一种版图拆分方法、装置、计算机可读介质及设备制造方法及图纸

本发明专利技术涉及集成电路掩模拆分技术领域，特别涉及一种版图拆分方法、装置、计算机可读介质及设备。所述版图拆分方法包括以下步骤：获取初始版图，根据预设规则将初始版图划分多个初始单元；基于预设标准将初始单元分类为大单元或小单元；对大单元进行再划分处理，获得子单元；对所述小单元及子单元进行运算并输出拆分版图。通过对面积较大、图像复杂的初始版图进行多次划分，将其划分为较小的运算单元再对所述运算单元进行运算，从而可以有效提高计算资源的利用率且有效降低运算时间。资源的利用率且有效降低运算时间。资源的利用率且有效降低运算时间。

【技术实现步骤摘要】
一种版图拆分方法、装置、计算机可读介质及设备


[0001]本专利技术涉及集成电路掩模拆分
，特别涉及一种版图拆分方法、装置、计算机可读介质及设备。

技术介绍

[0002]随着集成电路制造技术的发展，版图图形特征尺寸不断缩小，设计图形的复杂程度不断提高，晶体管数量也在相同的面积内极大地增加。但是光刻的分辨率有极限值，在光学系统的不完善性以及衍射效应下，掩模上的图形与光刻胶上的图形不完全一致，不仅会影响电路的电学性能，甚至会导致功能的失效。
[0003]为了解决这个问题，通常采用双层掩模版技术，即DPT(double pattern technology)，即将原来的原始掩模版图一分为二，这样拆分出的版图上就不会出现最小间距问题，就避免了光刻机单次曝光的极限的瑕疵问题，从而保证图形转移的质量。
[0004]在光学邻近校正过程中，将设计版图一分为二的过程是关键的一步，拆分结果的好坏对最终的结果有很大的影响。由于拆分时要计算图形间的空间关系，所以需要大量的计算过程。现有的DPT拆分技术由于版图图形密集，导致运算非常占用资源本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种版图拆分方法，其特征在于：所述版图拆分方法包括以下步骤：获取初始版图，根据预设规则将初始版图划分多个初始单元；基于预设标准将初始单元分类为大单元或小单元；对大单元进行再划分处理，获得子单元；对所述小单元及子单元进行运算并输出拆分版图。2.如权利要求1所述的版图拆分方法，其特征在于：根据预设规则将初始版图划分多个初始单元包括以下步骤：扫描初始版图以获取图形空间关系，图形关系包括图形间距；将图形间距小于预设值的相邻图形划分到同一初始单元。3.如权利要求1所述的版图拆分方法，其特征在于：将图形数目和/或单元面积超过预设数值的所述初始单元定义为大单元，反之则定义为小单元。4.如权利要求1所述的版图拆分方法，其特征在于：对所述大单元进行再划分前，建立所述大单元内图形间的相互关系。5.如权利要求4所述的版图拆分方法，其特征在于：建立大单元内图形间的相互关系包括以下步骤：获取大单元内图形的空间关系；根据预设规则对图形做冲突或不冲突标识。6.如权利要求1所述的版图拆分方法，其特征在于：对大单元进行再划分...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘思，张逸中，陈钊，
申请(专利权)人：东方晶源微电子科技上海有限公司，
类型：发明
国别省市：