5、支撑杆；51、第一杆；52、第二杆。
具体实施方式
[0028]下面结合附图和具体实施例对本专利技术作进一步说明，以使本领域的技术人员可以更好地理解本专利技术并能予以实施，但所举实施例不作为对本专利技术的限定。
[0029]参照图1所示，一种真空镀膜挂载方法，包括：
[0030]将挂架设置在真空镀膜设备中，所述挂架包括旋转杆，所述旋转杆垂直设置于真空镀膜设备中，在旋转杆上设置有治具，将筒状工件设置于治具上，使得该旋转杆穿设在筒状工件上；
[0031]所述治具包括治具底座，所述治具底座套设在旋转杆上，所述治具底座上设置的支撑杆对筒状工件进行支撑，使得该筒状工件上的通孔呈竖直方向设置；
[0032]将治具以及筒状工件依次逐个堆叠在旋转杆上，对固定在所述挂架上的所述筒状工件进行真空镀膜处理。
[0033]本专利技术的支撑杆对筒状工件进行支撑使得该筒状工件上的通孔呈竖直方向设置，使得筒状工件的通孔以及其上的通孔均为上下方向设置，可完全避免真空镀膜时产生的离子灰沉积，有效避免传统挂架挂装的方式导致筒状工件横向放置，其朝上的顶面面积大更加容易积灰的问题；同时横向设置的孔位的落灰会在孔位的底面上进行沉积，采用呈竖直方向设置，不仅减小了工件朝上的顶面面积小，同时原本沉积在孔位的底面的离子灰会从通孔或者孔位穿下去，不会造成孔位沉积，有效保证真空镀膜质量。
[0034]进一步的，对固定在所述挂架上的所述筒状工件进行真空镀膜处理，包括：
[0035]所述旋转杆带动治具以及治具上的筒状工件转动，用以对筒状工件的内外进行均匀真空镀膜处理。
[0036]具体的，旋转杆带动治具以及治具上的筒状工件转动，从而完成对筒状工件各个角度的真空镀膜，在旋转的过程中灵活对筒状工件表面进行真空镀膜，以达到均匀真空镀膜的效果，灵活性能优，自动化程度高。
[0037]进一步的，所述旋转杆进行间歇性或者持续性的旋转，带动旋转杆上的治具以及筒状工件发生轻微震动，用以抖落筒状工件在进行真空镀膜时粘连的离子灰本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种真空镀膜挂载方法，其特征在于，包括：将挂架设置在真空镀膜设备中，所述挂架包括旋转杆，所述旋转杆垂直设置于真空镀膜设备中，在旋转杆上设置有治具，将筒状工件设置于治具上，使得该旋转杆穿设在筒状工件上；所述治具包括治具底座，所述治具底座套设在旋转杆上，所述治具底座上设置的支撑杆对筒状工件进行支撑，使得该筒状工件上的通孔呈竖直方向设置；将治具以及筒状工件依次逐个堆叠在旋转杆上，对固定在所述挂架上的所述筒状工件进行真空镀膜处理。2.如权利要求1所述的真空镀膜挂载方法，其特征在于，对固定在所述挂架上的所述筒状工件进行真空镀膜处理，包括：所述旋转杆带动治具以及治具上的筒状工件转动，用以对筒状工件的内外进行均匀真空镀膜处理。3.如权利要求1所述的真空镀膜挂载方法，其特征在于，所述旋转杆进行间歇性或者持续性的旋转，带动旋转杆上的治具以及筒状工件发生轻微震动，用以抖落筒状工件在进行真空镀膜时粘连的离子灰。4.如权利要求1所述的真空镀膜挂载方法，其特征在于，相邻两筒状工件之间的间距为该筒状工件厚度的0.5
‑
5倍。5.如权利要求1所述的真空镀膜挂载方法，其特征在于，所述真空镀膜处理包括：将固定在所述治具上的所述筒状工件放置入真空区域内；在真空区域内充入反应气体；对所述筒状工件施加电流；对反应原料施加电流，使得所述反应原料形成带电粒子轰击所述筒状工件表面并在所述筒状工件表面沉积形成镀膜层。6.如权利要求1所述的真空...

【专利技术属性】
技术研发人员：万子剑云，李吉庆，徐少宁，
申请(专利权)人：合生涂层科技苏州有限公司，
类型：发明
国别省市：