一种激光模块制造技术

技术编号:38889633 阅读:12 留言:0更新日期:2023-09-22 14:15
本实用新型专利技术涉及半导体发光技术领域,公开了一种激光模块,包括支架和EEL发光芯片。支架具有凹槽,凹槽的侧面设有反射面。EEL发光芯片设于凹槽内,反射面覆盖EEL发光芯片的发光面。反射面表面设有金属反射膜。反射面设为具有一定倾斜角度的曲面或者平面。本实用新型专利技术的EEL发光芯片发出的光入射至凹槽的反射面发生全反射,从而改变入射光的行进方向,出光精准、稳定性好。本实用新型专利技术的激光模块整体结构简单合理,无需竖向安装,在出射光的光轴方向占用空间少、稳定性好,精准度高。反射面表面电镀有金属反射膜,其结构稳定且全反射效果好,光能利用率高。通过调整反射面的倾斜角度满足不同出光角度的需求,适用范围广。适用范围广。适用范围广。

【技术实现步骤摘要】
一种激光模块


[0001]本技术属于半导体发光
,具体而言,涉及一种激光模块。

技术介绍

[0002]半导体光源因为具有体积小、耗电量低、使用寿命长、高亮度等各方面的优点,被广泛的应用于各种照明设备、探测设备、激光雷达系统和各种电子设备等领域。目前常见的几种光源主要包括边发射激光器(EEL)、垂直腔面发射激光器(VCSEL)、固体激光器以及光纤激光器等。
[0003]谐振器与半导体基板平行地形成,并且光从劈开的侧面发射,具有这种结构的半导体激光器通常被称为边缘发射激光器(EEL激光器),例如DFB、DBR、FB激光器都属于EEL激光器。另一方面,具有垂直于半导体基板表面发射光的结构的激光器被称为表面发射激光器(SEL),例如 VCSEL激光器。EEL激光器与VCSEL激光器相比,具有工艺简单,发射功率高,使用范围更广泛的优点。EEL激光器在垂直出光的应用场景中使用时,现有技术通常是通过改变EEL激光器的安装方向来改变出光方向的。具体说来,固定有EEL发光芯片的基板固定于用于封装的铜管的侧壁,安装时将铜管竖向安装,以满足垂直出光的要求。存在的问题,竖向安装占用空间较大,且稳固性不好,精准度不高。
[0004]基于上述,目前要解决的问题:通过光学透镜改变EEL发光芯片的出光方向,同时增加整体结构的稳定性和精准度。

技术实现思路

[0005]本技术的目的在于提供一种激光模块,旨在解决现有技术中,如何改变EEL激光器的出光方向,并保证整体结构稳定、精准度高和光能利用率高。
[0006]本技术是这样实现的,一种激光模块,包括:
[0007]支架,其具有凹槽,所述凹槽的侧面设有反射面;
[0008]EEL发光芯片,其设于所述凹槽内,所述反射面覆盖所述EEL发光芯的发光面。
[0009]进一步的,所述反射面表面设有金属反射膜。
[0010]进一步的,所述反射面设为具有一定倾斜角度的曲面或者平面。
[0011]进一步的,所述凹槽为碗状凹槽,所述碗状凹槽由直线或者曲线绕中心轴旋转而成。
[0012]进一步的,所述支架底部连接有基板,所述凹槽和EEL发光芯片设于所述基板上。
[0013]进一步的,所述支架与所述基板设置为一体成型结构。
[0014]进一步的,所述凹槽内还设有用于连接所述EEL发光芯片与所述基板的金线。
[0015]进一步的,所述EEL发光芯片的出光孔至基板上表面的距离不超过所述反射面最高点至所述基板上表面的距离的1/2。
[0016]与现有技术相比,本技术提供的激光模块具有如下有益效果:
[0017]一、本技术的支架设有凹槽,凹槽的侧面设有反射面。EEL发光芯片放置于凹
槽内,反射面覆盖EEL发光芯片的发光面。EEL发光芯片发出的光入射至反射面后发生全反射,从而改变入射光的行进方向。参照图4,EEL发光芯片发出的光的光轴X与EEL发光芯片的上表面平行,并入射至反射面发生全反射,经全反射后出射光的光轴X与EEL发光芯片的上表面垂直或者呈一定夹角,从而实现了改变出光方向的效果,出光精准度高、稳定性好。本技术的激光模块整体结构简单合理,无需竖向安装,在出射光的光轴方向占用空间少、稳定性好,精准度高。
[0018]二、反射面为凹槽的侧面电镀金属反射膜而成。反射面结构稳定且全反射效果好,光能利用率高。反射面设为具有一定倾斜角度的曲面或者平面。进一步保证全反射充分,光能利用率高。通过调整反射面的倾斜角度满足不同出光角度的需求,适用范围广。
附图说明
[0019]图1是本技术提供的激光模块的立体结构示意图;
[0020]图2是本技术提供的激光模块的俯视图;
[0021]图3是本技术提供的图2 的A

A方向剖视结构示意图;
[0022]图4是本技术提供的激光模块的光路图;
[0023]图中:1

支架;11

凹槽;111

反射面;2

EEL发光芯片;3

基板;4

金线;X

光轴。
具体实施方式
[0024]为了使本技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本技术进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本技术,并不用于限定本技术。
[0025]以下结合具体实施例对本技术的实现进行详细的描述。
[0026]本实施例的附图中相同或相似的标号对应相同或相似的部件;在本技术的描述中,需要理解的是,若有术语“上”、“下”、“左”、“右”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本技术和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此附图中描述位置关系的用语仅用于示例性说明,不能理解为对本专利的限制,对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语的具体含义。
[0027]参照图1

4所示,为本技术提供的较佳实施例。
[0028]参照图1

2,激光模块包括支架1和EEL发光芯片2,参照图1。支架1具有容纳EEL发光芯片2的凹槽11,凹槽11的内部侧面设有反射面111。EEL发光芯片2为边发光芯片。EEL发光芯片2设于凹槽11的底部,EEL发光芯片2的发光面朝向反射面111,即反射面111覆盖EEL发光芯片2的发光侧。EEL发光芯片2的侧面发出的光入射至反射面111并发生全反射,从而实现改变入射光行进方向的目的。参照图4,EEL发光芯片2的入射光的光轴X与EEL发光芯片2的上表面平行,经反射面111全反射后出射光的光轴X与EEL发光芯片2的上表面呈一定夹角,夹角大于0度,夹角度数可通过调整反射面111的倾斜角度来实现。优选地,反射面111电镀有金属反射膜。反射面111设为具有一定倾斜角度的曲面或者平面。通过调整反射面111的倾斜角度来改变出射光的反射方向,从而达到预设的出光角度。本技术结构简单合理稳定,出光精准且稳定,光能利用率高。
[0029]优选方案:参照图2

3,凹槽11设为碗状凹槽。碗状凹槽由具有一定倾斜角度的直线或者曲线绕中心轴旋转而成。碗状凹槽的侧面电镀有金属反射膜,从而形成反射面111。EEL发光芯片2设于碗状凹槽内,EEL发光芯片2发出的光入射至反射面111并发生全反射,从而改变光行进方向。通过调整反射面111与EEL发光芯片2的入射光的光轴X之间的夹角度数,来控制出光角度,本技术具有出光精准、光能利用率高、出光效果好的优点。
[0030]进一步的,支架1底部设有基板3,支架1与基板3固定连接。凹槽11和EEL发光芯片2设于基板3上。支架1与基板3一体成型,结构稳定,易于制造。凹槽11内还设本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种激光模块,其特征在于,包括:支架(1),其具有凹槽(11),所述凹槽(11)的侧面设有反射面(111);EEL发光芯片(2),其设于所述凹槽(11)内,所述反射面(111)覆盖所述EEL发光芯片(2)的发光面。2.如权利要求1所述的激光模块,其特征在于,所述反射面(111)表面设有金属反射膜。3.如权利要求1所述的激光模块,其特征在于,所述反射面(111)设为具有一定倾斜角度的曲面或者平面。4.如权利要求1所述的激光模块,其特征在于,所述凹槽(11)为碗状凹槽,所述碗状凹槽由直线或者曲线绕中心轴旋转而成。5.如权利要求1...

【专利技术属性】
技术研发人员:黄伟曹宇星汪洋李向阳
申请(专利权)人:深圳循光科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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