一种空间式工作设备制造技术

本发明专利技术公开了一种空间式工作设备，包括：元器件单元；支撑架，至少一侧形成转移窗口；工作台空间，形成于支撑架，其至少包括第一工作台单元，与第一工作台单元相对设置的第二工作台单元，及第三工作台单元，所述第一工作台单元和/或第二工作台单元和/或第三工作台单元上设有执行机构；第一工作台单元和/或第二工作台单元和/或第三工作台单元可从转移窗口脱离支撑架。本发明专利技术将支撑架的顶部、底部、侧部空间均进行有效利用，最大化程度利用工作空间，增加或者优化执行机构的功能及布局；不局限于单层工作台，第一工作台单元和第二工作台单元实现了上下双层工作台；可以实现任意布局，适应不同的工艺需求；可以实现单工位抛光单元服务多工位。务多工位。务多工位。

【技术实现步骤摘要】
一种空间式工作设备


[0001]本专利技术属于半导体集成电路芯片制造领域，尤其是涉及一种空间式工作设备。

技术介绍

[0002]化学机械抛光平坦化(Chemical Mechanical Planarization，简称CMP)设备通常包括半导体设备前端模块(EFEM)、清洗单元和抛光单元。EFEM主要包括存放晶圆的片盒、传片机械手和空气净化系统等；清洗单元主要包括数量不等的兆声波清洗部件、滚刷清洗部件、干燥部件和各部件之间传输晶圆的装置等；抛光单元通常包括工作台、抛光盘、抛光头、抛光臂、修整器、抛光液臂等部件，每个部件按照工艺加工位置布置在工作台上。在晶圆抛光过程中会使用大量的化学液，抛光工作台通常会用金属板表面喷涂抗腐蚀涂层以延长工作台的使用寿命。抗腐蚀涂层在长期使用后会逐渐变薄至出现局部金属裸露，导致金属板暴露在抛光液中腐蚀，机械强度降低。所以需要将工作台拆出重新喷涂。
[0003]目前CMP设备的工作台为整体式，使得无法多次任意修改抛光单元的布局，若想额外新增抛光功能，原整体式工作台无法新增。此外，在不重新设计抛光模组结构的情况下无法做到抛光模组高度的任意调整。对于多工位类设备而言，由于整体式工作台的抛光布局无法做到任意性更改，使得其单个工位内部的工作单元只能服务自身工位，无法做到单个工作单元服务多工位。局部失效导致整个工作台无法使用，成本过大。抛光单元的安装区域仅限于单层工作台，使得抛光区域的空间利用率不高。

技术实现思路

[0004]为了克服现有技术的不足，本专利技术提供一种有效利用空间位置，可以增加或优化执行机构的功能和布局，维护和安装方便的空间式工作设备。
[0005]本专利技术解决其技术问题所采用的技术方案是：一种空间式工作设备，包括：
[0006]元器件单元；
[0007]支撑架，至少一侧形成转移窗口；
[0008]工作台空间，形成于所述支撑架，其至少包括第一工作台单元，与第一工作台单元相对设置的第二工作台单元，及第三工作台单元，所述第一工作台单元和/或第二工作台单元和/或第三工作台单元上设有执行机构；
[0009]所述第一工作台单元和/或第二工作台单元和/或第三工作台单元可从转移窗口脱离支撑架。
[0010]进一步的，所述第二工作台单元的执行机构向第一工作台单元所在方向向下悬挂设置。
[0011]进一步的，所述第一工作台单元和第二工作台单元平行设置，所述第三工作台单元垂直设于第一工作台单元和第二工作台单元之间。
[0012]进一步的，所述第三工作台单元的执行机构向支撑架内侧延伸、并悬挂设置在第一工作台单元上方。
[0013]进一步的，所述第一工作台单元和/或第二工作台单元和/或第三工作台单元为一体式结构，或者为多个分块式工作台。
[0014]进一步的，所述第一工作台单元和/或第二工作台单元与所述支撑架具有至少两个支撑点。
[0015]进一步的，所述第一工作台单元和/或第二工作台单元和/或第三工作台单元为多个分块式工作台，所述支撑架上设有第一活动梁和第二活动梁，所述第一工作台单元架设在该第一活动梁上，所述第二工作台单元架设在该第二活动梁上。
[0016]进一步的，所述第一工作台单元和/或第二工作台单元包括多个分块式工作台，及承托件，所述多个分块式工作台放置于承托件，该承托件与支撑架具有至少两个支撑点。
[0017]进一步的，还包括调整机构，其设于第一工作台单元和/或第二工作台单元的下方、所述支撑点位置，用于调整第一工作台单元和/或第二工作台单元的水平。
[0018]进一步的，所述调整机构还用于调整第一工作台单元和/或第二工作台单元的高度。
[0019]进一步的，所述第三工作台单元的数量为三个，所述支撑架的一侧形成转移窗口。
[0020]进一步的，所述第一工作台单元上的执行机构包括抛光盘，抛光臂，修整器；所述第二工作台单元上的执行机构包括供液臂；所述第三工作台单元上的执行机构包括预处理辅助模组。
[0021]进一步的，所述元器件单元设于支撑架的底部。
[0022]本专利技术的有益效果是，1)将支撑架的顶部、底部、侧部空间均进行有效利用，最大化程度利用工作空间，增加或者优化执行机构的功能及布局；2)不局限于单层工作台，第一工作台单元和第二工作台单元实现了上下双层工作台；3)可以实现任意布局，适应不同的工艺需求；4)可以实现单工位抛光单元服务多工位；5)若需维护工作台，拆除调整机构与工作台的连接，便可以将任意工位的执行机构以活动的方式进行拆卸，无需拆除支撑架及其相连的所有部件；同样，安装调整机构后，重新完成调整机构与工作台连接并通过调节每处调整机构的高度使每个抛光单元位于水平；6)工作台单元可以从转移窗口脱离支撑架，方便维护，而且通过工作台单元的更换就能实现单一机台对应多工艺的效果，适用性更广；7)调整机构设置在支撑点位置，通过调节调整机构来调节工作台每个支撑点的高度，进而调节工作台处于水平位置；8)当工作台为多个分块式工作台时，可根据工艺需求，对执行机构内部的模组(以抛光单元为例，此处的模组指的是抛光盘、抛光臂、修整器、供液臂等)进行灵活排列，任意定义布局，并且模组可以任意替换，同时，可通过调整机构定义执行机构内部各模组的高度；9)当工作台为多个分块式工作台时，各分块式工作台的形状及数目可根据工艺需求进行选择，从而实现所需功能；当想新增功能时，可额外新加分块式工作台进行单独安装或替换，当想减少模块时可单独拆除，单个分块式工作台失效也可局部进行替换；10)安装效率高，减少工作台单元的拆装工作量，只需拆卸和安装工作台及调整机构，无需拆卸其余支撑架及其他执行机构，且执行机构可单独维护不影响其他工位的运行；11)相比较与整体式工作台，可分块式工作台调节精度更高，调整机构调节量更容易控制，能完成较微小调整，对执行机构位置进行精细调节；12)执行机构布局及执行机构高度可任意调节，可满足更多的工艺需求。
附图说明
[0023]图1为本专利技术的立体图，此时工作台为一体式结构。
[0024]图2为本专利技术的立体图，此时工作台为多个分块式工作台。
[0025]图3为本专利技术中CMP设备的结构示意图。
[0026]图4为本专利技术中第一工作台单元为一体式结构的局部示意图。
[0027]图5为本专利技术的拆分结构示意图，此时第一工作台单元从支撑架的转移窗口移出，第二工作台单元和第三工作台单元未示出。
[0028]图6为本专利技术中第一工作台单元的部分和部分支撑架的配合结构示意图，此时第一工作台单元为一体式结构。
[0029]图7为本专利技术中CMP设备的结构示意图，此时第二工作台单元和第三工作台单元未示出，第一工作台单元为一体式结构。
[0030]图8为本专利技术中第一工作台单元为分块式工作台的局部示意图。
[0031]图9为本专利技术的拆分结构示意图，此时第一工作台单元从支撑架的转移窗口移出，第二工作台单元和第三工作台单元未示出。
[0032]图1本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种空间式工作设备，其特征在于，包括：元器件单元；支撑架，至少一侧形成转移窗口；工作台空间，形成于所述支撑架，其至少包括第一工作台单元，与第一工作台单元相对设置的第二工作台单元，及第三工作台单元，所述第一工作台单元和/或第二工作台单元和/或第三工作台单元上设有执行机构；所述第一工作台单元和/或第二工作台单元和/或第三工作台单元可从转移窗口脱离支撑架。2.根据权利要求1所述的空间式工作设备，其特征在于：所述第二工作台单元的执行机构向第一工作台单元所在方向向下悬挂设置。3.根据权利要求1所述的空间式工作设备，其特征在于：所述第一工作台单元和第二工作台单元平行设置，所述第三工作台单元垂直设于第一工作台单元和第二工作台单元之间。4.根据权利要求3所述的空间式工作设备，其特征在于：所述第三工作台单元的执行机构向支撑架内侧延伸、并悬挂设置在第一工作台单元上方。5.根据权利要求1所述的空间式工作设备，其特征在于：所述第一工作台单元和/或第二工作台单元和/或第三工作台单元为一体式结构，或者为多个分块式工作台。6.根据权利要求1所述的空间式工作设备，其特征在于：所述第一工作台单元和/或第二工作台单元与所述支撑架具有至少两个支撑点。7.根据权利要求1所述的空间式工作设备，其特征在于：所述第一工作...

【专利技术属性】
技术研发人员：时泽健，徐枭宇，朱政挺，
申请(专利权)人：杭州众硅电子科技有限公司，
类型：发明
国别省市：