印章制造技术

本发明专利技术提供一种印章，主要包含有主体、印体、顶盖及封盖，主体设有穿孔，印体具柱体及用印块，柱体穿入主体的穿孔，用印块设有导块，其中一柱体套设一弹簧与主体相互抵压，顶盖内有结合体，与印体相结合，封盖两侧端各设凸轴，一侧设有一勾板，主体容纳空间两侧壁体设有圆形轴孔，封盖设有伸缩空间，封盖设有渐内缩型槽沟，主体壁体设有斜滑面；据此，以封盖侧端凸轴经斜滑面滑行；同时由伸缩空间作伸缩功能，令封盖侧端凸轴能嵌入圆形轴孔中，而使封盖顺利定位于容纳空间中，且随印体上下顺畅均匀翻转。

【技术实现步骤摘要】
印章
本专利技术与印章有关，更详而言的，尤指可确实快速定位封盖及用印行程顺畅均勻 翻转启闭封盖，可以锁固顶盖及控制顶盖与印体的行程，可作分段控制用印深浅的一种印
技术介绍
习知，传统印章无印盖，造成携行容易沾染墨水，非常不便，且市面的连续印章以 一外加盖体作遮住用印面，仍是不便，后来陆续开发许多连续印章，使得印章回升，用印面 不凸露，或以封旋转式封盖遮住用印，使得用印的人不沾染墨水，非常方便，但是对于市售 连续印章其功能仅于此，未有多功能连续印章，尤其对于连续印章上下位移行程的控制，或 是控制用印面深浅，或是停止用印的控制及设定，是传统连续印章未具有，在多变的市场 中，多功能的连续印章，是使用者所需求，也是印章业者必需发展的方向；
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种印章，以使用印行程顺畅均勻翻转启闭封盖，保护用 印面，扩张印块用印面积及加长印章使用寿命，避免印章墨水快速干涸，或沾染周遭对象； 也可以平衡锁固顶盖不能用印，以调整钮控制顶盖与印体的行程及其欲定位位置，可作分 段控制用印的深浅；同时，确实可行性可快速将封盖嵌入定位于容纳空间内。本专利技术一种印章，该印章包含有一主体，下半部有一容纳空间，上半部有护体围绕，容纳空间顶面设有至少一穿 孔，该容纳空间两侧为壁体；一印体，具有至少一柱体及用印块，柱体穿入主体的穿孔，用印块设有至少一导 块，其中，至少一柱体套设一弹簧与主体相互抵压，具有回复位移的弹力；一顶盖，位于主体上方，顶盖内有至少一结合体，与印体相结合，顶盖与印体相互 连动；至少一封盖，封盖两侧端各设一凸轴，且至少一侧设有一勾板；令封盖侧端凸轴能嵌入主体的两侧壁体中，按压该顶盖，顶盖连动该印体向下，使 封盖依凸轴为中心作旋转，而翻转封盖打开，同时用印块作用印的动作。据此，以封盖侧端凸轴经斜滑面滑行，同时由伸缩空间作伸缩功能变化，令封盖侧 端凸轴能嵌入圆形轴孔中而使封盖顺利快速定位于容纳空间中，由于封盖设有渐内缩型槽 沟，封盖在其定位于容纳空间后及印体未往下位移前，用印块上的导块与渐内缩型槽沟的 导滑面的间，自然形成一无阻力空间，当印体欲往下启动时瞬间无须同时负担启动翻转封 盖力道，且当导块行经无阻碍空间后接触到导滑面时，也非垂直(90度)碰触，更可减少启 动翻转封盖力道，封盖即可随印体往下翻转，达到用印行程顺畅均勻。其中，该主体容纳空间两侧壁体设有圆形轴孔。其中，该封盖设有渐内缩型槽沟。其中，该封盖至少设有一伸缩空间，由伸缩空间作伸缩变化，而使封盖定位于主体 容纳空间中。其中，该主体壁体至少设有一斜滑面，使封盖侧端凸轴经斜滑面滑行嵌入主体内。其中，该主体底端组装有止滑体。其中，该印体下方组装一底盖，底盖设有勾端，勾端勾位于印体。其中，该封盖的两个勾板设为不对称，并翻转封盖相互避开，使勾板不碰触一起。其中，该顶盖至少设有一定位钮，定位钮侧移卡住主体，作暂定位印体。其中，该主体至少设有一定位钮，定位钮侧移卡住印体，同样作暂定位印体。其中，该主体与顶盖所包覆的空间内入有一框件为一中空框形体，框件设有粗条， 粗条入于主体与顶盖所包覆空间内所设的止挡缘纵向方位处，外观面设有露出口。其中，该顶盖设有凹入面。其中，该顶盖设有波浪状凹入面，供置入大面积纸张。其中，该主体内部空间设置一透明墨水容器，再于主体外观上至少一面设有透明 体。其中，该主体下方设有标示点作为用印时主体对齐用印处的标示。其中，该顶盖外观面设有抵顶处供用印者用印时手指抵顶。其中，该主体两侧的壁体边缘设有伸缩空间。其中，该印体下方组装一框体，框体作为保护印块周边避免损伤及托住印块内的 内容物。其中，该框体设有导块。一种印章，该印章更包含有一主体，下半部有一容纳空间，上半部有护体围绕，容纳空间顶面设有至少一穿 孔，该容纳空间两侧为壁体；一印体，具有至少一柱体及用印块，柱体穿入主体的穿孔，用印块设有至少一导 块，其中，至少一柱体套设一弹簧与主体相互抵压，具有回复位移的弹力；一顶盖，位于主体上方，顶盖内有至少一结合体，与印体相结合，顶盖与印体相互 连动；至少一封盖，封盖两侧端各设一凸轴，且至少一侧设有一勾板；一调整钮，为一中空框体，该调整钮周边设有凸块，置入于主体与顶盖所包覆的空 间内，调整钮的空间内设有止挡缘，而随调整钮一起旋转的凸块，入于止挡缘纵向方位处；据此，按压该顶盖，顶盖连动该印体向下，使封盖依凸轴为中心作旋转，而翻转封 盖打开，同时用印块作用印的动作，调整钮调整定位用印块吐出的位置及用于平衡锁固用 印。其中，该主体容纳空间两侧壁体设有圆形轴孔。其中，该封盖设有渐内缩型槽沟。其中，该封盖至少设有一伸缩空间，由伸缩空间作伸缩变化，使封盖定位于主体容 纳空间中。其中，该主体壁体至少设有一斜滑面，使封盖侧端凸轴经斜滑面滑行嵌入主体内。其中，该主体底端组装有止滑体。其中，该主体内具有一调整钮，调整钮设有凸块及数组不同高度的凸齿，控制用印 面吐出的程度，顶盖下端内缘至少设有一凹处，凸块以旋入于凹处，使顶盖无法下压，用于 锁固用印。其中，该主体设有不同高度阶梯，调整钮的底部配合主体所设不同高度阶梯的高 低，而调整印体的行程。其中，其中该调整钮另侧设有弧块，弧块底部有凸块，搭配顶盖内设有一勾杆及结 合体，使弧块位于勾杆及结合体的间，并凸块抵挡于勾杆。其中，该顶盖设有凹入面。本专利技术优点及功效在于可使用印者用印行程顺畅均勻翻转启闭封盖，保护用印 面，扩张印块用印面积及加长印章使用寿命，避免印章墨水快速干涸，或沾染周遭对象；也 可以平衡锁固顶盖不能用印，以调整钮控制顶盖与印体的行程及其欲定位位置，可作分段 控制用印的深浅；同时，确实可行性可快速将封盖嵌入定位于容纳空间内。附图说明图1为本专利技术第一实施例的立体分解示意图。图2为本专利技术第一实施例的横向剖面示意图。图3为本专利技术第一实施例的纵向剖面示意图。图4为本专利技术第一实施例操作用印的剖面示意图。图5-1为本专利技术第一实施例底盖上视平面示意图。图5-2为本专利技术第一实施例底盖的横向剖面示意图。图5-3为本专利技术第一实施例底盖的纵向剖面示意图。图6为本专利技术第二实施例实施单一封盖的剖面示意图。图7为本专利技术第二实施例实施单一封盖的操作剖面示意图。图8-1为本专利技术第三实施例实施不对称封盖勾板的剖面示意图。图8-2为本专利技术第三实施例实施定位钮设在主体上的示意图。图9为本专利技术第四实施例的剖面示意图。图10为本专利技术第五实施例的剖面示意图。图11为本专利技术第六实施例的主体及顶盖上视剖面示图。图12为本专利技术第六实施例的主体的剖面(未含顶盖)示意图。图13为本专利技术第七实施例的剖面示意图。图14为本专利技术第八实施例的剖面示意图。图15为本专利技术第八实施例的上视(未结合顶盖)示意图。图16为本专利技术第九实施例立体示意图。图17为本专利技术第十实施例主体具有伸缩空间(隔离空间)尚未伸展(张开)。图18为本专利技术第十一实施例再一样式平面示意图。图19-1为本专利技术第十二实施例的印体上视平面示意图。图19-2为本专利技术第十二实施例的印体横向剖面示意图。图19-3为本专利技术第十二实施例的印体纵向剖面示意图。图19-4为本专利技术第十二实施例的用印块剖面示意图。图19-5为本专利技术第十二实施例的用印块框体上视平面示意图。图19-6为本专利技术第十二实施例的用印块框体剖面示意图。图20本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种印章，其特征在于：该印章包含有：一主体，下半部有一容纳空间，上半部有护体围绕，容纳空间顶面设有至少一穿孔，该容纳空间两侧为壁体；一印体，具有至少一柱体及用印块，柱体穿入主体的穿孔，用印块设有至少一导块，其中，至少一柱体套设一弹簧与主体相互抵压，具有回复位移的弹力；一顶盖，位于主体上方，顶盖内有至少一结合体，与印体相结合，顶盖与印体相互连动；至少一封盖，封盖两侧端各设一凸轴，且至少一侧设有一勾板；据此，令封盖侧端凸轴能嵌入主体的两侧壁体中，按压该顶盖，顶盖连动该印体向下，使封盖依凸轴为中心作旋转，而翻转封盖打开，同时用印块作用印的动作。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：林长亿，
申请(专利权)人：林长亿，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]