硅片清洗装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及硅片生产设备的技术领域，提供一种硅片清洗装置，包括：工作槽、回收槽、快排系统、第一循环系统和喷淋系统；工作槽上部具有开口；快排系统与工作槽和回收槽相连接，用于将工作槽内的清洗液排入至回收槽；第一循环系统与回收槽和喷淋系统相连接，用于将回收槽内的清洗液输送至喷淋系统；喷淋系统设置于工作槽的上部开口处，用于对进入工作槽之前的硅片进行淋洗。如此设置，通过第一循环系统可以抽取回收槽内的清洗液至喷淋系统，然后经喷淋系统对硅片进行淋洗，初步除去残留于硅片表面的化学品，从而对回收槽内的清洗水进行充分的重复利用，以减少纯水的用量以及废水的排放量，降低成本。降低成本。降低成本。

【技术实现步骤摘要】
硅片清洗装置


[0001]本技术涉及硅片生产设备的
，尤其涉及一种硅片清洗装置。

技术介绍

[0002]目前，光伏硅电池片需要经过湿法清洗工艺，包括清洗制绒、碱抛、去绕镀等工序，以去除前工序带来的机械损伤、有机油污、硼硅层、磷硅层等缺陷，保证电池片的光电转化效率。在湿法清洗中，需要采用氢氧化钠、氢氧化钾、HCl、HF、有机添加剂等化学品进行表面处理，以除去硅片所含的金属离子，并在硅片表面形成金字塔型绒面结构。在各表面处理工序之间，需要采用大量的纯水进行清洗，从而去除前工序残留的化学药剂，确保硅片表面的洁净度，避免对下游工序产生影响。
[0003]相关技术中，一般采用多级溢流水洗槽对硅片进行分级清洗。
[0004]但采用上述的多级溢流水洗槽对硅片进行清洗时，存在纯水用量大，废水处理压力大，成本较高的问题。

技术实现思路

[0005]本技术提供一种硅片清洗装置，用以减小现有技术中硅片清洗时，纯水用量大，废水处理压力大，成本较高的问题，实现清洗水的充分回收利用，减少纯水用量以及废水排放量，降低成本。
[0006]本技术提供一种硅片清洗装置，包括：工作槽、回收槽、快排系统、第一循环系统和喷淋系统；
[0007]所述工作槽上部具有开口；
[0008]所述快排系统与所述工作槽和所述回收槽相连接，用于将所述工作槽内的清洗液排入至所述回收槽；
[0009]所述第一循环系统与所述回收槽和所述喷淋系统相连接，用于将所述回收槽内的清洗液输送至所述喷淋系统；
[0010]所述喷淋系统设置于所述工作槽的上部开口处，用于对进入工作槽之前的硅片进行淋洗。
[0011]根据本技术提供的一种硅片清洗装置，还包括第二循环系统，所述第二循环系统与所述工作槽和所述喷淋系统相连接，用于将所述工作槽内的清洗液输送至所述喷淋系统。
[0012]根据本技术提供的一种硅片清洗装置，还包括与所述喷淋系统相连接的纯水系统。
[0013]根据本技术提供的一种硅片清洗装置，所述工作槽与回收槽之间设置有连接管，所述第一循环系统、第二循环系统和纯水系统均通过连接管与所述喷淋系统连通。
[0014]根据本技术提供的一种硅片清洗装置，所述连接管上设置有第一阀和第二阀；所述第一阀位于所述第一循环系统和所述第二循环系统的下游，并且位于所述第二循
环系统与纯水系统之间；所述第二阀位于所述连接管的出水端。
[0015]根据本技术提供的一种硅片清洗装置，所述工作槽位于所述回收槽的上方；所述快排系统包括：
[0016]快排管，一端连通所述工作槽的底部，另一端连通所述回收槽；
[0017]快排阀，设置于所述快排管并且位于所述回收槽外；所述快排阀上具有旋钮，用于控制所述快排阀的通断；
[0018]动力元件，输出端与所述旋钮连接，用于驱动并控制所述旋钮的旋转。
[0019]根据本技术提供的一种硅片清洗装置，所述工作槽的底面为斜面，所述快排管与所述工作槽底面较低的一侧相连接。
[0020]根据本技术提供的一种硅片清洗装置，所述喷淋系统包括：
[0021]喷淋管，至少有一根且布设于所述工作槽的至少一侧；
[0022]喷头，沿所述喷淋管的长度方向设置有多个，所述工作槽的上部开口位于所述喷头的喷淋区域内。
[0023]根据本技术提供的一种硅片清洗装置，还包括鼓泡气路系统；所述鼓泡气路系统包括：
[0024]鼓泡管，设置于所述工作槽的底部，所述鼓泡管上设置有气孔；
[0025]气体接入管，设置于所述工作槽外且一端与所述鼓泡管连通；所述气体接入管上设置有控制阀，用于控制气体接入管的通断。
[0026]根据本技术提供的一种硅片清洗装置，还包括设置于所述工作槽至少一侧的溢流槽，所述工作槽的内壁上设置有溢流口，所述工作槽和所述溢流槽通过所述溢流口连通。
[0027]本技术提供的一种硅片清洗装置，硅片在进入工作槽内浸泡清洗前，首先启动第一循环系统，第一循环系统可以抽取回收槽内的清洗液至喷淋系统，然后经喷淋系统对硅片进行淋洗，初步除去残留于硅片表面的化学品，从而对回收槽内的清洗水进行充分的重复利用，以减少纯水的用量以及废水的排放量，降低成本。
附图说明
[0028]为了更清楚地说明本技术或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作一简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0029]图1是本技术实施例提供的硅片清洗装置的结构示意图之一；
[0030]图2是本技术实施例提供的硅片清洗装置的结构示意图之二；
[0031]图3是本技术实施例提供的快排系统的结构示意图。
[0032]附图标记：
[0033]1、槽体；10、工作槽；11、回收槽；12、溢流槽；13、隔断板；14、分隔板；15、稳流板；16、支撑座；2、快排系统；21、快排阀；22、动力元件；3、第一循环系统；30、第一管路；31、第一泵体；4、喷淋系统；40、喷淋管；41、喷头；42、连通管；5、第二循环系统；50、第二管路；51、第二泵体；6、纯水系统；60、第三管路；61、第三泵体；7、排污管；8、连接管；80、第一阀；81、第二
阀；9、鼓泡气路系统；90、鼓泡管；91、气体接入管。
具体实施方式
[0034]为使本技术的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本技术中的附图，对本技术中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0035]为了方便理解本技术提供的硅片清洗装置，首先说明其应用场景，太阳能硅电池片在生产过程中，需要经过湿法清洗工艺除去电池片表面的污渍和缺陷，保证其光电转化效率，在湿法清洗工艺中，需要使用多种化学药品对电池片表面进行处理，各表面处理工序之间均需要对硅片进行清洗。现有技术中，一般采用多级溢流水洗槽对硅片表面进行分级清洗，多级溢流水洗槽一般包括多个并排槽体，相邻槽体之间通过溢流口或管道相连，在清洗时，将纯水通入其中一端的槽体中，纯水通过溢流的方式充满各个槽体，电池片从另一端的槽体开始依次在各个槽体中进行清洗。但上述的多级溢流水洗槽的每级槽体都有废水排出，无法对水进行充分的循环利用，纯水用量以及废水的排放量都较大，导致成本较高。因此，本技术提供了一种硅片清洗装置，可以对清洗水进行充分的重复利用，以减少纯水的用量以及废水的排放量，降低成本。
[0036]下面结合图1
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图3描述本技术的硅片清洗装置。
[0037]参照图本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种硅片清洗装置，其特征在于，包括：工作槽(10)、回收槽(11)、快排系统(2)、第一循环系统(3)和喷淋系统(4)；所述工作槽(10)上部具有开口；所述快排系统(2)与所述工作槽(10)和所述回收槽(11)相连接，用于将所述工作槽(10)内的清洗液排入至所述回收槽(11)；所述第一循环系统(3)与所述回收槽(11)和所述喷淋系统(4)相连接，用于将所述回收槽(11)内的清洗液输送至所述喷淋系统(4)；所述喷淋系统(4)设置于所述工作槽(10)的上部开口处，用于对进入工作槽(10)之前的硅片进行淋洗。2.根据权利要求1所述的硅片清洗装置，其特征在于，还包括第二循环系统(5)，所述第二循环系统(5)与所述工作槽(10)和所述喷淋系统(4)相连接，用于将所述工作槽(10)内的清洗液输送至所述喷淋系统(4)。3.根据权利要求2所述的硅片清洗装置，其特征在于，还包括与所述喷淋系统(4)相连接的纯水系统(6)。4.根据权利要求3所述的硅片清洗装置，其特征在于，所述工作槽(10)与回收槽(11)之间设置有连接管(8)，所述第一循环系统(3)、第二循环系统(5)和纯水系统(6)均通过连接管(8)与所述喷淋系统(4)连通。5.根据权利要求4所述的硅片清洗装置，其特征在于，所述连接管(8)上设置有第一阀(80)和第二阀(81)；所述第一阀(80)位于所述第一循环系统(3)和所述第二循环系统(5)的下游，并且位于所述第二循环系统(5)与纯水系统(6)之间；所述第二阀(81)位于所述连接管(8)的出水端。6.根据权利要求1
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5任意一项所述的硅片清洗装置，其特征在于，所述工作...

【专利技术属性】
技术研发人员：张小军，付礼义，
申请(专利权)人：三一硅能株洲有限公司，
类型：新型
国别省市：