蒸镀掩模制造技术

本发明专利技术提供一种能够提高强度的蒸镀掩模，即，根据一个实施方式，提供一种蒸镀掩模，其具有：掩模主体，其包含设置有开口图案的图案区域和包围所述图案区域的周围的周边区域；支承所述掩模主体的保持框；和连接所述掩模主体与所述保持框的连接部，所述开口图案包含具有在第1方向延伸的长边和在与所述第1方向正交的第2方向延伸的短边的矩形形状的多个开口，所述多个开口包含多个第1开口和与第1开口相邻且在所述第2方向上设置于该第1开口与周边区域之间的多个第2开口，在所述第1方向上彼此相邻的第2开口之间的第2距离大于在所述第1方向上彼此相邻的第1开口之间的第1距离。上彼此相邻的第1开口之间的第1距离。上彼此相邻的第1开口之间的第1距离。

【技术实现步骤摘要】
蒸镀掩模


[0001]本专利技术涉及蒸镀掩模。

技术介绍

[0002]近年来，已知有作为发光元件使用有机电致发光元件(以下，称为有机EL元件)的有机电致发光显示装置(以下，称为有机EL显示装置)。有机EL元件具有包含阳极电极、阴极电极和设置在这些电极之间的有机电致发光材料的层(以下，称为“有机EL层”)。有机EL层例如包含发光层、电子输送层、空穴输送层等功能层。通过对阳极电极和阴极电极分别施加电压，在阳极电极与阴极电极之间流动电流，有机EL元件发光。
[0003]在有机EL元件的发光层的形成中，例如使用真空蒸镀法。真空蒸镀法是在真空下，利用加热器对蒸镀材料进行加热使其升华，并使气化了的蒸镀材料沉积(蒸镀)于基板的表面的方法。通过使用真空蒸镀法，能够在基板的表面形成蒸镀材料的薄膜。此外，在真空蒸镀法中，能够通过使用具有大量细微的开口图案的掩模(蒸镀掩模)，形成高精细的薄膜图案。
[0004]现有技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1：日本特开2017
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210633号公报。

技术实现思路

[0007]专利技术所要解决的问题
[0008]蒸镀掩模通常作为蒸镀掩模单元来使用，该蒸镀掩模单元含1个以上蒸镀掩模、包围1个以上蒸镀掩模的支承框和连接1个以上蒸镀掩模与支承框的连接部的。在蒸镀掩模设置有与像素图案对应的开口图案。开口图案包含多个开口。开口与相邻的开口隔开规定的间隔分离。
[0009]蒸镀掩模例如能够使用镍(Ni)、镍(Ni)
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钴(Co)等镍合金、铜(Cu)、钛(Ti)、铬(Cr)等金属，利用电铸法形成。蒸镀掩模包含设置有开口图案的图案区域和包围图案区域的周边区域。由于在图案区域设置有多个开口，所以图案区域的刚性比未设置开口的周边区域的刚性低。
[0010]在蒸镀工序结束时，当将相互接触的蒸镀掩模与玻璃基板剥离时，存在由于粘接膜或带电而使刚性低的图案区域粘贴于玻璃基板的情况。在这样的情况下，如果反复使用蒸镀掩模，则会由于对刚性低的图案区域特别是位于与刚性高的周边区域的边界的最外周的开口图案周边施加负荷而产生金属疲劳，在最外周的开口图案周边产生褶皱、变形。其结果是，存在产生与最外周的开口图案对应的像素的错位、相邻的像素间的间隔被破坏而相邻的像素彼此接触的所谓的肋条断裂的问题。
[0011]鉴于上述问题，本专利技术的一个实施方式的目的之一在于，提供能够提高强度的蒸镀掩模。
[0012]用于解决问题的技术手段
[0013]本专利技术的一个实施方式的蒸镀掩模具有：掩模主体，其包含设置有开口图案的图案区域和包围所述图案区域的周围的周边区域；支承所述掩模主体的保持框；和连接所述掩模主体与所述保持框的连接部，所述开口图案包含具有在第1方向延伸的长边和在与所述第1方向正交的第2方向延伸的短边的矩形形状的多个开口，所述多个开口包含多个第1开口和与第1开口相邻且在所述第2方向上设置于该第1开口与周边区域之间的多个第2开口，在所述第1方向上彼此相邻的第2开口之间的第2距离大于在所述第1方向上彼此相邻的第1开口之间的第1距离。
[0014]本专利技术的另一实施方式的蒸镀掩模具有：掩模主体，其包含设置有开口图案的图案区域和包围所述图案区域的周围的周边区域；支承所述掩模主体的保持框；和连接所述掩模主体与所述保持框的连接部，所述图案区域具有包含多个第1开口的第1区域和包含多个第2开口的第2区域，所述第1开口为具有在第1方向延伸的长边和在与所述第1方向正交的第2方向延伸的短边的矩形形状，所述第2开口为具有在所述第1方向延伸的长边和在所述第2方向延伸的短边的矩形形状，所述第2区域与所述第1区域相邻，在所述第2方向上设置于所述周边区域与所述1区域之间，在所述多个第2开口中的与所述周边区域相邻且在所述第1方向上彼此相邻的第2开口之间的第2距离，大于在所述第1方向上彼此相邻的第1开口之间的第1距离。
附图说明
[0015]图1是本专利技术的一个实施方式的蒸镀掩模单元的示意的俯视图。
[0016]图2是沿着图1所示的A1
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A2的截面图。
[0017]图3是本专利技术的一个实施方式的蒸镀掩模的示意的俯视图。
[0018]图4是表示图3中的区域BA1的放大图。
[0019]图5是说明本实施方式的模拟的图。
[0020]图6中的(a)是表示掩模主体的z方向的位移量相对于x方向的位移量的曲线图，(b)是表示斜率相对于掩模主体110的x方向的位移量的变化率的曲线图。
[0021]图7是本专利技术的另一实施方式的蒸镀掩模的示意的俯视图。
[0022]图8是表示图7中的区域BA2的放大图。
[0023]图9是表示本专利技术的变形例的蒸镀掩模的一部分的示意图。
具体实施方式
[0024]以下，参照附图等说明本专利技术的实施方式。不过，本专利技术能够以很多不同的方式实施，而不限定于以下例示的实施方式的记载内容来解释。附图是为了使说明更明确，与实际的方式相比，各部分的宽度、厚度、形状等有时会示意地表现，而这只不过是一个例子，并非限定本专利技术的解释。此外，在本说明书和各图中，有时对于与之前已有的图说明的内容相同的要素，标注相同的附图标记(或者在数字之后标注a、b、A、B等)，适当地省略详细的说明。进一步，对各要素附记为“第1”、“第2”的字符，是用于区分各要素而使用的便利上的标志，只要没有特别的说明就没有更多意义。
[0025]在本说明书中，某个部件或区域位于其它部件或区域之“上(或下)”的情况，只要
没有特别限定，就不仅包含其位于其它部件或区域的正上方(或正下方)的情况而且还包含位于其它部件或区域的上方(或下方)的情况，即，在其它部件或区域的上方(或下方)、中间包含另外的构成要素的情况。
[0026]此外，在本说明书中“α包含A、B或C”、“α包含A、B和C的任一个”、“α包含选自A、B和C的一个”，这样的表达，只要没有特别说明，就不排除α包含A至C的多个组合的情况。进一步，这些表达也不排除α包含其它要素的情况。
[0027][第1实施方式][0028]参照图1～图4，说明本专利技术的一个实施方式的蒸镀掩模的结构。
[0029]图1是本专利技术的一个实施方式的蒸镀掩模单元100的示意的俯视图。图2是沿着图1所示的A1
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A2的截面构造。图1和图2所示的蒸镀掩模单元100的结构只是一个例子，本实施方式的蒸镀掩模单元100的结构并不限定于图1和图2所示的结构。
[0030]如图1所示，蒸镀掩模单元100包括至少1个蒸镀掩模102、包围至少1个蒸镀掩模102的保持框108和连接保持框108与至少1个蒸镀掩模102的连接部106。如图1所示，在本实施方式中，蒸镀掩模单元100包含多个蒸镀掩模102。该多个蒸镀掩模102分别经由连接部106被保持框108支承。
[0031]图1中的插入放大图表示蒸镀掩模102的一部分。如图1的插入放本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种蒸镀掩模，其特征在于，具有：掩模主体，其包含设置有开口图案的图案区域和包围所述图案区域的周围的周边区域；支承所述掩模主体的保持框；和连接所述掩模主体与所述保持框的连接部，所述开口图案包含具有在第1方向延伸的长边和在与所述第1方向正交的第2方向延伸的短边的矩形形状的多个开口，所述多个开口包含多个第1开口和与第1开口相邻且在所述第2方向上设置于该第1开口与周边区域之间的多个第2开口，在所述第1方向上彼此相邻的第2开口之间的第2距离大于在所述第1方向上彼此相邻的第1开口之间的第1距离。2.如权利要求1所述的蒸镀掩模，其特征在于：所述第2距离为所述第1距离的1.5倍以上2.5倍以下。3.如权利要求1或2所述的蒸镀掩模，其特征在于：所述第2开口的长边的长度为所述第1开口的长边的长度的0.49倍以上0.93倍以下。4.一种蒸镀掩模，其特征在于，具有：掩模主体，其包含设置有开口图案的图案区域和包围所述图案区域的周围的周边区域；支承所述掩模主体的保持框；和连接所述掩模主体与所述保持框的连接部，所述图案区域具有包含多个第1开口的第1区域和包含多个第2开口的第2区域，所述第1开口为具有在第1方向延伸的长边和在与所述第1方向正交的第2方向延伸的短边的矩形形状，...

【专利技术属性】
技术研发人员：木村辽太郎，
申请(专利权)人：株式会社日本显示器，
类型：发明
国别省市：