光源参数信息管理方法、光源参数信息管理装置和计算机可读介质制造方法及图纸

光源参数信息管理方法对曝光装置中使用的光源的参数信息进行管理，其中，光源参数信息管理方法包含以下步骤：取得包含如下变量的项目和变量的目标值的优先目标参数信息，该变量的项目是在光源的运转中优先的优先目标参数；根据优先目标参数信息估计维护信息，该维护信息包含表示光源中的消耗品的到维护为止的寿命的值；以及输出维护信息。以及输出维护信息。以及输出维护信息。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光源参数信息管理方法、光源参数信息管理装置和计算机可读介质


[0001]本公开涉及光源参数信息管理方法、光源参数信息管理装置和计算机可读介质。

技术介绍

[0002]近年来，在半导体曝光装置中，随着半导体集成电路的微细化和高集成化，要求分辨率的提高。因此，从曝光用光源发射的光的短波长化得以发展。例如，作为曝光用的气体激光装置，使用输出波长大约为248nm的激光的KrF准分子激光装置、以及输出波长大约为193nm的激光的ArF准分子激光装置。
[0003]KrF准分子激光装置和ArF准分子激光装置的自然振荡光的谱线宽度较宽，大约为350～400pm。因此，在利用使KrF和ArF激光这种紫外线透过的材料构成投影透镜时，有时产生色差。其结果，分辨率可能降低。因此，需要将从气体激光装置输出的激光的谱线宽度窄带化到能够无视色差的程度。因此，在气体激光装置的激光谐振器内，为了使谱线宽度窄带化，有时具有包含窄带化元件(标准具、光栅等)的窄带化模块(Line Narrowing Module：LNM)。下面，将谱线宽度被窄带化的气体激光装置称为窄带化气体激光装置。
[0004]现有技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1：国际公开第2020/161865号
[0007]专利文献2：国际公开第2020/031301号
[0008]专利文献3：国际公开第2019/043780号
[0009]专利文献4：日本特开2010
‑
67794号公报
[0010]专利文献5：美国专利第5383217号
[0011]专利文献6：日本特开平11
‑
121339号公报

技术实现思路

[0012]本公开的一个观点的光源参数信息管理方法对曝光装置中使用的光源的参数信息进行管理，其中，光源参数信息管理方法包含以下步骤：取得包含如下变量的项目和变量的目标值的优先目标参数信息，该变量的项目是在光源的运转中优先的优先目标参数；根据优先目标参数信息估计维护信息，该维护信息包含表示光源中的消耗品的到维护为止的寿命的值；以及输出维护信息。
[0013]本公开的另一个观点的光源参数信息管理装置包含：处理器；以及存储器，其存储有处理器执行的程序，处理器执行程序的命令，由此，处理器进行如下处理：取得包含如下变量的项目和变量的目标值的优先目标参数信息，该变量的项目是在光源的运转中优先的优先目标参数，根据优先目标参数信息估计维护信息，该维护信息包含表示光源中的消耗品的到维护为止的寿命的值，输出维护信息。
[0014]本公开的另一个观点的计算机可读介质是记录有程序的非暂时性的计算机可读
介质，该程序使计算机实现对曝光装置中使用的光源的参数信息进行管理的功能，其中，程序使计算机实现以下功能：取得包含如下变量的项目和变量的目标值的优先目标参数信息，该变量的项目是在光源的运转中优先的优先目标参数；根据优先目标参数信息估计维护信息，该维护信息包含表示光源中的消耗品的到维护为止的寿命的值；以及输出维护信息。
附图说明
[0015]下面，参照附图将本公开的若干个实施方式作为简单例子进行说明。
[0016]图1概略地示出例示的半导体工厂内的半导体制造系统的结构。
[0017]图2概略地示出光刻系统的结构。
[0018]图3示出从曝光控制部向激光控制部输出的发光触发信号的输出模式的例子。
[0019]图4示出晶片上的步进扫描曝光的曝光模式的例子。
[0020]图5示出晶片上的1个扫描场与静态曝光区域之间的关系。
[0021]图6示出静态曝光区域的例子。
[0022]图7概略地示出例示的曝光装置用的光源的结构。
[0023]图8示出实施方式1的半导体制造系统的结构。
[0024]图9是示出实施方式1的半导体制造系统中的整体的处理流程的框图。
[0025]图10是示出数据分析用服务器中的处理内容的例子的流程图。
[0026]图11是示出根据回归曲线求出光源参数的目标值及其范围的方法的曲线图。
[0027]图12是示出光源参数管理用服务器中的处理内容的例子的流程图。
[0028]图13是示出光源参数管理用服务器中的处理内容的例子的流程图。
[0029]图14是示出被应用于图12的步骤S22的子例程的例子的流程图。
[0030]图15是示出被应用于图13的步骤S29和图14的步骤S44的子例程的例子的流程图。
[0031]图16是示出实施方式2的半导体制造系统中的整体的处理流程的框图。
[0032]图17是示出实施方式2的数据分析用服务器中的推荐目标参数信息的确认流程的例子的流程图。
[0033]图18是示出推荐目标参数与曝光性能的参数之间的关系的分析例的曲线图。
[0034]图19是示出实施方式2的光源参数管理用服务器中的处理内容的例子的流程图。
[0035]图20是示出实施方式2的光源参数管理用服务器中的处理内容的例子的流程图。
[0036]图21是示出被应用于图19的步骤S72的子例程的例子的流程图。
[0037]图22是示出被应用于图20的步骤S79和图21的步骤S94的子例程的例子的流程图。
[0038]图23是示出被应用于图22的步骤S106的子例程的例子的流程图。
[0039]图24是示出实施方式3的光源参数管理用服务器中的处理内容的例子的流程图。
[0040]图25是示出被应用于图24的步骤S71的子例程的例子的流程图。
[0041]图26是示出优先目标参数与运转控制参数之间的关系的曲线图的例子。
[0042]图27是示出实施方式4的数据分析用服务器中的处理内容的例子的流程图。
[0043]图28是示出使用回归曲线求出目标谱线宽度及其范围的方法的例子的曲线图。
[0044]图29是示出在谱线宽度为优先目标参数的情况下被应用于图24的步骤S71的子例程的例子的流程图。
[0045]图30是示出谱线宽度与波面调节器的透镜间隔之间的关系的曲线图的例子。
[0046]图31是示出将优先目标参数值设为高脉冲能量的值、将推荐目标参数值设为宽谱线宽度的值的情况下的光源参数管理用服务器中的处理内容的例子的流程图。
[0047]图32是示出脉冲能量与波面调节器的透镜间隔之间的关系的曲线图的例子。
[0048]图33是示出脉冲能量与谱线宽度之间的关系的曲线图的例子。
[0049]图34是示出将优先目标参数值设为高脉冲能量的值、脉冲能量稳定性的参数的范围能够放宽规格的情况下的光源参数管理用服务器中的处理内容的例子的流程图。
[0050]图35是示出卤素气体分压与脉冲能量之间的关系、以及卤素气体分压与脉冲能量稳定性之间的关系的曲线图的例子。
[0051]图36是示出在光性能优先模式中使脉冲本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种光源参数信息管理方法，其对曝光装置中使用的光源的参数信息进行管理，其中，所述光源参数信息管理方法包含以下步骤：取得包含如下变量的项目和所述变量的目标值的优先目标参数信息，该变量的项目是在所述光源的运转中优先的优先目标参数；根据所述优先目标参数信息估计维护信息，该维护信息包含表示所述光源中的消耗品的到维护为止的寿命的值；以及输出所述维护信息。2.根据权利要求1所述的光源参数信息管理方法，其中，从外部装置受理所述优先目标参数信息的输入，将所述维护信息输出到所述外部装置。3.根据权利要求2所述的光源参数信息管理方法，其中，所述光源参数信息管理方法还包含以下步骤：从所述外部装置取得表示是否许可所述光源的运转的许可信号或不许可信号。4.根据权利要求3所述的光源参数信息管理方法，其中，所述光源参数信息管理方法还包含以下步骤：在从所述外部装置得到了许可所述光源的运转的所述许可信号的情况下，对所述光源设定所述优先目标参数信息，对所述光源进行控制。5.根据权利要求4所述的光源参数信息管理方法，其中，所述光源参数信息管理方法还包含以下步骤：根据所述光源的运转中的数据，估计设定了所述优先目标参数信息时的所述光源的所述维护信息。6.根据权利要求5所述的光源参数信息管理方法，其中，所述光源参数信息管理方法还包含以下步骤：将根据所述运转中的数据估计的所述维护信息输出到所述外部装置。7.根据权利要求3所述的光源参数信息管理方法，其中，所述光源参数信息管理方法还包含以下步骤：在从所述外部装置得到了不许可所述光源的运转的不许可信号的情况下，停止所述光源的运转。8.根据权利要求1所述的光源参数信息管理方法，其中，所述优先目标参数信息包含作为所述优先目标参数的第1变量的第1目标值和表示所述第1变量的数值范围的第2变量的第2目标值。9.根据权利要求1所述的光源参数信息管理方法，其中，所述优先目标参数信息包含目标谱特性参数信息、目标输出特性参数信息和目标消耗量信息中的至少一方。10.根据权利要求1所述的光源参数信息管理方法，其中，所述维护信息包含所述消耗品的到维护为止的剩余脉冲数和剩余时间中的至少一方的值，作为表示所述消耗品的所述寿命的值。11.根据权利要求1所述的光源参数信息管理方法，其中，所述维护信息的估计包含以下步骤：将对所述光源设定所述优先目标参数信息并使所述光源进行调整运转而得到的运转数据输入到学习完毕的机器学习模型，从所述机器学习模型输出所述消耗品的劣化度；以
及根据所述劣化度求出表示所述消耗品的寿命的值。1...

【专利技术属性】
技术研发人员：峰岸裕司，若林理，
申请(专利权)人：极光先进雷射株式会社，
类型：发明
国别省市：