当前位置: 首页 > 专利查询>浙江大学专利>正文

一种同步电机用磁桥式转子结构制造技术

技术编号:38996584 阅读:15 留言:0更新日期:2023-10-07 10:27
本发明专利技术公开一种同步电机用磁桥式转子结构,涉及电机技术领域,包括:多个第一叠片,第一叠片为硅钢片;一个或至少两个第二叠片;任意一个第二叠片上的磁桥的宽度大于任意一个第一叠片上的磁桥的宽度;全部第一叠片和全部第二叠片沿厚度方向叠压在一起;任意相邻的两个叠片固定连接,任意相邻的两个叠片为两个第一叠片、两个第二叠片、或一个第一叠片和一个第二叠片。本发明专利技术的同步电机用磁桥式转子结构通过磁桥宽度较小的第一叠片来降低转子结构中的漏磁,并把第一叠片中的机械应力通过第一叠片和第二叠片的固定连接而传递到第二叠片,通过磁桥宽度较大的第二叠片来保证转子结构机械强度,由此可以实现高强度、低漏磁的效果。低漏磁的效果。低漏磁的效果。

【技术实现步骤摘要】
一种同步电机用磁桥式转子结构


[0001]本专利技术涉及电机
,特别是涉及一种同步电机用磁桥式转子结构。

技术介绍

[0002]目前,不论是使用广泛的内嵌式永磁同步电机,还是正在蓬勃发展的同步磁阻电机或永磁辅助式同步磁阻电机,都需要考虑转子磁桥结构的设计。
[0003]磁桥是转子上连接导磁区域的结构。磁桥的作用是将转子冲片(即硅钢片)连成一个具有足够机械强度的整体,通过磁桥部位漏磁通的饱和限制转子中的漏磁,从而使电机的性能达到或接近最佳状态。
[0004]从电磁性能的角度来说,磁桥宽度越小则漏磁越小,对提高转矩密度等电磁性能越有利,但较窄的磁桥势必会给整个转子的机械强度带来不利影响。
[0005]目前几乎所有的磁桥结构都很难兼顾电磁性能和转子机械强度。尤其是在高速电机中,转子受离心力影响较大,为满足转子机械强度必须加宽磁桥、或者在转子硅钢片上采用径向加强筋、或者采用转子护套,但这些做法都会牺牲部分电磁性能。

技术实现思路

[0006]本专利技术的目的是提供一种同步电机用磁桥式转子结构,以解决上述现有技术存在的问题,在保证转子机械强度的前提下,减少磁桥处产生的漏磁。
[0007]为实现上述目的,本专利技术提供了如下方案:
[0008]本专利技术提供一种同步电机用磁桥式转子结构,包括:
[0009]多个第一叠片,所述第一叠片为硅钢片;
[0010]一个或至少两个第二叠片;任意一个所述第二叠片上的磁桥的宽度大于任意一个所述第一叠片上的磁桥的宽度;全部所述第一叠片和全部所述第二叠片沿厚度方向叠压在一起;任意一个所述第一叠片与相邻的所述第二叠片或所述第一叠片固定连接。
[0011]优选的,任意相邻的两个所述叠片通过自粘结涂层粘接;且所述自粘结涂层布满任意相邻的两个所述叠片中端面较小的所述叠片的端面。
[0012]优选的,任意一个所述第二叠片位于两个所述第一叠片之间,或位于所述转子结构的端部。
[0013]优选的,全部所述第一叠片的形状、大小完全相同;全部所述第一叠片的磁桥的宽度相等;全部所述第二叠片的形状、大小完全相同;全部所述第二叠片的磁桥的宽度相等。
[0014]优选的,全部所述第二叠片均匀分布。
[0015]优选的,所述第一叠片的外圆直径与所述第二叠片的外圆直径相等。
[0016]优选的,全部所述第一叠片的磁桥的外圈边缘与全部所述第二叠片的磁桥的外圈边缘平齐。
[0017]优选的,所述第二叠片采用硅钢片;
[0018]或所述第二叠片的导磁率低于所述第一叠片的导磁率;
[0019]或所述第二叠片采用不导磁材料制成。
[0020]优选的,全部所述第一叠片的磁桥的内圈边缘与全部所述第二叠片的磁桥的内圈边缘平齐;所述第一叠片的磁桥的外圈边缘较同一所述第一叠片上的导磁块的边缘靠近所述第一叠片的中心。
[0021]本专利技术相对于现有技术取得了以下技术效果:
[0022]本专利技术的同步电机用磁桥式转子结构通过磁桥宽度较小的第一叠片来降低转子结构中的漏磁,并把第一叠片中的机械应力通过第一叠片和第二叠片的固定连接而传递到第二叠片,通过磁桥宽度较大的第二叠片来保证转子结构机械强度,由此可以实现高强度、低漏磁的效果。
[0023]具体的,本专利技术的同步电机用磁桥式转子结构由于转子旋转时受应力比较大的地方都在磁桥处,磁桥处受的力主要为磁桥和导磁块旋转时的离心力;在转子结合成一个整体的前提下,转子结构工作时能够将第一叠片磁桥处集中的应力分散至第二叠片的磁桥上,而第二叠片的磁桥宽度较大,第二叠片具有更高的机械强度和刚度,故能够优化第一叠片的磁桥处的受力,避免第一叠片上的磁桥因应力集中而容易损坏。
[0024]另外,本专利技术中通过使第二叠片的导磁率低于第一叠片的导磁率,或者使得第二叠片不导磁,能够进一步减少漏磁和降低生产成本。
附图说明
[0025]为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0026]图1为本专利技术实施例一的同步电机用磁桥式转子结构的结构示意图;
[0027]图2为本专利技术实施例一的同步电机用磁桥式转子结构中第一叠片的结构示意图;
[0028]图3为本专利技术实施例一的同步电机用磁桥式转子结构中第二叠片的结构示意图;
[0029]图4为本专利技术实施例二的同步电机用磁桥式转子结构的结构示意图;
[0030]图5为本专利技术实施例二的同步电机用磁桥式转子结构中第一叠片的结构示意图;
[0031]图6为本专利技术实施例三的同步电机用磁桥式转子结构的结构示意图;
[0032]图7为本专利技术实施例三的同步电机用磁桥式转子结构中第一叠片的结构示意图;
[0033]图8为本专利技术实施例三的同步电机用磁桥式转子结构中第二叠片的结构示意图;
[0034]图9为本专利技术实施例四的同步电机用磁桥式转子结构的结构示意图;
[0035]图10为本专利技术实施例四的同步电机用磁桥式转子结构中第一叠片的结构示意图;
[0036]其中,1、第二叠片;101、第二磁桥;2、第一叠片;201、第一磁桥;202、导磁块;3、永磁体。
具体实施方式
[0037]下面将结合本专利技术实施例中的附图,对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他
实施例,都属于本专利技术保护的范围。
[0038]本专利技术的目的是提供一种同步电机用磁桥式转子结构,以解决上述现有技术存在的问题,在保证转子机械强度的前提下,减少磁桥处产生的漏磁。
[0039]为使本专利技术的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂,下面结合附图和具体实施方式对本专利技术作进一步详细的说明。
[0040]实施例一
[0041]如图1

图3所示,本实施例提供一种同步电机用磁桥式转子结构,包括十八个第一叠片2和四个第二叠片1;全部第一叠片2和全部第二叠片1沿厚度方向叠压在一起,且第一叠片2与第二叠片1交错分布。
[0042]全部第一叠片2的形状、大小完全相同;全部第一叠片2的磁桥的宽度相等;全部第二叠片1的形状、大小完全相同;全部第二叠片1的磁桥的宽度相等。
[0043]任意一个第二叠片1上的磁桥(即第二磁桥101)的宽度大于任意一个第一叠片2上的磁桥(即第一磁桥201)的宽度;任意相邻的两个叠片通过自粘结涂层粘接(为了方便观察结构,图1中所示的第一叠片2与相邻的第二叠片1之间具有间隔,实际产品中任意相邻的两个叠片都是固定连接并且紧贴在一起的),即相邻的两个叠片通过自粘结技术粘接,自粘结技术为本领本文档来自技高网
...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种同步电机用磁桥式转子结构,其特征在于,包括:多个第一叠片,所述第一叠片为硅钢片;一个或至少两个第二叠片;任意一个所述第二叠片上的磁桥的宽度大于任意一个所述第一叠片上的磁桥的宽度;全部所述第一叠片和全部所述第二叠片沿厚度方向叠压在一起;任意相邻的两个叠片固定连接,任意相邻的两个叠片为两个所述第一叠片、两个所述第二叠片、或一个所述第一叠片和一个所述第二叠片。2.根据权利要求1所述的同步电机用磁桥式转子结构,其特征在于:任意相邻的两个所述叠片通过自粘结涂层粘接;且所述自粘结涂层布满任意相邻的两个所述叠片中端面较小的所述叠片的端面。3.根据权利要求1所述的同步电机用磁桥式转子结构,其特征在于:任意一个所述第二叠片位于两个所述第一叠片之间,或位于所述转子结构的端部。4.根据权利要求3所述的同步电机用磁桥式转子结构,其特征在于:全部所述第一叠片的形状、大小完全相同;全部所述第一叠片的磁桥的宽度相等;全...

【专利技术属性】
技术研发人员:沈建新李泽诚秦雪飞王云冲史丹黄晓艳
申请(专利权)人:浙江大学
类型:发明
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1