一种蒸发舟和真空镀膜机制造技术

技术编号:39026240 阅读:32 留言:0更新日期:2023-10-07 11:07
本实用新型专利技术提供一种蒸发舟和真空镀膜机,该蒸发舟包括:舟体,舟体的中间设置有凹槽,凹槽的底部间隔的设置有若干微型壁体,若干微型壁体将凹槽的底部分隔成若干微槽。本实用新型专利技术实施例中,通过在凹槽的底部设置的若干微型壁体将凹槽的底部分隔成若干微槽,可以增大凹槽底部的张力,使得熔融的液体沿着微槽均匀的摊开,进而均匀的平铺在凹槽的底部,使得薄膜的各个部位镀层一致,且还可以避免薄膜烧孔。且还可以避免薄膜烧孔。且还可以避免薄膜烧孔。

【技术实现步骤摘要】
一种蒸发舟和真空镀膜机


[0001]本技术涉及真空镀膜
,具体涉及一种蒸发舟和真空镀膜机。

技术介绍

[0002]蒸发舟是指一种用以盛放待蒸镀材料的装置,其主要用于在蒸镀环境中盛放金属材料如铜或者铝等,蒸镀的过程主要是对蒸发舟进行加热,金属受热气化,然后层积在薄膜上,从而完成镀膜,但是现有的蒸发舟其内部表面张力不够,蒸发舟内部的金属融化后其向无法向蒸发舟的四周散开,使得蒸发舟内部的金属熔融液堆积在一处,导致所镀薄膜表面的金属厚度不一致。

技术实现思路

[0003]有鉴于此,本技术实施例的目的在于提供一种蒸发舟和真空镀膜机,以解决现有技术中蒸发舟的内部表面张力不够,蒸发舟内部的金属融化后向无法向蒸发舟的四周散开,使得蒸发舟内部的金属熔融液堆积在一处,导致所镀薄膜表面的金属厚度不一致的技术问题。
[0004]为达上述目的,本技术实施例提供了一种蒸发舟,所述蒸发舟包括:舟体,所述舟体的中间设置有凹槽,所述凹槽的底部间隔的设置有若干微型壁体,所述若干微型壁体将所述凹槽的底部分隔成若干微槽。
[0005]在一些可能的实施本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种蒸发舟(1),其特征在于,所述蒸发舟(1)包括:舟体(10),所述舟体(10)的中间设置有凹槽(11),所述凹槽(11)的底部间隔的设置有若干微型壁体(12),所述若干微型壁体(12)将所述凹槽(11)的底部分隔成若干微槽(13)。2.根据权利要求1所述的一种蒸发舟(1),其特征在于,每个所述微型壁体(12)的高度大于等于0小于100um。3.根据权利要求1所述的一种蒸发舟(1),其特征在于,所述凹槽(11)的形状为长方形,所述微槽(13)向着所述凹槽(11)的长度方向延伸。4.一种真空镀膜机(2),其特征在于,所述真空镀膜机(2)包括真空腔室(20),以及设置在所述真空腔室(20)内部设置有放卷机构(21)、收卷机构(22)、主辊(23)和蒸镀系统(24);所述蒸镀系统(24)位于所述主辊(23)的下方,其包括权利要求1

3任意一项所述的蒸发舟(1),用于对薄膜进行蒸镀。5.根据权利要求4所述的一种真空镀膜机(2),其特征在于,所述真空镀膜机(2)还包括控制器(25),所述控制器(25)位于所述真空腔室(20)的外部;所述蒸镀系统(24)还包括温度检测器(241),所述温度检测器(241)与所述控制器(25)电连接,用于检测所述蒸发舟的温度,所述控制器(25)根据所述温度控制所述蒸发舟(1)的蒸发速率。6.根据权利要求5所述的一种真空镀膜机(2),其特征在于,所述真空镀膜机(2)还包括阳极层离子源系统(26),所述阳极层离子源系统(26)设置在所述主辊(23)的上方;所述阳极层离子源系统(26)包括靶材和气体输送机构(3),用于对薄膜进行溅射镀膜;所述气体输送机构(3)包括:主体(30),在所述主体(...

【专利技术属性】
技术研发人员:臧世伟
申请(专利权)人:重庆金美新材料科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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