自适应光学系统、曝光系统、波像差调节方法及设备技术方案

本发明专利技术涉及光刻技术领域，公开了一种自适应光学系统、曝光系统、波像差调节方法及设备。本发明专利技术在变形镜对第一光束的相位进行调整得到第二光束之后，首先由波前检测模块检测第二光束的波前图形，然后由图像处理模块基于第二光束的波前图形与预标定的波前图形得到波像差。当波像差不满足预设曝光条件时，不断调整变形镜，直至波像差满足预设曝光条件时，利用第二光束完成曝光。本发明专利技术仅通过波前检测模块即可完成波像差的检测工作，结构简单且独立。而且，在波像差补偿的过程中，本方案直接通过图像处理模块调整波前检测模块即可实现对波像差的补偿，其补偿方式简便，且补偿时长短，从而使成像质量和效率提高。而使成像质量和效率提高。而使成像质量和效率提高。

【技术实现步骤摘要】
自适应光学系统、曝光系统、波像差调节方法及设备


[0001]本专利技术涉及光刻
，具体涉及一种自适应光学系统、曝光系统、波像差调节方法及设备。

技术介绍

[0002]波像差即物点发出的波面经实际光学系统后，实际波面与理想波面在出瞳处相切时两波面的光程差。波像差是影响步进扫描投影光刻机性能的重要指标，直接影响光刻机成像质量、光刻分辨率以及关键尺寸均匀性等关键参数，波像差越小，像质越好。
[0003]传统光刻机通常采用剪切干涉或图形曝光测量的方式对波像差进行检测，当采用剪切干涉的方法进行测量时，需要定制专门的掩模版/标记和设计空间传感器，结构设计较为复杂，当采用图形曝光测量方式进行波像差检测时，又会引入光刻工艺及测量设备方面的影响因素，使得工艺过程繁杂，且检测时间较长。在对波像差完成检测后，还需对波像差进行补偿，补偿过程需要驱动机构调整投影物镜中若干指定透镜，再进行验证，耗时较长。

技术实现思路

[0004]有鉴于此，本专利技术提供了一种结构简单、补偿和响应时间短且能高质量成像的自适应光学系统、曝光系统、波像差调节方法本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种自适应光学系统，应用于芯片制备工艺的曝光系统，其特征在于，所述系统包括变形镜、波前检测模块和图像处理模块；所述变形镜用于调整第一光束的波前相位，得到第二光束，所述第一光束为所述变形镜的入射光束；所述波前检测模块用于检测所述第二光束对应的波前图形；所述图像处理模块用于根据所述波前图形和预标定的波前图形调整所述变形镜以补偿波像差；其中，当补偿后的波像差满足预设曝光条件时，利用所述第二光束完成曝光。2.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述波前检测模块包括缩束耦合镜组和波前检测传感器；所述缩束耦合镜组用于对所述第二光束的波前缩束耦合以进入所述波前检测传感器；所述波前检测传感器用于监测所述第二光束对应的波前图形。3.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述图像处理模块包括图像采集器、波前图像处理器和变形镜驱动器；所述图像采集器用于采集所述波前检测模块检测的所述波前图形；所述波前图像处理器用于基于所述波前图形和所述预标定的波前图形确定所述变形镜的调整策略；所述变形镜驱动器用于基于所述调整策略调整所述变形镜，以减小所述波像差。4.根据权利要求1至3中任一项所述的系统，其特征在于，所述系统还包括准直单元和扩束镜照明系统；所述准直单元用于使所述第二光束准直进入所述扩束镜照明系统；所述扩束镜照明系统用于扩大所述第二光束的尺寸，以使所述第二光束覆盖掩模版图形区。5.一种曝光系统，应用于芯片制备工艺，其特征在于，所述系统...

【专利技术属性】
技术研发人员：何军，盛乃援，马卫民，
申请(专利权)人：光科芯图北京科技有限公司，
类型：发明
国别省市：