一种晶圆研磨生产中的虑砂设备制造技术

本发明专利技术涉及一种晶圆研磨生产中的虑砂设备，其包括：密封舱，其顶部设置有研磨砂输入口；滤砂机构，设置在密封舱内，位于研磨砂输入口下方，并由驱动机构带动滤砂机构进行转动，以对输入的研磨砂进行高效过滤；研磨砂回收机构，设置在密封舱内，位于滤砂机构的中部，用于接收经滤砂机构过滤后的研磨砂；清洗机构，设置在密封舱内，用于对滤砂机构进行清洗。本发明专利技术能实现研磨砂的回收，同时防止研磨砂的凝固，过滤杂质的排出，并能冲洗滤网防止滤网堵孔。孔。孔。

【技术实现步骤摘要】
一种晶圆研磨生产中的虑砂设备


[0001]本专利技术涉及一种半导体基材生产制造
，特别是关于一种晶圆研磨生产中的虑砂设备。

技术介绍

[0002]随着半导体行业的迅速发展，国内对晶圆的需求不断的增加；晶圆作为半导体的基材是不可或缺的一部分。晶圆制造工艺中最重要的一环是研磨工艺，目前在研磨过程中使用的介质主要为研磨砂，而且研磨砂主要依赖于进口。随着电子工业的迅猛发展，以单晶硅为衬底的IC集成度越来越高，单晶硅（晶圆）的研磨是保证衬底的平行度、平整度的基础，在研磨中研磨砂的性能是保证晶圆的质量与效率的基础，所有国内外对研磨砂性能的研究越来越受到广泛关注。
[0003]现有研磨砂的订购周期变长，价格一直上涨，对国内晶圆制造企业在成本、产能上都产生了很大影响。而且研磨砂的生产制作工艺复杂、难度大、产能低，目前国内涉及研磨砂研发、生产的厂家甚少。现有晶圆研磨中每次研磨后的研磨砂采用直排，废物处理，这样造成很大的浪费。

技术实现思路

[0004]针对上述问题，本专利技术的目的是提供一种晶圆研磨生产中的虑砂设备，其能实现研磨砂的回收，同时防止研磨砂的凝固，过滤杂质的排出，并能冲洗滤网防止滤网堵孔。
[0005]为实现上述目的，本专利技术采取以下技术方案：一种晶圆研磨生产中的虑砂设备，其包括：密封舱，其顶部设置有研磨砂输入口；滤砂机构，设置在密封舱内，位于研磨砂输入口下方，并由驱动机构带动滤砂机构进行转动，以对输入的研磨砂进行高效过滤；研磨砂回收机构，设置在密封舱内，位于滤砂机构的中部，用于接收经滤砂机构过滤后的研磨砂；清洗机构，设置在密封舱内，用于对滤砂机构进行清洗。
[0006]进一步，密封舱的顶部设置有顶舱盖，顶舱盖与密封舱的顶部之间为密封连接；研磨砂输入口设置在顶舱盖上。在密封舱的顶部还设置有液位计。
[0007]进一步，密封舱的两侧还分别设置有加强板，用于安装研磨砂回收机构、驱动机构和清洗机构。
[0008]进一步，滤砂机构包括主动轴、从动轴、同步带和滤网；主动轴和两根从动轴穿设在密封舱内，主动轴和从动轴的端部均穿设在密封舱的两侧加强板上，且主动轴与两根从动轴在加强板上呈三角形布置；主动轴的两端分别同轴设置有主动轮，每根从动轴的两端分别同轴设置有从动轮，且主动轮和从动轮均位于加强板的内侧壁处；并在每侧加强板的主动轮和两从动轮上设置有同步带，由同步带进行同步传动连接；位于两侧的同步带之间设置有滤网，滤网随同步带进行转动，将落入的研磨砂进行过滤。
[0009]进一步，主动轴位于从动轴下方，且两根从动轴位于同一水平线上，以保证运动至
顶部的滤网一直呈一水平面，该水平面位于研磨砂输入口的正下方。
[0010]进一步，研磨砂回收机构包括斜盘和过滤研磨砂排出口；斜盘设置在密封舱内，斜盘的两端位于同步带构成的三角形空间内，并固定在密封舱的侧壁上；斜盘位于滤网的正下方，用于承接经顶部滤网过滤后的研磨砂；位于密封舱的一侧侧壁上设置有与斜盘连通的过滤研磨砂排出口，通过过滤研磨砂排出口将斜盘内的研磨砂流出至外部的搅拌接砂桶。
[0011]进一步，斜盘的截面从呈V形结构，且由密封舱的一侧向设置有过滤研磨砂排出口的一侧倾斜。
[0012]进一步，清洗机构包括喷淋管和清洗滤网喷淋水输入口；喷淋管设置在密封舱内，喷淋管的两端位于同步带构成的三角形空间内，并固定在密封舱的侧壁上；喷淋管位于斜盘的下方，且喷淋管的一端与设置在密封舱1侧壁上的清洗滤网喷淋水输入口连通。
[0013]进一步，还包括杂质回收机构，杂质回收机构包括杂质排出口和回收桶；杂质排出口设置在密封舱的底部，回收桶位于杂质排出口的底部。
[0014]进一步，密封舱的下方设置有支撑框架。
[0015]本专利技术由于采取以上技术方案，其具有以下优点：1、本专利技术过滤研磨后的研磨砂，经过二次配比后可以再次使用，降低晶圆研磨生产的成本，提高研磨效率。
[0016]2、本专利技术能有效减少排污量，并能有效过滤杂质进行集中处理。
附图说明
[0017]图1是本专利技术实施例中晶圆研磨生产中的虑砂设备结构示意图；图2是本专利技术实施例中晶圆研磨生产中的虑砂设备分解结构示意图；附图标记：1、密封舱；2研磨砂输入口；3、顶舱盖；4、液位计；5、加强板；6、主动轴；7、从动轴；8、同步带；9、调速电机；10、斜盘；11、过滤研磨砂排出口；12、喷淋管；13、清洗滤网喷淋水输入口；14、杂质排出口；15、设备框架；16、福马轮。
具体实施方式
[0018]为使本专利技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本专利技术实施例的附图，对本专利技术实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本专利技术的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本专利技术的实施例，本领域普通技术人员所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0019]需要注意的是，这里所使用的术语仅是为了描述具体实施方式，而非意图限制根据本申请的示例性实施方式。如在这里所使用的，除非上下文另外明确指出，否则单数形式也意图包括复数形式，此外，还应当理解的是，当在本说明书中使用术语“包含”和/或“包括”时，其指明存在特征、步骤、操作、器件、组件和/或它们的组合。
[0020]为了解决现有晶圆研磨中每次研磨后的研磨砂采用直排，废物处理，造成很大的浪费问题，本专利技术提供一种晶圆研磨生产中的虑砂设备，其包括：密封舱，其顶部设置有研磨砂输入口；滤砂机构，设置在密封舱内，位于研磨砂输入口下方，并由驱动机构带动滤砂
机构进行转动，以对输入的研磨砂进行高效过滤；研磨砂回收机构，设置在密封舱内，位于滤砂机构的中部，用于接收经滤砂机构过滤后的研磨砂；清洗机构，设置在密封舱内，用于对滤砂机构进行清洗。本专利技术能实现研磨砂的回收，同时防止研磨砂的凝固，过滤杂质的排出，并能冲洗滤网防止滤网堵孔。
[0021]在本专利技术的一个实施例中，提供一种晶圆研磨生产中的虑砂设备。本实施例中，如图1、图2所示，该虑砂设备包括：密封舱1，采用透明材料制成，其顶部设置有研磨砂输入口2，用于将使用后（即研磨后）的研磨砂输入至密封舱1内；滤砂机构，设置在密封舱1内，位于研磨砂输入口2下方，并由驱动机构带动滤砂机构进行转动，以对输入的研磨砂进行高效过滤；研磨砂回收机构，设置在密封舱1内，位于滤砂机构的中部，用于接收经滤砂机构过滤后的研磨砂；清洗机构，设置在密封舱1内，用于对滤砂机构进行清洗，以杂质对滤砂机构造成堵塞。
[0022]使用时，经研磨后的研磨砂由研磨砂输入口2进入密封舱1内，落入滤砂机构后，经滤砂机构进行高效过滤后的研磨砂由研磨砂回收机构回收；在滤砂机构过滤的同时，由清洗机构对滤砂机构进行实时清洗，有效避免了由研磨后的研磨砂中的杂质将滤砂机构堵塞，并能防止研磨砂的凝固。
[0023]上述实施例中，密封舱1的顶部设置有顶舱盖3，顶舱盖3与密封舱1的顶部之间为密封连接；研磨砂输入口2设置在顶舱盖3上。
[0024]上述实施例中，密本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种晶圆研磨生产中的虑砂设备，其特征在于，包括：密封舱，其顶部设置有研磨砂输入口；滤砂机构，设置在密封舱内，位于研磨砂输入口下方，并由驱动机构带动滤砂机构进行转动，以对输入的研磨砂进行高效过滤；研磨砂回收机构，设置在密封舱内，位于滤砂机构的中部，用于接收经滤砂机构过滤后的研磨砂；清洗机构，设置在密封舱内，用于对滤砂机构进行清洗。2.如权利要求1所述晶圆研磨生产中的虑砂设备，其特征在于，密封舱的顶部设置有顶舱盖，顶舱盖与密封舱的顶部之间为密封连接；研磨砂输入口设置在顶舱盖上。在密封舱的顶部还设置有液位计。3.如权利要求2所述晶圆研磨生产中的虑砂设备，其特征在于，密封舱的两侧还分别设置有加强板，用于安装研磨砂回收机构、驱动机构和清洗机构。4.如权利要求1所述晶圆研磨生产中的虑砂设备，其特征在于，滤砂机构包括主动轴、从动轴、同步带和滤网；主动轴和两根从动轴穿设在密封舱内，主动轴和从动轴的端部均穿设在密封舱的两侧加强板上，且主动轴与两根从动轴在加强板上呈三角形布置；主动轴的两端分别同轴设置有主动轮，每根从动轴的两端分别同轴设置有从动轮，且主动轮和从动轮均位于加强板的内侧壁处；并在每侧加强板的主动轮和两从动轮上设置有同步带，由同步带进行同步传动连接；位于两侧的同步带之间设置有滤网，滤网随同步带进行转动，将落入的研磨砂进行过滤。5.如权利要求4所述晶圆研磨生产中的虑砂设...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨海波，杨海扣，
申请(专利权)人：无锡扣华科技有限公司，
类型：发明
国别省市：