本发明专利技术涉及一种陶瓷上釉设备，涉及陶瓷成型技术领域，用以给坯体上釉，包括布釉系统和坯体升降系统，所述布釉系统包括翻转架装置、釉水均布装置和防水布兜，所述坯体升降系统用以顶推工件升降，所述釉水均布装置可滑动的安装在翻转架装置上，所述釉水均布装置沿翻转架装置滑动过程中拖动防水布兜沿坯体滑动，能便捷的实现大件开口状容器内侧上满釉。捷的实现大件开口状容器内侧上满釉。捷的实现大件开口状容器内侧上满釉。
【技术实现步骤摘要】
陶瓷上釉设备
[0001]本专利技术涉及陶瓷成型
，特别是涉及一种陶瓷上釉设备。
技术介绍
[0002]大件瓷器比如沙拉碗的上釉，如若内外侧的釉不同的话，需要内外侧单独上釉，在对沙拉碗的内部进行上满釉时，现有往往是将釉水一瓢一瓢的舀进碗内，直至釉水装满沙拉碗，随后再倒出来，实现碗内的上满釉，但是这种办法由于是碗底先接触到釉水，又由于上釉时间长，釉水在碗底沉积，烧出来的沙拉釉水非常不均，一直没有简便的办法解决。
技术实现思路
[0003]为克服现有技术存在的技术缺陷，本专利技术提供一种陶瓷上釉设备，能便捷的实现大件开口状容器内侧上满釉。
[0004]本专利技术采用的技术解决方案是：陶瓷上釉设备，用以给坯体上釉，包括布釉系统和坯体升降系统，所述布釉系统包括翻转架装置、釉水均布装置和防水布兜，所述坯体升降系统用以顶推工件升降，所述釉水均布装置可滑动的安装在翻转架装置上，所述釉水均布装置沿翻转架装置滑动过程中拖动防水布兜沿坯体滑动。
[0005]优选的，所述翻转架装置包括翻转机架和回转架，所述翻转机架为三脚架，所述翻转机架顶部设有水平回转孔，所述回转架穿过水平回转孔实现回转，所述釉水均布装置在回转架上滑动。
[0006]优选的，所述回转架包括回转转轴杆、回转把手和回转滑杆，所述回转转轴杆穿过水平回转孔转动，回转滑杆固装在回转转轴杆上，所述回转把手固装在回转转轴杆上，所述釉水均布装置沿回转滑杆滑动。
[0007]优选的，所述釉水均布装置包括釉水控制滑块和若干釉水控制绳，所述釉水控制滑块沿翻转架装置滑动，防水布兜的中部安装在釉水控制滑块底部，各所述釉水控制绳的两端分别连接釉水控制滑块顶部和防水布兜的侧边，所述翻转架装置上设有若干导绳环，所述釉水控制绳穿过导绳环，所述釉水控制绳的两端穿过导绳环后使得釉水控制绳两端的运动方向相反。
[0008]优选的，所述翻转架装置上还安装有滑动控制滑杆、滑动控制滑套和滑动控制把手，所述滑动控制滑套沿滑动控制滑杆滑动，所述滑动控制把手固装在滑动控制滑套上，所述滑动控制滑套与釉水控制滑块通过提拉绳传动连接。
[0009]优选的，所述防水布兜上还设有若干第一磁吸装置，所述坯体升降系统上还设有若干与对应第一磁吸装置对应吸引的第二磁吸装置。
[0010]优选的，所述升降系统顶部设有吸引框架，各所述第二磁吸装置安装在吸引框架上。
[0011]优选的，所述坯体升降系统包括升降气缸和升降板，所述升降板安装在升降气缸
的输出端。
[0012]本专利技术的有益效果是：布釉系统包括翻转架装置、釉水均布装置和防水布兜，坯体升降系统用以顶推工件升降，釉水均布装置可滑动的安装在翻转架装置上，釉水均布装置沿翻转架装置滑动过程中拖动防水布兜沿坯体滑动，施釉前，先滑动釉水均布装置，使得防水布兜在坯体展开，施釉时，将釉水先倒入防水布兜内，随后控制釉水均布装置沿翻转架装置滑动，进而使得防水布兜沿坯体滑动，在防水布兜被渐渐抽出来的过程中，防水布兜内的釉水泄露出来而直接进入坯体内部被坯体承装，请注意，这个过程中，釉水没有经历高度落差，始终是保持平静的，不会有溢出坯体的危险，而且在防水布兜抽离过程中，釉水从坯体侧边开始接触坯体，这样可以先让坯体侧边接触釉水而不是坯体的底部先接触釉水，防止了釉水在坯体的底部聚集，烧制出来的陶瓷釉水均匀，能便捷的实现大件开口状容器内侧上满釉。
附图说明
[0013]图1为本专利技术整体结构示意图。
[0014]图2为本专利技术抬起防水布兜时结构示意图。
[0015]图3为布釉系统抬起防水布兜时结构示意图。
[0016]图4为布釉系统放下防水布兜时结构示意图。
[0017]附图标记说明：1、布釉系统；11、翻转架装置；111、翻转机架；112、回转架；1121、回转转轴杆；1122、回转把手；1123、回转滑杆；1124、滑动控制滑杆；1125、滑动控制滑套；1126、滑动控制把手；1127、提拉绳；113、导绳环；12、釉水均布装置；121、釉水控制滑块；122、釉水控制绳；13、防水布兜；2、坯体升降系统；21、吸引框架；22、升降气缸；23、升降板；3、第一磁吸装置。
具体实施方式
[0018]下面结合附图对本专利技术作进一步说明：如图1
‑
4所示，本实施例提供一种陶瓷上釉设备，用以给坯体上釉，包括布釉系统1和坯体升降系统2，布釉系统1包括翻转架装置11、釉水均布装置12和防水布兜13，坯体升降系统2用以顶推工件升降，釉水均布装置12可滑动的安装在翻转架装置11上，釉水均布装置12沿翻转架装置11滑动过程中拖动防水布兜13沿坯体滑动，施釉前，先滑动釉水均布装置12，使得防水布兜13在坯体展开，施釉时，将釉水先倒入防水布兜13内，随后控制釉水均布装置12沿翻转架装置11滑动，进而使得防水布兜13沿坯体内侧壁滑动，在防水布兜13被渐渐抽出来的过程中，防水布兜13内的釉水泄露出来而直接进入坯体内侧壁并被坯体承装，请注意，这个过程中，釉水没有经历高度落差，始终是保持平静的，不会有溢出坯体的危险，而且在防水布兜13抽离过程中，釉水从坯体侧边开始接触坯体，这样可以先让坯体侧边接触釉水而不是坯体的底部先接触釉水，防止了釉水在坯体的底部聚集，烧制出来的陶瓷釉水均匀，能便捷的实现大件开口状容器内侧上满釉。
[0019]翻转架装置11包括翻转机架111和回转架112，翻转机架111为三脚架，翻转机架
111顶部设有水平回转孔，回转架112穿过水平回转孔实现回转，水平回转孔内设有供回转架112回转的轴承，釉水均布装置12在回转架112上滑动，釉水均布装置12沿回转架112滑动过程中拖动防水布兜13沿坯体内侧壁滑动，设置回转架112的目的是，在施釉结束后，将釉水均布装置12、防水布兜13携带出坯体的上方，便于将坯体内的釉水倾倒出来。
[0020]回转架112包括回转转轴杆1121、回转把手1122和回转滑杆1123，回转转轴杆1121穿过水平回转孔转动，回转滑杆1123固装在回转转轴杆1121上，回转把手1122固装在回转转轴杆1121上，釉水均布装置12沿回转滑杆1123滑动，需要将釉水均布装置12、防水布兜13携带出坯体的上方时，转动回转把手1122。
[0021]具体的说，釉水均布装置12包括釉水控制滑块121和若干釉水控制绳122，釉水控制滑块121沿翻转架装置11滑动，各釉水控制绳122的两端分别连接釉水控制滑块121顶部和防水布兜13的侧边，翻转架装置11上通过焊接方式固设有若干导绳环113，釉水控制绳122穿过导绳环113，釉水控制绳122的两端穿过导绳环113后使得釉水控制绳122两端的运动方向相反，釉水控制滑块121向上滑动，各釉水控制绳122连接釉水控制滑块121的一端上升，防水布兜13的中部安装在釉水控制滑块121底部，于是防水布兜13的中部跟随釉水控制滑块121上升，防水布兜13的四周及釉水控制绳122下降，防水布兜13上的釉水逐渐从防水布兜13的四周泄本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.陶瓷上釉设备，用以给坯体上釉，其特征在于，包括布釉系统和坯体升降系统，所述布釉系统包括翻转架装置、釉水均布装置和防水布兜，所述坯体升降系统用以顶推工件升降，所述釉水均布装置可滑动的安装在翻转架装置上，所述釉水均布装置沿翻转架装置滑动过程中拖动防水布兜沿坯体滑动，所述釉水均布装置包括釉水控制滑块和若干釉水控制绳，所述釉水控制滑块沿翻转架装置滑动，防水布兜的中部安装在釉水控制滑块底部，各所述釉水控制绳的两端分别连接釉水控制滑块顶部和防水布兜的侧边，所述翻转架装置上设有若干导绳环，所述釉水控制绳穿过导绳环，所述釉水控制绳的两端穿过导绳环后使得釉水控制绳两端的运动方向相反。2.根据权利要求1所述的陶瓷上釉设备，其特征在于，所述翻转架装置包括翻转机架和回转架，所述翻转机架为三脚架，所述翻转机架顶部设有水平回转孔，所述回转架穿过水平回转孔实现回转，所述釉水均布装置在回转架上滑动。3.根据权利要求2所述的陶瓷上釉设备，其特征...
【专利技术属性】
技术研发人员：张泉德，易礼文，王德概，张振锋，张泉兴，苏秀忠，
申请(专利权)人：福建省德化县泉艺陶瓷有限公司，
类型：发明
国别省市：
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