包含有机金属化合物及聚硅氧烷共聚物的感光性组成物及制备该感光性组成物的方法技术

本发明专利技术提供一种感光性组成物，其包含有机金属化合物及聚硅氧烷的共聚物，可用于显示器或半导体的感光性材料；及提供一种制备该感光性组成物的方法。性组成物的方法。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】包含有机金属化合物及聚硅氧烷共聚物的感光性组成物及制备该感光性组成物的方法


[0001]本专利技术涉及一种包含有机金属化合物及聚硅氧烷共聚物的感光性组成物及制备该感光性组成物的方法，更具体而言，涉及一种包含有机金属化合物及聚硅氧烷的共聚物的感光性组成物，其可用于显示器或半导体的感光性材料，及涉及制备该感光性组成物的方法。

技术介绍

[0002]已近年来，在诸如显示器、发光二极体、及太阳电池的光学元件中，为了改进新光的利用效率及节省能源，已提出各种提案。例如，在液晶显示器，已知一种方法，藉由在薄膜电晶体(TFT)元件上涂覆并形成透明的平坦化膜，并在此平坦化膜上形成画素电极，而提高显示装置的开口率。此外，有提出一种藉由使有机EL装置的构成类似于液晶显示器而提高开口率的方法，藉由从在基板上形成的透明像素电极上沉积发光层并从基板侧(底部发射)并取出发光的方法至涂布在TFT元件上的平坦化膜上形成透明像素电极，在其上形成发光层并从TFT元件的相反侧取出发光(顶部发光)的方法。
[0003]此外，随着显示器的更高解析度/更大尺寸、更高影像质量/3D显示等，布线上的信号延迟成为问题。尽管由于影像信息重写速度(框频)的加快而缩短输入信号至TFT，由于对更高的解析度的需求，为了降低布线电阻，对于布线宽度的延长有限制。为此，已经提出藉由增加布线厚度来解决信号延迟的问题。
[0004]作为此种TFT基板用平坦化膜的材料，已知丙烯酸酯树脂和醌二迭氮(醌diazide)化合物的组合材料。然而，此等材料在200℃以上的高温下虽不会使材料性质急剧劣化，但在230℃以上时有逐渐开始分解且透明薄膜因膜厚变薄或基板的高温处理而着色造成透射率降低的问题。特别是不能用于使用诸如PE
‑
CVD的装置在高温下于透明薄膜材料上成膜的制程中。此外，在有机EL装置中，由于分解产物对有机EL装置的发光效率和寿命有不利影响，因此不能说丙烯酸系材料是用于高温制程或受杂质影响的装置的最理想材料。此外，赋予耐热性的丙烯酸系材料通常具有高介电常数。为此，随着绝缘薄膜的寄生电容增加，功率消耗增加，或液晶元件驱动信号延迟等，而导致影像质量的质量问题。即使在介电常数大的绝缘材料中，例如，藉由增加薄膜厚度可降低电容，但此通常藉由狭缝涂布法等在大型玻璃基版上难以形成具有例如5微米以上的薄膜厚度的均匀涂膜，且增加薄膜厚度并不是优选的因为材料的使用量也会增加。
[0005]已知聚硅氧烷为具有高耐热性及高透明性的材料。聚硅氧烷是由三官能硅氧烷结构单元(RSiO
1.5
)所组成的聚合物，是介于无机二氧化硅(SiO2)和有机硅(R2SiO)之间的化学结构中间体，但是一种可溶于有机溶剂并作为固化物显示无机二氧化硅的高耐热性的特殊化合物。此外，与有机聚合物相比，具有硅氧烷骨架的聚合物一般具有较低介电常数且被期待作为低介电透明绝缘薄膜。
[0006]另一方面，在光学装置诸如有机EL(电致发光)装置、量子点显示器、TFT(薄膜电晶
体)阵列、及薄膜太阳电池的制造中，作为实现图案的方法之一，已有使用喷墨头形成具有点的有机层(诸如发光层)的喷墨(IJ)法。
[0007]喷墨(IJ)法由于其为不使用基板的印刷方法因而具有优点如可降低用于制造基板的成本，且由于材料仅使用于必要部分的所需量，因此可以降低材料成本。
[0008]在此喷墨法中，藉由将含有有机层材料的印墨注入到由隔壁包围的隔室(下文中，也称为“孔”)中，并干燥及/或加热该印墨而形成所欲图案的点。
[0009]当藉由喷墨法印刷图案时，为了防止相邻点之间的印墨混合且在点形成时均匀涂布印墨，沿着点的轮廓形成的隔壁的上表面需要具有拨墨性(ink repellency)。于此目的，使用含有拨墨剂的感光性树脂组成物，藉由光蚀刻法形成与点的图案对应的隔壁。
[0010]此外，聚硅氧烷具有优异的耐热性、透明性、化学稳定性等，因而被应用于印刷电路板材料、窗覆面膜材料、感光性材料等。尤其，聚硅氧烷作为感光性材料，在可挠性、透明性、感光性、耐久性等展现优异的物性。然而，由于当以含有此种聚硅氧烷的涂布液形成图案时，相对于基板表面出现大锥角和陡峭的倾角，因此难以实现隔壁材料(像素界定层)等的OLED材料所需的低锥角和平缓的圆形倾角。此外，将其应用于当形成诸如黑色柱状间隔物的图案需要不同高度的制程时，存有限制。

技术实现思路

[0011]本技术问题
[0012]为了解决上述问题，本专利技术提供一种感光性组成物，包括有机金属化合物及聚硅氧烷的共聚物，该感光性组成物可用于显示器或半导体的感光性材料；及提供一种制备该感光性组成物的方法。
[0013]技术的解决手段
[0014]为了解决上述问题，本专利技术提供一种感光性组成物，其包含具有下式1的结构的共聚物:
[0015][式1][0016][0017]其中:R1及R2各自为C1
‑
C20脂族烃、C3
‑
C20芳族烃、含有N、O、S及F的C4
‑
C20芳族烃、含有醚基的C1
‑
C8脂族烃、含有醚基的C1
‑
C8芳族烃、羟基(
‑
OH)、或醚基(
‑
O
‑
)；X为硅(Si)、钛(Ti)、锗(Ge)、锆(Zr)、锡(Sn)、铅(Pb)、铋(Bi)、锑(Sb)、碲(Te)、铪(Hf)、铟(In)、或铝(Al)；Y为羰基(
‑
COO
‑
)、磺酰基(
‑
SO2‑
)、磷酸基(
‑
PO3‑
)、或与相邻的硅烷醇键结的醚基；m为1至100的整数；及n为1至100的整数。
[0018]在一具体实施例中，该共聚物可包括下式2的结构及下式3的结构:
[0019][式2][0020][0021]其中:R1及R2各自为C1
‑
C20脂族烃、C3
‑
C20芳族烃、含有N、O、S及F的C4
‑
C20芳族烃、含有醚基的C1
‑
C8脂族烃、含有醚基的C1
‑
C8芳族烃、羟基(
‑
OH)、或醚基(
‑
O
‑
)；Y为羰基(
‑
COO
‑
)、磺酰基(
‑
SO2‑
)、磷酸基(
‑
PO3‑
)、或与相邻的硅烷醇键结的醚基；m为1至100的整数；及n为1至100的整数。
[0022][式3][0023][0024]其中:R3及R4各自为C1
‑
C20脂族烃、C3
‑
C20芳族烃、含有N、O、S及F的C4
‑
C20芳族烃、含有醚基的C1
‑
C8脂族烃、含有醚基的C1
‑
C8芳族烃、羟基(
‑
...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种感光性组成物，其包含具有下式1的结构的共聚物:[式1]其中:R1及R2各自为C1
‑
C20脂族烃、C3
‑
C20芳族烃、含有N、O、S及F的C4
‑
C20芳族烃、含有醚基的C1
‑
C8脂族烃、含有醚基的C1
‑
C8芳族烃、羟基(
‑
OH)、或醚基(
‑
O
‑
)；X为硅(Si)、钛(Ti)、锗(Ge)、锆(Zr)、锡(Sn)、铅(Pb)、铋(Bi)、锑(Sb)、碲(Te)、铪(Hf)、铟(In)、或铝(Al)；Y为羰基(
‑
COO
‑
)、磺酰基(
‑
SO2‑
)、磷酸基(
‑
PO3‑
)、或与相邻的硅烷醇键结的醚基；m为1至100的整数；及n为1至100的整数。2.根据权利要求1的感光性组成物，其中，所述共聚物包括下式2的结构及下式3的结构:[式2]其中:R1及R2各自为C1
‑
C20脂族烃、C3
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C20芳族烃、含有N、O、S及F的C4
‑
C20芳族烃、含有醚基的C1
‑
C8脂族烃、含有醚基的C1
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C8芳族烃、羟基(
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OH)、或醚基(
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O
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)；Y为羰基(
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COO
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)、磺酰基(
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SO2‑
)、磷酸基(
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PO3‑
)、或与相邻的硅烷醇键结的醚基；m为1至100的整数；及n为1至100的整数；[式3]其中:
R3及R4各自为C1
‑
C20脂族烃、C3
‑
C20芳族烃、含有N、O、S及F的C4
‑
C20芳族烃、含有醚基的C1
‑
C8脂族烃、含有醚基的C1
‑
C8芳族烃、羟基(
‑
OH)、或醚基(
‑
O
‑
)；Z为钛(Ti)、锗(Ge)、锆(Zr)、锡(Sn)、铅(Pb)、铋(Bi)、锑(Sb)、碲(Te)、铪(Hf)、铟(In)、或铝(Al)；Y为羰基(
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COO
‑
)、磺酰基(
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SO2‑
)、磷酸基(
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PO3‑
)、或与相邻的硅烷醇键结的醚基；m为1至100的整数；及n为1至100的整数。3.根据权利要求1的感光性组成物，其中，所述共聚物包括下式4或5的结构:[式4]其中:R1为C1
‑
C20脂族烃、C3
‑
C20芳族烃、含有N、O、S及F的C4
‑
C20芳族烃、含有醚基的C1
‑
C8脂族烃、含有醚基的C1
‑
C8芳族烃、或羟基(
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【专利技术属性】
技术研发人员：车爀镇，李应瓒，金根洙，
申请(专利权)人：胡网加成股份有限公司，
类型：发明
国别省市：