一种蒸发舟和真空镀膜机制造技术

本实用新型专利技术提供一种蒸发舟和真空镀膜机，该蒸发舟包括：舟体，舟体的中间设置有凹槽，凹槽的底部间隔的设置有若干微型壁体，若干微型壁体将凹槽的底部分隔成若干微槽。本实用新型专利技术实施例中，通过在凹槽的底部设置的若干微型壁体将凹槽的底部分隔成若干微槽，可以增大凹槽底部的张力，使得熔融的液体沿着微槽均匀的摊开，进而均匀的平铺在凹槽的底部，使得薄膜的各个部位镀层一致，且还可以避免薄膜烧孔。且还可以避免薄膜烧孔。且还可以避免薄膜烧孔。

【技术实现步骤摘要】
一种蒸发舟和真空镀膜机


[0001]本技术涉及真空镀膜
，具体涉及一种蒸发舟和真空镀膜机。

技术介绍

[0002]蒸发舟是指一种用以盛放待蒸镀材料的装置，其主要用于在蒸镀环境中盛放金属材料如铜或者铝等，蒸镀的过程主要是对蒸发舟进行加热，金属受热气化，然后层积在薄膜上，从而完成镀膜，但是现有的蒸发舟其内部表面张力不够，蒸发舟内部的金属融化后其向无法向蒸发舟的四周散开，使得蒸发舟内部的金属熔融液堆积在一处，导致所镀薄膜表面的金属厚度不一致。

技术实现思路

[0003]有鉴于此，本技术实施例的目的在于提供一种蒸发舟和真空镀膜机，以解决现有技术中蒸发舟的内部表面张力不够，蒸发舟内部的金属融化后向无法向蒸发舟的四周散开，使得蒸发舟内部的金属熔融液堆积在一处，导致所镀薄膜表面的金属厚度不一致的技术问题。
[0004]为达上述目的，本技术实施例提供了一种蒸发舟，所述蒸发舟包括：舟体，所述舟体的中间设置有凹槽，所述凹槽的底部间隔的设置有若干微型壁体，所述若干微型壁体将所述凹槽的底部分隔成若干微槽。
[0005]在一些可能的实施方式中，每个所述微型壁体的高度大于等于0小于100um。
[0006]在一些可能的实施方式中，所述凹槽的形状为长方形，所述微槽向着所述凹槽的长度方向延伸。
[0007]第二方面，本技术实施例提供了一种真空镀膜机，所述真空镀膜机包括真空腔室，以及设置在所述真空腔室内部设置有放卷机构、收卷机构、主辊和蒸镀系统；
[0008]所述蒸镀系统位于所述主辊的下方，其包括蒸发舟，用于对薄膜进行蒸镀。
[0009]在一些可能的实施方式中，所述真空镀膜机还包括控制器，所述控制器位于所述真空腔室的外部；
[0010]所述蒸镀系统还包括温度检测器，所述温度检测器与所述控制器电连接，用于检测所述蒸发舟的温度，所述控制器根据所述蒸发舟的温度控制所述蒸发舟的蒸发速率。
[0011]在一些可能的实施方式中，所述真空镀膜机还包括阳极层离子源系统，所述阳极层离子源系统设置在所述主辊的上方；
[0012]所述阳极层离子源系统包括靶材和气体输送机构，用于对薄膜进行溅射镀膜；
[0013]所述气体输送机构包括：主体，在所述主体上设置有气体输送管道，在所述主体的顶部设置有与所述气体输送管道贯穿的若干出气孔，每个所述出气孔上分别安装有喷嘴；
[0014]在所述主体侧面的中间位置设置有与所述气体输送管道贯穿的进气管，所述气体输送管道的两端通过密封件密封。
[0015]在一些可能的实施方式中，在所述主体上还设置有液体输送管道，所述液体输送
管道位于所述气体输送管道的下方；
[0016]所述液体输送管道的两端分别设置有阀门，通过所述阀门控制所述液体输送管道中液体的流量。
[0017]在一些可能的实施方式中，所述气体输送机构还包括：防护壳体，所述防护壳体包裹在所述主体的外侧；
[0018]所述防护壳体的顶部设置有若干与所述喷嘴匹配的条形孔，所述喷嘴从所述条形孔伸出；
[0019]所述防护壳体为金属材质。
[0020]在一些可能的实施方式中，所述真空镀膜机还包括：
[0021]厚度测量机构和膜温检测机构，均设置在所述真空腔室的内部，与所述控制器电连接，分别用于测量所述薄膜的镀层厚度和膜面温度；
[0022]所述控制器根据所述薄膜的镀层厚度控制所述阳极层离子源系统的溅射率，并根据所述膜面温度控制所述主辊的冷却度。
[0023]在一些可能的实施方式中，所述真空镀膜机还包括：若干过辊，用于对薄膜进行展平、导向以及控制薄膜的张力。
[0024]上述技术方案的有益技术效果在于：
[0025]本技术实施例提供的一种蒸发舟和真空镀膜机，该蒸发舟包括：舟体，舟体的中间设置有凹槽，凹槽的底部间隔的设置有若干微型壁体，若干微型壁体将凹槽的底部分隔成若干微槽。本技术实施例中，通过在凹槽的底部设置的若干微型壁体将凹槽的底部分隔成若干微槽，可以增大凹槽底部的张力，使得熔融的液体沿着微槽均匀的向四周摊开，进而均匀的平铺在凹槽的底部，使得薄膜的各个部位镀层一致，且还可以避免薄膜烧孔。
附图说明
[0026]为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0027]图1为本技术实施例的一种蒸发舟的整体结构示意图；
[0028]图2为本技术实施例的一种真空镀膜机的整体机构示意图；
[0029]图3为本技术实施例的一种气体输送机构的局部立体分体图。
[0030]附图标号说明：
[0031]1、蒸发舟；10、舟体；11、凹槽；12、微型壁体；13、微槽；
[0032]2、真空镀膜机；20、真空腔室；21、放卷机构；22、收卷机构；23、主辊；24、蒸镀系统；241、温度检测器；25、控制器；26、阳极层离子源系统；27、厚度测量机构；28、膜温检测机构；29、过辊；
[0033]3、气体输送机构；30、主体；301、气体输送管道；302、出气孔；303、喷嘴；305、液体输送管道；31、密封件；32、阀门；33、防护壳体；331、条形孔。
具体实施方式
[0034]下面将详细描述本技术的各个方面的特征和示例性实施例。在下面的详细描述中，提出了许多具体细节，以便提供对本技术的全面理解。但是，对于本领域技术人员来说很明显的是，本技术可以在不需要这些具体细节中的一些细节的情况下实施。下面对实施例的描述仅仅是为了通过示出本技术的示例来提供对本技术的更好的理解。在附图和下面的描述中，至少部分的公知结构和技术没有被示出，以便避免对本技术造成不必要的模糊；并且，为了清晰，可能夸大了部分结构的尺寸。此外，下文中所描述的特征、结构或特性可以以任何合适的方式结合在一个或更多实施例中。
[0035]图1是本技术实施例提供的一种蒸发舟的整体结构示意图，如图1所示，该蒸发舟1包括：舟体10，在舟体10的中间设置有凹槽11，凹槽11的底部间隔的设置有若干微型壁体12，若干微型壁体12将凹槽11的底部分隔成若干微槽13。本技术实施例中，通过在凹槽11的底部设置的若干微型壁体12将凹槽11的底部分隔成若干微槽13，可以增大凹槽11底部的张力，使得熔融的液体沿着微槽13均匀的摊开，进而均匀的平铺在凹槽11的底部，使得薄膜的各个部位镀层一致，另外，由于本实施例中的熔融液体均匀的摊开，不会使得部分地方金属熔融液多，升华的金属原子多，能量高，层积在薄膜上使得薄膜穿孔会造成薄膜烧孔。
[0036]如图1所示，在一些实施例中，每个微型壁体12的高度大于等于0小于100um。本技术实本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种蒸发舟(1)，其特征在于，所述蒸发舟(1)包括：舟体(10)，所述舟体(10)的中间设置有凹槽(11)，所述凹槽(11)的底部间隔的设置有若干微型壁体(12)，所述若干微型壁体(12)将所述凹槽(11)的底部分隔成若干微槽(13)。2.根据权利要求1所述的一种蒸发舟(1)，其特征在于，每个所述微型壁体(12)的高度大于等于0小于100um。3.根据权利要求1所述的一种蒸发舟(1)，其特征在于，所述凹槽(11)的形状为长方形，所述微槽(13)向着所述凹槽(11)的长度方向延伸。4.一种真空镀膜机(2)，其特征在于，所述真空镀膜机(2)包括真空腔室(20)，以及设置在所述真空腔室(20)内部设置有放卷机构(21)、收卷机构(22)、主辊(23)和蒸镀系统(24)；所述蒸镀系统(24)位于所述主辊(23)的下方，其包括权利要求1
‑
3任意一项所述的蒸发舟(1)，用于对薄膜进行蒸镀。5.根据权利要求4所述的一种真空镀膜机(2)，其特征在于，所述真空镀膜机(2)还包括控制器(25)，所述控制器(25)位于所述真空腔室(20)的外部；所述蒸镀系统(24)还包括温度检测器(241)，所述温度检测器(241)与所述控制器(25)电连接，用于检测所述蒸发舟的温度，所述控制器(25)根据所述温度控制所述蒸发舟(1)的蒸发速率。6.根据权利要求5所述的一种真空镀膜机(2)，其特征在于，所述真空镀膜机(2)还包括阳极层离子源系统(26)，所述阳极层离子源系统(26)设置在所述主辊(23)的上方；所述阳极层离子源系统(26)包括靶材和气体输送机构(3)，用于对薄膜进行溅射镀膜；所述气体输送机构(3)包括：主体(30)，在所述主体(...

【专利技术属性】
技术研发人员：臧世伟，
申请(专利权)人：重庆金美新材料科技有限公司，
类型：新型
国别省市：