本发明专利技术提供一种蒸镀掩膜板，包括掩膜层和固定框架，掩膜层包括多个蒸镀开孔区、四周边缘区和呈网状分布的间隔区，多个蒸镀开孔区排布呈阵列，四周边缘区围设于蒸镀开孔区阵列的外围，间隔区位于任意相邻两个蒸镀开孔区之间，蒸镀开孔区与待镀基板的显示区相对应，还包括中间结构层，固定框架、中间结构层和掩膜层依次叠置，中间结构层和固定框架在掩膜层上的正投影与蒸镀开孔区不交叠；中间结构层能对掩膜层进行支撑和固定。该蒸镀掩膜板能解决目前电铸掩膜板容易出现变形和褶皱不良的问题。前电铸掩膜板容易出现变形和褶皱不良的问题。前电铸掩膜板容易出现变形和褶皱不良的问题。
【技术实现步骤摘要】
蒸镀掩膜板
[0001]本公开实施例属于显示
，具体涉及一种蒸镀掩膜板。
技术介绍
[0002]OLED(Organic Light
‑
Emitting Diode，有机发光二极管)显示产品因具有自发光，色彩丰富、可弯曲、可折叠等特性，被越来越多的应用于显示产品中。
[0003]AMOLED(Active
‑
matrix Organic Light
‑
Emitting Diode，有源矩阵有机发光二极管)显示面板中发光器件的有机发光材料，通常采用真空蒸镀工艺制备而成。蒸镀工艺制备显示面板内高分辨率的红、绿、蓝子像素图形，使用精密金属掩膜板来实现，掩膜板上的精密开孔图形限定了有机发光材料精准并可控地蒸镀到基板上。
技术实现思路
[0004]针对目前存在的电铸掩膜板容易出现变形和褶皱不良的问题，本专利技术提供一种蒸镀掩膜板，该蒸镀掩膜板，一方面，在进行掩膜层与电铸基板之间的剥离工艺时，掩膜层不会发生变形和破损；另一方面，中间结构层和掩膜层作为整体结构与固定框架组装，可实现手持转移而掩膜层不发生柔性变形的效果，中间结构层作为连接层与固定框架组装，避免常规张网工艺对掩膜层直接施加拉力，从而避免掩膜层在张网工艺中产生褶皱变形的问题。
[0005]本公开实施例提供一种蒸镀掩膜板，包括掩膜层和固定框架，
[0006]所述掩膜层包括多个蒸镀开孔区、四周边缘区和呈网状分布的间隔区，
[0007]所述多个蒸镀开孔区排布呈阵列，所述四周边缘区围设于所述蒸镀开孔区阵列的外围，所述间隔区位于任意相邻两个所述蒸镀开孔区之间，
[0008]所述蒸镀开孔区与待镀基板的显示区相对应，
[0009]还包括中间结构层，
[0010]所述固定框架、所述中间结构层和所述掩膜层依次叠置，
[0011]所述中间结构层和所述固定框架在所述掩膜层上的正投影与所述蒸镀开孔区不交叠；
[0012]所述中间结构层能对所述掩膜层进行支撑和固定。
[0013]可选地，所述中间结构层在所述掩膜层上的正投影与所述四周边缘区和所述间隔区交叠。
[0014]可选地，所述中间结构层在所述掩膜层上的正投影与距离其最近的所述蒸镀开孔区边缘之间的最短距离范围为2～3mm。
[0015]可选地，所述中间结构层在对应所述掩膜层的所述四周边缘区的区域开设有镂空图案，
[0016]所述镂空图案在所述掩膜层上的正投影围设于所述蒸镀开孔区阵列的外围，且所述镂空图案在所述掩膜层上的正投影均匀分布于所述蒸镀开孔区阵列的四周。
[0017]可选地，所述镂空图案在所述掩膜层上的正投影形状包括条形、圆形、矩形、三角形、椭圆形、正多边形中的任意一种或者多种。
[0018]可选地，所述中间结构层在所述掩膜层上的正投影与所述四周边缘区交叠。
[0019]可选地，所述中间结构层在所述掩膜层上的正投影与距离其最近的所述蒸镀开孔区内距离其最近的开孔边缘之间的最短距离范围为15～40mm。
[0020]可选地，所述掩膜层的四周边缘在所述中间结构层上的正投影位于所述中间结构层上，
[0021]且所述掩膜层的任意一侧边缘在所述中间结构层上的正投影与所述中间结构层的相应侧边缘之间的距离大于0；
[0022]所述中间结构层的四周边缘区域在所述固定框架上的正投影与所述掩膜层在所述固定框架上的正投影不交叠，
[0023]所述固定框架与所述中间结构层的和所述掩膜层正投影不交叠的四周边缘区域在所述固定框架上的正投影交叠且连接。
[0024]可选地，所述中间结构层的厚度范围为0.5～1mm。
[0025]可选地，所述掩膜层包括第一子层和第二子层，所述第一子层和所述第二子层叠置，
[0026]所述第一子层包括所述多个蒸镀开孔区、所述四周边缘区和所述呈网状分布的间隔区，
[0027]所述第二子层在所述第一子层上的正投影与所述蒸镀开孔区不交叠。
[0028]可选地，所述第二子层在所述第一子层上的正投影与所述第一子层的所述四周边缘区和所述间隔区交叠，
[0029]或者，所述第二子层在所述第一子层上的正投影与所述第一子层的所述四周边缘区交叠，且所述第二子层在所述第一子层上的正投影与所述第一子层的所述间隔区不交叠。
[0030]可选地，所述第一子层的厚度范围为5～10μm，
[0031]所述第二子层的厚度范围为5～30μm。
[0032]可选地，所述掩膜层包括主体掩膜、第一对位掩膜和第二对位掩膜，
[0033]所述主体掩膜包括所述多个蒸镀开孔区、所述四周边缘区和所述呈网状分布的间隔区，
[0034]所述第一对位掩膜和所述第二对位掩膜在所述中间结构层上的正投影与所述中间结构层交叠，
[0035]所述第一对位掩膜和所述第二对位掩膜在所述中间结构层上的正投影分别位于所述主体掩膜在所述中间结构层上正投影的相对两边，且所述第一对位掩膜和所述第二对位掩膜与所述主体掩膜在所述中间结构层上的正投影相互间隔；
[0036]所述第一对位掩膜中开设有第一对位孔，所述第二对位掩膜中开设有第二对位孔，所述第一对位孔和所述第二对位孔用于所述蒸镀掩膜板与待镀基板之间的对位。
[0037]可选地，所述中间结构层和所述掩膜层之间设置有连接结构，
[0038]所述连接结构位于所述中间结构层和所述掩膜层的正投影交叠区域；
[0039]所述连接结构包括粘结胶、磁铁、焊接结构和电镀结构中的任意一者。
[0040]可选地，所述掩膜层采用镍、铁合金或镍、钴合金中的任意一种，
[0041]所述中间结构层采用因瓦合金、镍、铁、钴等金属或金属合金中的任意一种。
[0042]本专利技术实施例的有益效果：本专利技术所提供的蒸镀掩膜板，通过在掩膜层与固定框架之间设置中间结构层，一方面，在进行掩膜层与电铸基板之间的剥离工艺时，掩膜层不会发生变形和破损；另一方面，中间结构层和掩膜层作为整体结构与固定框架组装，可实现手持转移而掩膜层不发生柔性变形的效果，中间结构层作为连接层与固定框架组装，避免常规张网工艺对掩膜层直接施加拉力，从而避免掩膜层在张网工艺中产生褶皱变形的问题；再一方面，通过中间结构层与掩膜层的匹配设计，能够改善中间结构层与掩膜层形成的整体结构在蒸镀工艺中的下垂和磁力吸附稳定性，最终改善蒸镀子像素图形的品质，实现形状完整且无阴影效果的高质量子像素图形，提升显示屏的显示效果。
附图说明
[0043]附图用来提供对本公开实施例的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本公开实施例一起用于解释本公开，并不构成对本公开的限制。通过参考附图对详细示例实施例进行描述，以上和其它特征和优点对本领域技术人员将变得更加显而易见，在附图中：
[0044]图1a为目前刻蚀法制备的金属掩膜板上阵列开孔图形的俯视示意图；
[0045]图1b为目前金属掩膜板上设计的阵列本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种蒸镀掩膜板，包括掩膜层和固定框架，所述掩膜层包括多个蒸镀开孔区、四周边缘区和呈网状分布的间隔区，所述多个蒸镀开孔区排布呈阵列，所述四周边缘区围设于所述蒸镀开孔区阵列的外围，所述间隔区位于任意相邻两个所述蒸镀开孔区之间，所述蒸镀开孔区与待镀基板的显示区相对应，其特征在于，还包括中间结构层，所述固定框架、所述中间结构层和所述掩膜层依次叠置，所述中间结构层和所述固定框架在所述掩膜层上的正投影与所述蒸镀开孔区不交叠；所述中间结构层能对所述掩膜层进行支撑和固定。2.根据权利要求1所述的蒸镀掩膜板，其特征在于，所述中间结构层在所述掩膜层上的正投影与所述四周边缘区和所述间隔区交叠。3.根据权利要求2所述的蒸镀掩膜板，其特征在于，所述中间结构层在所述掩膜层上的正投影与距离其最近的所述蒸镀开孔区边缘之间的最短距离范围为2～3mm。4.根据权利要求2或3所述的蒸镀掩膜板，其特征在于，所述中间结构层在对应所述掩膜层的所述四周边缘区的区域开设有镂空图案，所述镂空图案在所述掩膜层上的正投影围设于所述蒸镀开孔区阵列的外围，且所述镂空图案在所述掩膜层上的正投影均匀分布于所述蒸镀开孔区阵列的四周。5.根据权利要求4所述的蒸镀掩膜板，其特征在于，所述镂空图案在所述掩膜层上的正投影形状包括条形、圆形、矩形、三角形、椭圆形、正多边形中的任意一种或者多种。6.根据权利要求1所述的蒸镀掩膜板，其特征在于，所述中间结构层在所述掩膜层上的正投影与所述四周边缘区交叠。7.根据权利要求6所述的蒸镀掩膜板，其特征在于，所述中间结构层在所述掩膜层上的正投影与距离其最近的所述蒸镀开孔区内距离其最近的开孔边缘之间的最短距离范围为15～40mm。8.根据权利要求1所述的蒸镀掩膜板，其特征在于，所述掩膜层的四周边缘在所述中间结构层上的正投影位于所述中间结构层上，且所述掩膜层的任意一侧边缘在所述中间结构层上的正投影与所述中间结构层的相应侧边缘之间的距离大于0；所述中间结构层的四周边缘区域在所述固定框架上的正投影与所述掩膜层在所述固定框架上的正投影不交叠，所述固定框架与所述中间结构层的和所述掩膜层正投影不交叠的四周边缘区域在所述固定框架上的正投影交叠且连接。9.根据权利要求1...
【专利技术属性】
技术研发人员：白珊珊，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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