一种多晶硅冷氢化反应器气流分布板制造技术

本实用新型专利技术公开了一种多晶硅冷氢化反应器气流分布板，包括分布组件，所述分布组件设置有第一圆板、第二圆板，所述第一圆板、第二圆板之间设置有固定环板；所述第一圆板、第二圆板之间设置有腔体，所述第一圆板上开设有多组第一分布孔，所述第二圆板上开设有多组第二分布孔，所述第一分布孔与第二分布孔错开设置，所述腔体中还设置有多组分散组件，所述分散组件设置在第二圆板上，多组所述分散组件与多组第一分布孔位置匹配；本实用新型专利技术的有益效果是：通过上述设置的第一分布孔、第二分布孔的错开设置，可以增加流体的流动路径和速度变化，进一步提高分散的效果，以便于流体得到更加均匀地分布效果。加均匀地分布效果。加均匀地分布效果。

【技术实现步骤摘要】
一种多晶硅冷氢化反应器气流分布板


[0001]本技术涉及一种多晶硅冷氢化反应器气流分布板。

技术介绍

[0002]多晶硅冷氢化反应器是用于制备太阳能电池用的硅材料的设备之一。该反应器主要由反应器本体、加热炉、氢气输送装置、尾气处理装置、温度测量及控制装置等组成。其工作原理是将硅粉末与氢气在高温高压的条件下进行反应，生成氢化硅物质，从而制备出高纯度、高结晶度的多晶硅块。相比传统的氯化法，多晶硅冷氢化反应器制备的硅材料更为环保，能够降低废气排放量，同时也能够提高硅材料的制备效率和质量。
[0003]现有技术中在多晶硅冷氢化反应器中，冷氢化反应器中进入的气体分布不均匀，使得进入的气体进入至冷氢化反应器中时不能很好地与其他的物质接触，会对生产的效率造成影响，鉴于此，本技术提出了一种多晶硅冷氢化反应器气流分布板，以解决上述问题。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种多晶硅冷氢化反应器气流分布板，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0005]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：
[0006]一种多晶硅冷氢化反应器气流分布板，包括分布组件，所述分布组件设置有第一圆板、第二圆板，所述第一圆板、第二圆板之间设置有固定环板；
[0007]所述第一圆板、第二圆板之间设置有腔体，所述第一圆板上开设有多组第一分布孔，所述第二圆板上开设有多组第二分布孔，所述第一分布孔与第二分布孔错开设置，所述腔体中还设置有多组分散组件，所述分散组件设置在第二圆板上，多组所述分散组件与多组第一分布孔位置匹配。
[0008]作为上述技术方案的改进，所述分散组件包括安装板，所述安装板与第二圆板连接，使得分散组件定位在腔体中。
[0009]作为上述技术方案的改进，所述安装板上设置有安装杆，所述安装杆的外壁转动套设有套管；
[0010]所述套管上设置有多组叶片，多组所述叶片以套管轴心呈环形阵列设置。
[0011]作为上述技术方案的改进，所述安装杆、套管以及第一分布孔同轴设置。
[0012]作为上述技术方案的改进，所述安装杆远离安装板的一端设置有限位板，所述安装杆的外壁上还固定套设有限位环，所述套管设置在限位板、限位环之间。
[0013]作为上述技术方案的改进，所述限位板上设置有锥形部，所述锥形部朝向第一分布孔的方向设置。
[0014]作为上述技术方案的改进，所述叶片设置有第一接触面、第二接触面，所述第一接触面的长度小于第二接触面的长度，所述第一接触面的宽度与第二接触面的宽度相同。
[0015]作为上述技术方案的改进，所述叶片旋转产生直径小于第一分布孔的直径，所述第一分布孔、第二分布孔的直径相同。
[0016]与现有技术相比，本技术的有益效果是：
[0017]在进行使用时，流体先与第一圆板接触，并通过多第一分布孔进入至腔体中，而当流体通过第一分布孔时，与分散组件接触，通过分散组件使得流体快速地分布在腔体中，之后流体通过第二分布孔流出即可；
[0018]通过上述设置的第一分布孔、第二分布孔的错开设置，可以增加流体的流动路径和速度变化，进一步提高分散的效果，以便于流体得到更加均匀地分布效果，而当流体通过第一分布孔与分散组件接触时，通过分散组件能使得流体快速地分布在腔体中以便更加均匀地分布，同时通过第一分布孔第二分布孔的错开设置，能降低流体的速度，便于流体与其他流体进行充分的混合。
附图说明
[0019]图1为本技术结构示意图；
[0020]图2为本技术图1中A
‑
A的剖视图；
[0021]图3为本技术第一圆板的结构示意图；
[0022]图4为本技术图3中B处的放大结构示意图；
[0023]图5为本技术分散组件的结构示意图；
[0024]图6为本技术安装板、安装杆的连接示意图。
[0025]图中：10、分布组件；11、固定环板；12、第一圆板；13、第二圆板；14、腔体；20、分散组件；21、限位板；211、锥形部；22、叶片；221、第一接触面；222、第二接触面；23、套管；24、安装板；25、安装杆；26、限位环；30、第一分布孔；40、第二分布孔。
具体实施方式
[0026]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0027]实施例：
[0028]如图1
‑
6所示，本实施例提出了一种多晶硅冷氢化反应器气流分布板，包括分布组件10，所述分布组件10设置有第一圆板12、第二圆板13，所述第一圆板12、第二圆板13之间设置有固定环板11；
[0029]所述第一圆板12、第二圆板13之间设置有腔体14，所述第一圆板12上开设有多组第一分布孔30，所述第二圆板13上开设有多组第二分布孔40，所述第一分布孔30与第二分布孔40错开设置，所述腔体14中还设置有多组分散组件20，所述分散组件20设置在第二圆板13上，多组所述分散组件20与多组第一分布孔30位置匹配。
[0030]本实施例中，在进行使用时，流体先与第一圆板12接触，并通过多第一分布孔30进入至腔体14中，而当流体通过第一分布孔30时，与分散组件20接触，通过分散组件20使得流体快速地分布在腔体14中，之后流体通过第二分布孔40流出即可；
[0031]通过上述设置的第一分布孔30、第二分布孔40的错开设置，可以增加流体的流动路径和速度变化，进一步提高分散的效果，以便于流体得到更加均匀地分布效果，而当流体通过第一分布孔30与分散组件20接触时，通过分散组件20能使得流体快速地分布在腔体14中以便更加均匀地分布，同时通过第一分布孔30第二分布孔40的错开设置，能降低流体的速度，便于流体与其他流体进行充分的混合。
[0032]本案中，该分布板安装在冷氢化反应器内部，流体为多晶硅冷氢化反应器中的气体。
[0033]具体的，所述分散组件20包括安装板24，所述安装板24与第二圆板13连接，使得分散组件20定位在腔体14中。
[0034]本实施例中，安装板24与第二圆板13的固定方式优选的采用可拆卸连接，以便于后期进行维护。
[0035]具体的，所述安装板24上设置有安装杆25，所述安装杆25的外壁转动套设有套管23；
[0036]所述套管23上设置有多组叶片22，多组所述叶片22以套管23轴心呈环形阵列设置。
[0037]本实施例中，当流体通过第一分布孔30时，流体朝向叶片22冲击，使得多组叶片22进行旋转，产生分切，从而能便于流体快速分布在腔体14中。
[0038]具体的，所述安装杆25、套管23以及第一分布孔30同轴本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种多晶硅冷氢化反应器气流分布板，其特征在于：包括分布组件（10），所述分布组件（10）设置有第一圆板（12）、第二圆板（13），所述第一圆板（12）、第二圆板（13）之间设置有固定环板（11）；所述第一圆板（12）、第二圆板（13）之间设置有腔体（14），所述第一圆板（12）上开设有多组第一分布孔（30），所述第二圆板（13）上开设有多组第二分布孔（40），所述第一分布孔（30）与第二分布孔（40）错开设置，所述腔体（14）中还设置有多组分散组件（20），所述分散组件（20）设置在第二圆板（13）上，多组所述分散组件（20）与多组第一分布孔（30）位置匹配。2.根据权利要求1所述的一种多晶硅冷氢化反应器气流分布板，其特征在于：所述分散组件（20）包括安装板（24），所述安装板（24）与第二圆板（13）连接，使得分散组件（20）定位在腔体（14）中。3.根据权利要求2所述的一种多晶硅冷氢化反应器气流分布板，其特征在于：所述安装板（24）上设置有安装杆（25），所述安装杆（25）的外壁转动套设有套管（23）；所述套管（23）上设置有多组叶片（22），多组所述叶片（22）以套管（23）轴心呈环形阵...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄文，张小辉，邱梅唤，王玉淳，张秀虎，
申请(专利权)人：南京诚一工业技术有限公司，
类型：新型
国别省市：