一种用于气相沉积设备的防漏气升降装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术属于真空镀膜技术领域，涉及一种用于气相沉积设备的防漏气升降装置，包括基座、设于所述基座下部的升降驱动组件和被所述升降驱动组件直线驱动并在所述基座上方升降的载台，所述升降驱动组件包括连接柱，所述连接柱穿过所述基座且上端与所述载台的下表面连接，所述基座与所述载台之间还设有波纹管，所述波纹管的内壁包围于所述连接柱外，所述波纹管的上端与所述载台的表面之间用第一密封件密封连接，所述波纹管的下端与所述基座的表面之间用第二密封件密封连接。本实用新型专利技术通过将波纹管设于升降机构在真空腔内的部分并且在两侧进行静态密封，避免了局部狭缝带来的漏气问题，缩短了抽真空时间，提高了产能。提高了产能。提高了产能。

【技术实现步骤摘要】
一种用于气相沉积设备的防漏气升降装置


[0001]本技术涉及真空镀膜
，特别涉及一种用于气相沉积设备的防漏气升降装置。

技术介绍

[0002]随着社会的发展和科学技术的进步，电子产品更新换代的速度越来越快，单一性功能的产品已不能满足人们的需求，在现有社会中，智能手机、平板电脑等电子产品逐步向轻薄化、智能化、高性能化方向发展，而轻薄化、提升透光率、改善用户体验等任务主要由触控面板和显示面板来担当，而制备这些半导体器件的关键薄膜层，均会采用真空镀膜的方式来实现。
[0003]真空镀膜也可分为物理气相沉积、化学气相沉积等等，这些镀膜工艺的均需要在极低的真空环境中完成，腔体空间越大，其中包含的狭缝类结构越多，抽真空所需要的工艺时间越长。
[0004]中国专利CN 212874428 U披露了一种原位蒸镀的弱等离子刻蚀设备，其中公开了一种升降组件。在这个升降组件中，第一旋转气缸驱动移动板相对蚀刻腔体升降，继而控制样品托的升降，样品托连接于第二旋转气缸驱动的内轴上端，并可以进行旋转。内轴的上下两侧都要进行动态密封，不可能有静态密封那么紧密。波纹管位于蚀刻腔体外，且波纹管与内轴之间必然有一个空间通过狭缝连接到蚀刻腔体。在蚀刻腔体抽真空时，狭缝无法完全隔断空气交换，空间内的气体还是会缓慢通过狭缝进入蚀刻腔体内，抽气时间太短，无法保证真空度，导致工艺质量受影响；而狭缝带来的流动阻力很大，延长了抽真空的工艺时间，导致产能的浪费，增加了生产成本。
[0005]因此有必要开发一种新的升降机构来解决以上问题。r/>
技术实现思路

[0006]本技术的主要目的在于提供一种用于气相沉积设备的防漏气升降装置，能够保证波纹管两边的密封性能，避免狭缝泄漏导致真空度无法保持的问题，缩短了抽真空时间，提高了产能，节省了生产成本。
[0007]本技术通过如下技术方案实现上述目的：一种用于气相沉积设备的防漏气升降装置，包括基座、设于所述基座下部的升降驱动组件和被所述升降驱动组件直线驱动并在所述基座上方升降的载台，所述升降驱动组件包括连接柱，所述连接柱穿过所述基座且上端与所述载台的下表面连接，所述基座与所述载台之间还设有波纹管，所述波纹管的内壁包围于所述连接柱外，所述波纹管的上端与所述载台的表面之间用第一密封件密封连接，所述波纹管的下端与所述基座的表面之间用第二密封件密封连接。
[0008]具体的，所述升降驱动组件还包括连接于所述基座下部的电机座、设于所述电机座上的伺服电机、由所述伺服电机驱动的丝杆以及与所述丝杆螺纹配合的套筒，所述连接柱连接于所述套筒与所述载台之间且所述连接柱的下部具有供所述丝杆穿入的避位腔，所
述电机座与所述基座之间设有竖直导轨，所述套筒上设有与所述竖直导轨配合的滑块。
[0009]进一步的，所述伺服电机的驱动轴与所述丝杆的下端以联轴器连接。
[0010]进一步的，所述电机座与所述基座之间连接有连接平板，所述竖直导轨设置于所述连接平板的内表面。
[0011]进一步的，所述连接平板上沿着所述竖直导轨的方向设置有多个感应器，所述套筒上连接有配合所述感应器的感应片。
[0012]进一步的，所述电机座与所述基座之间还设有围挡组件，所述围挡组件包括若干连接杆、所述连接平板和连接折板，所述连接杆和所述连接折板的上下两端均分别连接于所述电机座与所述基座，所述连接杆与所述连接折板的内表面连接，所述连接折板的两侧边与所述连接平板的两侧边连接。
[0013]本技术技术方案的有益效果是：
[0014]本技术通过将波纹管设于升降机构在真空腔内的部分并且在两侧进行静态密封，避免了局部狭缝带来的漏气问题，缩短了抽真空时间，提高了产能。
附图说明
[0015]图1为实施例防漏气升降机构的立体图；
[0016]图2为实施例防漏气升降机构去掉连接折板时的立体图；
[0017]图3为图2中A位置的局部放大图；
[0018]图4为实施例防漏气升降机构的剖视图。
[0019]图中数字表示：
[0020]1‑
基座；
[0021]2‑
升降驱动组件，21
‑
连接柱，211
‑
避位腔，22
‑
电机座，23
‑
伺服电机，24
‑
丝杆，25
‑
套筒，251
‑
滑块，252
‑
感应片，26
‑
联轴器；
[0022]3‑
载台；
[0023]4‑
波纹管；
[0024]5a
‑
第一密封件，5b
‑
第二密封件；
[0025]6‑
围挡组件，61
‑
连接杆，62
‑
连接平板，63
‑
连接折板；
[0026]7‑
竖直导轨，
[0027]8‑
感应器。
具体实施方式
[0028]下面结合具体实施例对本技术作进一步详细说明。
[0029]实施例：
[0030]如图1至图4所示，本技术的一种用于气相沉积设备的防漏气升降装置，包括基座1、设于基座1下部的升降驱动组件2和被升降驱动组件2直线驱动并在基座1上方升降的载台3，升降驱动组件2包括连接柱21，连接柱21穿过基座1且上端与载台3的下表面连接，基座1与载台3之间还设有波纹管4，波纹管4的内壁包围于连接柱21外，波纹管4的上端与载台3的表面之间用第一密封件5a密封连接，波纹管4的下端与基座1的表面之间用第二密封件5b密封连接。因为升降驱动组件2能使载台3只能沿着上下方向运动，所以波纹管4在升降
驱动组件2伸缩的时候不会发生扭转，那么第一密封件5a和第二密封件5b会保持波纹管4两端的静态密封状态，避免了局部狭缝带来的漏气问题，缩短了抽真空时间，提高了产能。
[0031]如图2和图4所示，升降驱动组件2还包括连接于基座1下部的电机座22、设于电机座22上的伺服电机23、由伺服电机23驱动的丝杆24以及与丝杆24螺纹配合的套筒25，连接柱21连接于套筒25与载台3之间且连接柱21的下部具有供丝杆24穿入的避位腔211，电机座22与基座1之间设有竖直导轨7，套筒25上设有与竖直导轨7配合的滑块251。丝杆24与套筒25之间是螺纹传动的，套筒25与连接柱21连为整体。但是为了保证连接柱21不会转动，套筒25也要利用滑块251与竖直导轨7的配合实现直线移动，这样才能保证波纹管4不发生扭转。丝杆24正转时，连接柱21下降，丝杆24穿入避位腔211，载台3下降，波纹管4压扁；丝杆24反转时，连接柱21上升，丝杆24移出避位腔211，载台3上升，波纹管4拉长。这两个状态下都不影响波纹管4内外空间的隔离。
[0032]如图2和图4所示，伺服电机23的驱动轴与丝杆24的下端以联轴器26连接。伺服电机23本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于气相沉积设备的防漏气升降装置，其特征在于：包括基座、设于所述基座下部的升降驱动组件和被所述升降驱动组件直线驱动并在所述基座上方升降的载台，所述升降驱动组件包括连接柱，所述连接柱穿过所述基座且上端与所述载台的下表面连接，所述基座与所述载台之间还设有波纹管，所述波纹管的内壁包围于所述连接柱外，所述波纹管的上端与所述载台的表面之间用第一密封件密封连接，所述波纹管的下端与所述基座的表面之间用第二密封件密封连接。2.根据权利要求1所述的用于气相沉积设备的防漏气升降装置，其特征在于：所述升降驱动组件还包括连接于所述基座下部的电机座、设于所述电机座上的伺服电机、由所述伺服电机驱动的丝杆以及与所述丝杆螺纹配合的套筒，所述连接柱连接于所述套筒与所述载台之间且所述连接柱的下部具有供所述丝杆穿入的避位腔，所述电机座与所述基座之间设有竖直导轨，所述套筒上设有与所述竖直导轨配合...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨本伟，胡宇航，李伟，周文彬，
申请(专利权)人：昆山晟成光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：