对易风化晶型生长有阻滞作用的配合物晶体合成装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种对易风化晶型生长有阻滞作用的配合物晶体合成装置，属于单晶生长领域。在常温、常压配合物小晶体溶剂挥发法合成探索工作中，常会出现一些带有大量结晶水的晶体产物，这类晶体产物既不易解析又会快速风化、崩解，本案旨在抑制该类晶体的形成。本案装置包括一个水槽以及多孔洞的盖板，本案要点是，装置的结构包括与各孔洞边沿贴附在一起的用于嵌置烧杯或试管的环形弹性件，以及，超声波换能器，该超声波换能器装设在水槽的底部位置或侧壁位置，以及，带有阀门的进出水接口，所述进出水接口装设在水槽的底部位置或侧壁位置。本案装置利用持续不断的低功率的超声波来抑制那些含太多结晶水的结构相对松垮的晶型生长。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种对易风化晶型生长有阻滞作用的配合物晶体合成装置，属于C30B单晶生长领域。
技术介绍
配合物小晶体的合成探索、结构分析及其应用评价等研究工作具有双重意 义， 一方面，有助于进一步深入地探求相关科学规律，另一方面，某些具有潜 在应用前景的新型功能性晶体材料也有望在这一过程中得以揭示。这类研究中，首先要做的事情，是探査新晶体的合成条件，其中，室温或 近室温条件下的溶剂挥发法因其温和的方式而通常被优先关注。由于存在诸多的可能影响配合物小晶体生长速率及晶体品质的条件因素， 因而，筛査性的合成实验通常是必须的，这一类筛查性实验一般选择同时使用 许多的小烧杯或试管展开平行的合成探查，优先选择小烧杯或试管是由这类实 验的剂量以及与这种剂量相适应的溶剂挥发合成手段决定的。上述实验通常只涉及数毫升至数十毫升滤清反应液这样一种较小的反应剂 量。大体的合成步骤是，先将按设计配制的各滤清反应液分别置于不同的烧杯 或试管里，在各小烧杯或试管的口部包覆开有一些微小空洞的聚乙烯膜，然后， 将各小烧杯或试管静置于室内通风处，各小烧杯或试管内的溶剂经由各聚乙烯 覆膜上的微小空洞缓慢挥发，逐渐反应本文档来自技高网...

【技术保护点】
对易风化晶型生长有阻滞作用的配合物晶体合成装置，包括一个水槽，该水槽是槽形物，以及，带有许多孔洞的盖板，该盖板是活动的盖板，其特征是，该装置的结构还包括环形弹性件，该环形弹性件与所述孔洞的边沿贴附地装设在一起，每一个所述孔洞对应装设一个所述环形弹性件，以及，超声波换能器，该超声波换能器的装设位置是在水槽的底部位置或水槽的侧壁位置，以及，进水接口和出水接口，所述进水接口和出水接口均与水槽内部联通，所述进水接口和出水接口的装设位置是在水槽的侧壁位置或底部位置，所述进水接口是装设有进水阀门的进水接口，所述出水接口是装设有出水阀门的出水接口。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：李榕生，杨欣，黄文光，孙杰，李月娇，王鲁雁，王峰，巫远招，孔祖萍，姜晶晶，陈涵，陈仙雄，
申请(专利权)人：宁波大学，
类型：发明
国别省市：97[中国|宁波]