半导体清洗栏制造技术

技术编号:39096902 阅读:10 留言:0更新日期:2023-10-17 10:51
本实用新型专利技术属于半导体清洗领域,特别涉及一种半导体清洗栏,它解决了手动捡运半导体清洗作业效率低的问题。本半导体清洗栏,包括底盘,所述的底盘外围设有侧围板,所述的侧围板上设有导液结构,所述的底盘和侧围板之间设有能够防止底盘上半导体通过导液结构脱离底盘的隔离结构,所述的底盘、侧围板和隔离结构均为聚四氟乙烯材料制成。实现了可自动传送半导体,节省人力,更加高效的效果。更加高效的效果。更加高效的效果。

【技术实现步骤摘要】
半导体清洗栏


[0001]本技术属于半导体清洗领域,特别涉及一种半导体清洗栏。

技术介绍

[0002]中国半导体市场广大,清洗设备在这里有很好的发展前景。长期以来,全球清洗设备市场都被迪恩士(SCREEN)、TEL、LAM与细美事把持着,这四家公司合计市场占有率达到90%以上,其中,迪恩士市场份额最高,超过50%。2014年后,国内龙头盛美公司也进入该领域,通过近10年的发展目前占有20%左右的市场份额。半导体部件清洗步骤需要100

200次,占生产过程的30%。传统的办法是通过人工捡运的办法,效率低。
[0003]聚四氟乙烯具有耐高低温性、耐辐照、耐化学稳定性、有机碳析出低等特性,可适用于各种严苟工况。

技术实现思路

[0004]本技术的目的是针对现有技术存在的上述问题,提出了一种有利于提高清洗作业效率的半导体清洗栏。
[0005]为了实现创新本技术的目的可通过下列技术方案来实现:一种半导体清洗栏,包括底盘,所述的底盘外围设有侧围板,所述的侧围板上设有导液结构,所述的底盘和侧围板之间设有能够防止底盘上半导体通过导液结构脱离底盘的隔离结构,所述的底盘、侧围板和隔离结构均为聚四氟乙烯材料制成。
[0006]具体而言,聚四氟乙烯材料可以耐HF及常用的酸碱和有机溶剂,同时具有不粘性,可将液体迅速导出,此外,聚四氟乙烯是金属和有机物渗出极低的物质,可以极大的降低颗粒物和有机物对半导体加工过程的不良影响,提高制品良率。底盘用于承载待清洗半导体,整体浸入清洗液中或通过喷淋方式实现对半导体的清洗,导液结构可便于清洗液进入或排出侧围板,隔离结构可防止半导体掉出。
[0007]在上述的半导体清洗栏中,所述的导液结构包括设置在侧围板上的若干沿圆周方向上分布且竖向和横向贯穿侧围板的通孔。
[0008]通孔竖向和横向贯穿侧围板,具有更好的进液或排液效果。
[0009]在上述的半导体清洗栏中,所述的导液结构包括设置在侧围板上的两组沿着圆周方向上分布的导液孔组。
[0010]两组导液孔组孔径大小不同,周向分布在圆周方向上,具有更均匀且更迅速的进液或排液效果。
[0011]在上述的半导体清洗栏中,所述的导液孔组包括若干沿圆周方向上分布且竖向和横向贯穿侧围板的通孔,若干通孔依次沿顺时针方向上分布的角度为8
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[0012]在上述的半导体清洗栏中,述的侧围板上端外侧设有环形加强沿,所述的通孔竖向穿设环形加强沿,所述的环形加强沿与侧围板连为一体式结构。
[0013]加强沿可提高结构强度,通孔贯穿加强沿,不影响进液或排液。
[0014]在上述的半导体清洗栏中,所述侧围板的高度与环形加强沿的厚度、底盘的厚度之比为46:19:5。
[0015]在上述的半导体清洗栏中,所述的隔离结构包括设置在侧围板与底盘之间的环形台阶。
[0016]环形台阶高于底盘,相当于通孔与底盘之间设置有阻挡,避免了半导体从通孔中掉出。
[0017]在上述的半导体清洗栏中,所述的环形台阶与侧围板和底盘连为一体式结构。
[0018]一体结构具有更好的结构强度。
[0019]在上述的半导体清洗栏中,所述的通孔孔径不同且大小间隔分布。
[0020]通孔大小间隔分布,使得进液、排液更加均匀。
[0021]在上述的半导体清洗栏中,所述的环形加强沿内径与环形加强沿外径以及侧围板内径之比为299:319:350。
[0022]与现有技术相比:
[0023]1.本技术半导体清洗栏由聚四氟乙烯制成,可以耐HF及常用的酸碱和有机溶剂,且在吹干过程中由于四氟的不粘性,可以将液体迅速导出,此外,聚四氟乙烯是氟材料中金属和有机物渗出极低的物质,可以极大的降低颗粒物和有机物对半导体加工过程的不良影响,提高制品良率。
[0024]2.本技术半导体清洗栏在底盘和通孔之间设置有环形台阶,可避免半导体从通孔中掉出。
[0025]3.本技术半导体清洗栏的通孔孔径不同且大小间隔分布,使得进液、排液更加迅速且均匀。
附图说明
[0026]图1是本技术半导体清洗栏的上视示意图;
[0027]图2是本技术半导体清洗栏的底视示意图;
[0028]图3是图2中A位置的细节放大图;
[0029]图4是本技术半导体清洗栏的侧视示意图;
[0030]图5是本技术半导体清洗栏的剖视图。
[0031]图中,底盘1、侧围板2、导液结构3、导液孔组31、通孔32、隔离结构4、环形台阶41、环形加强沿5
具体实施方式
[0032]以下是本技术的具体实施例并结合附图,对本技术的技术方案作进一步的描述,但本技术并不限于这些实施例。
[0033]具体实施例如图1

5所示,本半导体清洗栏,包括底盘1,底盘1外围设有侧围板2,侧围板2上设有导液结构3,底盘1和侧围板2之间设有能够防止底盘1上半导体通过导液结构3脱离底盘1的隔离结构4,底盘1、侧围板2和隔离结构4均为聚四氟乙烯材料制成。
[0034]具体而言,聚四氟乙烯材料可以耐氟化氢及常用的酸碱和有机溶剂,同时具有不
粘性,可将液体迅速导出,此外,聚四氟乙烯是金属和有机物渗出极低的物质,可以极大的降低颗粒物和有机物对半导体加工过程的不良影响,提高制品良率。底盘1用于承载待清洗半导体,整体浸入清洗液中或通过喷淋方式实现对半导体的清洗,导液结构3可便于清洗液进入或排出侧围板2,隔离结构4可防止半导体掉出。
[0035]如图1

4所示,导液结构3包括设置在侧围板2上的两组沿着圆周方向上分布的导液孔组31,导液孔组31包括若干沿圆周方向上分布且竖向和横向贯穿侧围板2的通孔32,通孔32孔径不同且大小间隔分布。
[0036]具体而言,两组导液孔组31孔径大小不同,周向分布在圆周方向上,具有更快且更均匀的进液或排液效果,避免对底盘上的半导体产生过大的冲击使其过度漂动。
[0037]作为结构上的优化,若干通孔32依次沿顺时针方向上分布的角度为8
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种半导体清洗栏,其特征在于,包括底盘(1),所述的底盘(1)外围设有侧围板(2),所述的侧围板(2)上设有导液结构(3),所述的底盘(1)和侧围板(2)之间设有能够防止底盘(1)上半导体通过导液结构(3)脱离底盘(1)的隔离结构(4),所述的底盘(1)、侧围板(2)和隔离结构(4)均为聚四氟乙烯材料制成。2.根据权利要求1所述的半导体清洗栏,其特征在于,所述的导液结构(3)包括设置在侧围板(2)上的若干沿圆周方向上分布且竖向和横向贯穿侧围板(2)的通孔(32)。3.根据权利要求1所述的半导体清洗栏,其特征在于,所述的导液结构(3)包括设置在侧围板(2)上的两组沿着圆周方向上分布的导液孔组(31)。4.根据权利要求3所述的半导体清洗栏,其特征在于,所述的导液孔组(31)包括若干沿圆周方向上分布且竖向和横向贯穿侧围板(2)的通孔(32),若干通孔(32)依次沿顺时针方向上分布的角度为8
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【专利技术属性】
技术研发人员:夏晖
申请(专利权)人:浙江科赛新材料科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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