衬底处理设备及其制造方法技术

一种制造衬底处理设备的冷却装置的方法，包括：提供具有通孔的铝板；通过阳极氧化铝板形成温度控制部分；以及将温度控制部分布置在衬底支撑部分下方，其中温度控制部分布置成使得衬底支撑部分的支撑杆穿过通孔。得衬底支撑部分的支撑杆穿过通孔。得衬底支撑部分的支撑杆穿过通孔。

【技术实现步骤摘要】
衬底处理设备及其制造方法


[0001]一个或多个实施例涉及衬底处理设备及其制造方法，更具体地，涉及用于在等离子体处理期间在反应器中保持恒定温度的设备及其制造方法。

技术介绍

[0002]在用于位于反应器中的衬底的原位等离子体处理中，衬底安装在基座上，基座安装在加热块上，并且气体通过与衬底相对设置的气体供应装置(例如喷淋头)被供应到衬底。在原位等离子体处理中，向气体供应装置供应高频功率，并且气体在衬底和气体供应装置之间的反应空间中离解并吸附在衬底上，以在衬底上形成薄膜。此时，气体供应装置用作上电极，而其上安装有衬底的加热块用作下电极。加热块、气体供应装置和支撑加热块和气体供应装置的反应器通常被加热到恒定温度以促进处理。例如，为了引发气体和衬底之间的化学反应，除了等离子体之外，还通过加热块加热衬底，热能被供应到衬底，因此气体供应装置和反应器被相应地加热到特定温度。为了防止由于高温导致的过热，反应器另外设置有冷却装置。例如，用于供应外部空气的空气冷却系统或用于供应液体的液体冷却系统另外安装在气体供应装置或反应器中，以将气体供应装置和反应器保持在恒定温本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种制造衬底处理设备的方法，该方法包括：提供具有通孔的铝板；通过阳极氧化铝板形成温度控制部分；以及将温度控制部分布置在衬底支撑部分下方，其中温度控制部分布置成使得衬底支撑部分的支撑杆穿过通孔。2.根据权利要求1所述的方法，其中，在形成所述温度控制部分期间，所述铝板被黑色阳极氧化。3.根据权利要求1所述的方法，其中，在布置所述温度控制部分期间，所述铝板由所述衬底处理设备的至少一个部件固定。4.根据权利要求3所述的方法，其中，所述铝板固定到所述支撑杆。5.根据权利要求3所述的方法，其中，所述衬底处理设备还包括：连接构件，其设置在所述衬底支撑部分的下表面上，其中，所述铝板通过连接构件固定到衬底支撑部分。6.根据权利要求3所述的方法，其中，所述衬底支撑部分配置为至少通过移动单元上下移动，并且所述铝板固定到移动单元。7.根据权利要求1所述的方法，其中，在布置所述温度控制部分期间，所述铝板可拆卸地安置在室上。8.根据权利要求7所述的方法，其中，所述铝板的下表面与所述室的上表面接触，并且铝板吸收的反应空间的辐射热通过室辐射到外部。9.根据权利要求8所述的方法，其中，在形成所述温度控制部分期间执行所述铝板的后处理，其中在后处理期间降低铝板的下表面的粗糙度。10.根据权利要求9所述的方法，其中，所述后处理包括研磨所述铝板的下表面。11.根据权利要求7所述的方法，其中，所述衬底处理设备还包括：传热构件，其布置在所述铝板的下表面和所述室的上表面之间，其中由铝板吸收的反应空间的辐射热通过传热构件和室辐射到外部。12.根据权利要求7所述的方法...

【专利技术属性】
技术研发人员：田星训，B，
申请(专利权)人：ASMIP私人控股有限公司，
类型：发明
国别省市：