本发明专利技术提供一种衬底处理方法及衬底处理装置。在衬底处理方法中，从内槽(110)、外槽(120)、及循环配管(141)排出处理液(第1排液工序S1)。在排出处理液之后，经过新液供给口(185)而对内槽(110)重新供给处理液(第1供给工序S2)。在对内槽(110)重新供给处理液之后，将蓄积在内槽(110)中的处理液排出直到内槽下限水平(LVL)为止(第2排液工序S3)。在将处理液排出直到内槽下限水平(LVL)为止之后，经过新液供给口(185)而对内槽(110)重新供给处理液(第2供给工序S4)。内槽下限水平(LVL)表示比配置在内槽(110)内部的循环液导入口(132)的位置更高的液位，并且表示比配置在内槽(110)内部的新液供给口(185)的位置更高的液位。部的新液供给口(185)的位置更高的液位。部的新液供给口(185)的位置更高的液位。
【技术实现步骤摘要】
衬底处理方法及衬底处理装置
[0001]本专利技术涉及一种衬底处理方法及衬底处理装置。
技术介绍
[0002]专利文献1中所记载的衬底处理装置通过使衬底浸渍在包含一种以上的药液及纯水的处理液来对衬底进行规定的处理。衬底处理装置具备处理槽、及处理液更换部。在处理槽中，蓄积着用来对衬底进行规定处理的处理液。当处理槽中的处理液超过使用期时，处理液更换部更换处理液。
[0003][
技术介绍
文献][0004][专利文献][0005][专利文献1]日本专利特开2019
‑
79954号公报
技术实现思路
[0006][专利技术要解决的问题][0007]然而，在专利文献1所记载的衬底处理装置中，有可能会在处理液的更换过程中有空气混入到处理液中。例如，使处理液循环的循环管线中的空气会在处理液的更换过程中混入到处理液中。或者，例如，在为了更换处理液而从药液管线的药液喷出口向处理槽喷出药液时、及从纯水管线的纯水喷出口向处理槽喷出纯水时，会有空气混入到处理液中。
[0008]本申请案的专利技术者进行锐意研究，结果查明当空气混入到处理液中时，有可能对衬底的处理带来影响。
[0009]本专利技术的目的在于提供一种能够抑制空气混入到处理液中的衬底处理方法及衬底处理装置。
[0010][解决问题的技术手段][0011]根据本专利技术的一形态，衬底处理方法通过自供从蓄积处理液的内槽溢出的所述处理液流入的外槽，经过循环配管及循环液导入口而对所述内槽导入所述处理液，能够使蓄积在所述内槽中的所述处理液循环。衬底处理方法在所述内槽中利用所述处理液来处理衬底。衬底处理方法包含第1排液工序、第1供给工序、第2排液工序、及第2供给工序。在第1排液工序中，从所述内槽、所述外槽、及所述循环配管排出所述处理液。在第1供给工序中，在所述第1排液工序中排出所述处理液之后，经过新液供给口对所述内槽重新供给处理液，由此在所述内槽中重新蓄积所述处理液。在第2排液工序中，在对所述内槽重新供给所述处理液之后，将蓄积在所述内槽中的所述处理液排出直到内槽下限水平为止。在第2供给工序中，在将所述处理液排出直到所述内槽下限水平为止之后，经过所述新液供给口对所述内槽重新供给处理液，由此在所述内槽中重新蓄积所述处理液。所述内槽下限水平表示比配置在所述内槽内部的所述循环液导入口的位置更高的液位，并且表示比配置在所述内槽内部的所述新液供给口的位置更高的液位。
[0012]在本专利技术的一形态中，优选为，将所述第2排液工序及所述第2供给工序分别执行
多次。
[0013]在本专利技术的一形态中，优选为，根据蓄积在所述内槽中的所述处理液中的溶存氧浓度，来决定所述第2排液工序及所述第2供给工序的执行次数。
[0014]在本专利技术的一形态中，优选为，在所述第2排液工序中，不排出蓄积在所述外槽中的所述处理液。
[0015]在本专利技术的一形态中，优选为，在所述第2排液工序中将所述内槽的所述处理液排出直到所述内槽下限水平为止的情况下，停止驱动中的泵。优选为，在所述第2供给工序中供给所述处理液至少达到内槽上限水平为止的情况下，通过驱动所述泵，来使所述内槽的所述处理液经过所述循环配管而循环。优选为，所述内槽上限水平表示在所述内槽中比所述内槽下限水平更高的液位。
[0016]在本专利技术的一形态中，优选为，所述处理液为碱性。
[0017]根据本专利技术的另一形态，衬底处理装置具备内槽、外槽、循环液导入部件、循环配管、排液配管、排液阀、泵、新液供给配管、供给阀、及控制部。内槽蓄积处理液。外槽配置在所述内槽的外侧，供从所述内槽溢出的所述处理液流入。循环液导入部件具有循环液导入口，经过所述循环液导入口将从所述外槽供给的所述处理液导入到所述内槽中。循环配管通过从所述外槽向所述循环液导入部件供给所述处理液，来使蓄积在所述内槽中的所述处理液循环。排液配管从所述循环配管分支，且排出所述处理液。排液阀将所述排液配管的流路开闭。泵在比所述排液配管靠上游配置在所述循环配管，送出所述循环配管中的所述处理液。新液供给管具有新液供给口，经过所述新液供给口而对所述内槽重新供给处理液。供给阀将所述新液供给配管的流路开闭。控制部控制所述排液阀、所述泵、及所述供给阀。所述控制部以从所述内槽、所述外槽、及所述循环配管排出所述处理液的方式，控制所述排液阀及所述泵。控制部在排出所述处理液之后，以对所述内槽重新供给所述处理液的方式控制所述供给阀。控制部在重新供给所述处理液之后，以排出蓄积在所述内槽中的所述处理液直到内槽下限水平为止的方式控制所述排液阀及所述泵。控制部在排出所述处理液直到所述内槽下限水平为止之后，以对所述内槽重新供给处理液的方式控制所述供给阀。所述内槽下限水平表示比配置在所述内槽内部的所述循环液导入口的位置更高的液位，并且表示比配置在所述内槽内部的所述新液供给口的位置更高的液位。
[0018][专利技术效果][0019]根据本专利技术，可提供一种能够抑制空气混入到处理液中的衬底处理方法及衬底处理装置。
附图说明
[0020]图1是表示本专利技术的实施方式的衬底处理装置的示意性剖视图。
[0021]图2(a)是表示将本实施方式的衬底浸渍在处理液之前的状态的图。(b)是表示将本实施方式的衬底浸渍在处理液中的状态的图。
[0022]图3是表示本实施方式的衬底处理装置的示意图。
[0023]图4是表示本实施方式的处理液的溶存氧浓度与蚀刻量的关系的曲线图。
[0024]图5是表示本实施方式的处理液更换方法中的第1排液工序的示意图。
[0025]图6是表示本实施方式的处理液更换方法中的第1供给工序的示意图。
[0026]图7是表示本实施方式的处理液更换方法中的第2排液工序的示意图。
[0027]图8是表示本实施方式的处理液更换方法中的第2供给工序的示意图。
[0028]图9是表示本实施方式的处理液更换方法中的处理液的更换顺序的时序图。
[0029]图10是表示本实施方式的衬底处理方法的流程图。
[0030]图11是表示图10的工序S20的详细处理的前段的流程图。
[0031]图12是表示图10的工序S20的详细处理的后段的流程图。
具体实施方式
[0032]以下，参照附图，对本专利技术的实施方式进行说明。此外，在图中，对相同或相当部分标注相同的参照符号，且不重复说明。另外，在图中，为了容易理解，适当图示了X轴、Y轴、及Z轴。X轴、Y轴、及Z轴相互正交，X轴及Y轴与水平方向平行，Z轴与铅直方向平行。
[0033]参照图1～图13，对本专利技术的实施方式的衬底处理装置100进行说明。首先，参照图1～图3，对衬底处理装置100进行说明。图1是表示衬底处理装置100的示意性剖视图。图1所示的衬底处理装置100为批次式且利用处理液LQ对多个衬底W一起进行处理。衬底处理装置100也能够处理1片衬底W。
[0034]衬底处理装置100具备内槽110、外槽120、衬底保持部125、循环液导入部130、循环本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种衬底处理方法，通过自供从蓄积处理液的内槽溢出的所述处理液流入的外槽，经过循环配管及循环液导入口而对所述内槽导入所述处理液，能够使蓄积在所述内槽中的所述处理液循环，在所述内槽中利用所述处理液来处理衬底，且该衬底处理方法包含：第1排液工序，从所述内槽、所述外槽、及所述循环配管，排出所述处理液；第1供给工序，在所述第1排液工序中排出所述处理液之后，经过新液供给口而对所述内槽重新供给处理液，由此在所述内槽中重新蓄积所述处理液；第2排液工序，在对所述内槽重新供给所述处理液之后，将蓄积在所述内槽中的所述处理液排出直到内槽下限水平为止；以及第2供给工序，在将所述处理液排出直到所述内槽下限水平为止之后，经过所述新液供给口而对所述内槽重新供给处理液，由此在所述内槽中重新蓄积所述处理液；所述内槽下限水平表示比配置在所述内槽内部的所述循环液导入口的位置更高的液位，并且表示比配置在所述内槽内部的所述新液供给口的位置更高的液位。2.根据权利要求1所述的衬底处理方法，其中将所述第2排液工序及所述第2供给工序分别执行多次。3.根据权利要求1或2所述的衬底处理方法，其中根据蓄积在所述内槽中的所述处理液中的溶存氧浓度，来决定所述第2排液工序及所述第2供给工序的执行次数。4.根据权利要求1或2所述的衬底处理方法，其中在所述第2排液工序中，不排出蓄积在所述外槽中的所述处理液。5.根据权利要求1或2所述的衬底处理方法，其中在所述第2排液工序中将所述内槽的所述处理液排出直到所述内槽下限水平为止的情况下，停止驱动中的泵，在所述第2供给工序中供给所述处理液至少到达内槽上限水平为止的情况下，通...
【专利技术属性】
技术研发人员：西野阳祐，杉冈真治，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：
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