一种胶体靶制备用恒温反应釜制造技术

本实用新型专利技术属于胶体钯制备技术领域，尤其为一种胶体靶制备用恒温反应釜，包括调节座、反应釜本体、升降件、调节件和搅拌件，所述调节座上配合安装有反应釜本体，所述反应釜本体一侧的调节座上设置有升降件，所述升降件上配合设置有调节件。本实用新型专利技术设计的胶体靶制备用恒温反应釜，通过调节座的设计，能够使得反应釜发生倾斜调节，并通过搅拌件的配合搅拌作用，使得内部的胶体钯能够均匀混合，确保胶体钯在反应时不会出现反应不彻底不均匀的问题，提高使用效果，且通过升降件和调节件的配合设计，能够将端盖升降操作，控制在反应釜本体上方的盖合状态，便于对反应釜本体内部进行清理，使得内部的胶体钯的排出彻底。使得内部的胶体钯的排出彻底。使得内部的胶体钯的排出彻底。

【技术实现步骤摘要】
一种胶体靶制备用恒温反应釜


[0001]本技术涉及胶体钯制备
，具体为一种胶体靶制备用恒温反应釜。

技术介绍

[0002]胶体钯，是二价锡与钯盐混合配制的溶液，使用胶体钯对塑胶表面进行活化处理，是塑胶表面处理工艺的关键步骤之一，胶体钯在制备的过程中一般会使用到恒温反应釜进行加工，反应釜的广义理解即有物理或化学反应的容器，通过对容器的结构设计与参数配置，实现工艺要求的加热、蒸发、冷却及低高速的混配功能，现有的胶体靶制备用恒温反应釜，混合效果不佳，容易使得胶体钯在反应釜内部分层，出现反应不均匀的问题，且现有的反应釜不能将内部的胶体钯彻底排出，不便于对反应釜内部进行清理。

技术实现思路

[0003](一)解决的技术问题
[0004]针对现有技术的不足，本技术提供了一种胶体靶制备用恒温反应釜，解决了胶体靶制备用恒温反应釜混合效果不佳和不能将内部的胶体钯彻底排出的问题。
[0005](二)技术方案
[0006]本技术为了实现上述目的具体采用以下技术方案：
[0007]一种胶体靶制备用恒温反应釜，包括调节座本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种胶体靶制备用恒温反应釜，包括调节座(1)、反应釜本体(2)、升降件(3)、调节件(4)和搅拌件(5)，其特征在于：所述调节座(1)上配合安装有反应釜本体(2)，所述反应釜本体(2)一侧的调节座(1)上设置有升降件(3)，所述升降件(3)上配合设置有调节件(4)，所述升降件(3)的顶部固定连接有搅拌件(5)，所述搅拌件(5)转动连接在反应釜本体(2)的腔体内，所述调节座(1)由底座(101)、滚轮(102)、转动座(103)、支撑架(104)、连接块(105)、顶板(106)、连接槽(107)和气缸(108)组成，所述底座(101)的底部四角部位处均固定连接有滚轮(102)，所述底座(101)的一侧固定连接有转动座(103)，所述底座(101)的另一侧固定连接有支撑架(104)，所述支撑架(104)与连接块(105)转动连接设置，所述连接块(105)一体成型设置在顶板(106)上，所述顶板(106)上开设有连接槽(107)，所述顶板(106)与气缸(108)的活塞杆转动连接设置，所述气缸(108)的底部转动连接在转动座(103)上。2.根据权利要求1所述的一种胶体靶制备用恒温反应釜，其特征在于：所述反应釜本体(2)的底部配合设置有排液口(201)。3.根据权利要求1所述的一种胶体靶制备用恒温反应釜，其特...

【专利技术属性】
技术研发人员：何礼鑫，
申请(专利权)人：浙江恩森化学科技有限公司，
类型：新型
国别省市：