一种通气均匀的等离子清洗模块及等离子清洗设备制造技术

本实用新型专利技术涉及等离子蚀刻的技术领域，公开了一种通气均匀的等离子清洗模块及等离子清洗设备，所述通气均匀的等离子清洗模块包括两个气排组件及设置于两所述气排组件之间的至少两个电极板，多个所述电极板沿一方向依次间隔布置，相邻的两块所述电极板之间均具有用于供待清洗物体放置的间隙，两所述气排组件用于向所述间隙内相对地喷射待离化气体，相邻两块所述电极板的极性相反，以使所述间隙内的待离化气体能够离化为用于清洗物体的等离子。本申请主要解决现有的等离子清洗模块存在通气不均匀的技术问题。不均匀的技术问题。不均匀的技术问题。

【技术实现步骤摘要】
一种通气均匀的等离子清洗模块及等离子清洗设备


[0001]本技术涉及等离子蚀刻的
，尤其涉及一种通气均匀的等离子清洗模块及等离子清洗设备。

技术介绍

[0002]在印制电路板特别是高密度互连电路板的制作中，在激光加工盲孔或者机械钻通孔之后，需要进行孔金属化过程，使印制电路板的层与层之间通过金属化的孔实现电气导通。但是，激光孔或者机械孔因为在钻孔过程中存在着局部高温，使得在钻孔后往往有残留的胶状物质附在孔内，为防止后续金属化过程出现质量问题，金属化过程之前必须将孔内的胶状物质除去。
[0003]目前，使用等离子清洗设备去除孔内残胶成为行业内最常用的手段，其原理是将装有电路板的腔体抽真空后，通入氧气和四氟化碳的混合气体，在位于电路板两侧的电极板上施加高频转换的高压交变电场，使得混合气体产生活性等离子体，以此，在物理、化学双重作用下对清洗的电路板进行轰击，以去除电路板表面及孔内的残胶，最后达到清洗电路板的目的。
[0004]具体的，现有的等离子清洗设备内通常设置有气排组件，通过气排组件向相邻两块电极板之间的电路板通入氧气和四氟化碳的混合气体，由于相邻两块电极板之间的间隙只有一个方向通气，所以混合气体在间隙内存在分布不均匀的问题，从而导致相邻两块电极板之间的间隙内的活性等离子体的分布也不均匀，进而导致电路板清洗不均匀的问题，具体而言，电路板靠近气排组件的部分的清洗程度会比远离气排组件的部分的清洗程度要好。

技术实现思路

[0005]本技术的目的在于提供一种通气均匀的等离子清洗模块及等离子清洗设备，主要解决现有的等离子清洗模块存在通气不均匀的技术问题。
[0006]为达此目的，本技术采用以下技术方案：
[0007]一种通气均匀的等离子清洗模块，包括两个气排组件及设置于两所述气排组件之间的至少两个电极板，多个所述电极板沿一方向依次间隔布置，相邻的两块所述电极板之间均具有用于供待清洗物体放置的间隙，两所述气排组件用于向所述间隙内相对地喷射待离化气体，相邻两块所述电极板的极性相反，以使所述间隙内的待离化气体能够离化为用于清洗物体的等离子体。
[0008]在其中一个实施例中，所述气排组件包括连通管及多个分别连接所述连通管的出气管，所述连通管连通多个所述出气管，并用于向多个所述出气管提供待离化气体，所述出气管沿所述电极板的长度方向延伸并用于供待离化气体进入所述间隙内。
[0009]在其中一个实施例中，其中一个所述气排组件内的出气管的进气方向和另外一个所述气排组件内的出气管的进气方向相反。
[0010]在其中一个实施例中，所述出气管包括内层管及套设于所述内层管外周的外层管，所述内层管的外壁和所述外层管的内壁之间具有缓冲室，所述内层管设置有与所述连通管的内部连通的进气通道，所述内层管的管壁上开设有分别连通所述进气通道和所述缓冲室的通气孔，所述外层管在正对所述间隙的管壁上设置有多个与所述缓冲室相连通的出气孔。
[0011]在其中一个实施例中，所述外层管在正对所述间隙的管壁上设置有两排所述出气孔，每排所述出气孔均沿所述电极板的长度方向延伸。
[0012]在其中一个实施例中，两排出气孔沿所述电极板的长度方向相互错开。
[0013]在其中一个实施例中，所述间隙被待清洗物体分隔为第一清洗区域和第二清洗区域，其中一排所述出气孔的出气方向正对所述第一清洗区域，另外一排所述出气孔的出气方向正对所述第二清洗区域。
[0014]在其中一个实施例中，两所述气排组件各连接一个调节阀，所述调节阀用于调节所述气排组件喷射待离化气体的流量。
[0015]在其中一个实施例中，所述等离子清洗模块还包括料框，所述料框用于装夹至少一块待清洗物体，所述料框用于向所述间隙插入待清洗物体。
[0016]本申请还提供了一种等离子清洗设备，包括上述任一项所述的通气均匀的等离子清洗模块，所述等离子清洗设备包括蚀刻箱体，所述蚀刻箱体的内部具有蚀刻腔室；所述通气均匀的等离子清洗模块置于所述蚀刻腔室内。
[0017]与现有技术相比，本技术提供的通气均匀的等离子清洗模块至少具有以下的有益效果：
[0018]本技术方案设置了两个气排组件，并将两个气排组件设置为相对地向相邻两个电极板之间的间隙喷射待离化气体，使得两个电极板之间的间隙内的气体分布更加均匀，从而使得相邻两块电极板之间的间隙内的等离子体的分布也更加均匀，进而改善清洗电路板的均匀程度。
附图说明
[0019]为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。
[0020]图1为本申请实施例提供的一种等离子清洗设备的结构示意图；
[0021]图2为本申请实施例提供的一种等离子清洗设备的结构简图；
[0022]图3为本申请实施例提供的通气均匀的等离子清洗模块的结构示意图；
[0023]图4为本申请实施例提供的通气均匀的等离子清洗模块的侧视图；
[0024]图5为本申请实施例提供的两个气排组件的结构示意图；
[0025]图6为本申请实施例提供的出气管的侧视图；
[0026]图7为图6中A处的局部放大图；
[0027]图8为本申请实施例提供的出气管的截面图。
[0028]其中，图中各附图标记：
[0029]10、蚀刻箱体；101、蚀刻腔室；102、抽气口；
[0030]20、通气均匀的等离子清洗模块；201、气排组件；2011、连通管；20111、进气口；2012、出气管；20121、内层管；201211、进气通道；201212、通气孔；20122、外层管；201221、出气孔；20123、缓冲室；202、电极板；203、间隙；2031、第一清洗区域；2032、第二清洗区域；
[0031]30、料框；40、第一导电杆；50、第二导电杆；60、电源；70、流量计；80、压力计；90、真空泵；100、电路板。
具体实施方式
[0032]为了使本申请所要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本申请进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本申请，并不用于限定本申请。
[0033]需要说明的是，当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者间接在该另一个元件上。当一个元件被称为是“连接于”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或间接连接至该另一个元件上。
[0034]需要理解的是，术语、“上”、“下”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种通气均匀的等离子清洗模块，其特征在于，包括两个气排组件(201)及设置于两所述气排组件(201)之间的至少两个电极板(202)，多个所述电极板(202)沿一方向依次间隔布置，相邻的两块所述电极板(202)之间均具有用于供待清洗物体放置的间隙(203)，两所述气排组件(201)用于向所述间隙(203)内相对地喷射待离化气体，相邻两块所述电极板(202)的极性相反，以使所述间隙(203)内的待离化气体能够离化为用于清洗物体的等离子体。2.如权利要求1所述的通气均匀的等离子清洗模块，其特征在于，所述气排组件(201)包括连通管(2011)及多个分别连接所述连通管(2011)的出气管(2012)，所述连通管(2011)连通多个所述出气管(2012)，并用于向多个所述出气管(2012)提供待离化气体，所述出气管(2012)沿所述电极板(202)的长度方向延伸并用于供待离化气体进入所述间隙(203)内。3.如权利要求2所述的通气均匀的等离子清洗模块，其特征在于，其中一个所述气排组件(201)内的出气管(2012)的进气方向和另外一个所述气排组件(201)内的出气管(2012)的进气方向相反。4.如权利要求2所述的通气均匀的等离子清洗模块，其特征在于，所述出气管(2012)包括内层管(20121)及套设于所述内层管(20121)外周的外层管(20122)，所述内层管(20121)的外壁和所述外层管(20122)的内壁之间具有缓冲室(20123)，所述内层管(20121)设置有与所述连通管(2011)的内部连通的进气通道(201211)，所述内层管(20121)的管壁上开设有分别连通所述进气通道(201211)和所述缓冲室(...

【专利技术属性】
技术研发人员：王俊锋，彭子阳，周敏，黎志跃，刘谋苗，冯瑞清，李辉，邓进彪，谢文彪，叶荣康，
申请(专利权)人：广东鼎泰机器人科技有限公司，
类型：新型
国别省市：