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本实用新型属于胶体钯制备技术领域，尤其为一种胶体靶制备用恒温反应釜，包括调节座、反应釜本体、升降件、调节件和搅拌件，所述调节座上配合安装有反应釜本体，所述反应釜本体一侧的调节座上设置有升降件，所述升降件上配合设置有调节件。本实用新型设计的胶...
该专利属于浙江恩森化学科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过浙江恩森化学科技有限公司授权不得商用。

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