【技术实现步骤摘要】
一种旋转靶材制备用水平上料装置
[0001]本技术涉及靶材加工设备
,具体为一种旋转靶材制备用水平上料装置。
技术介绍
[0002]镀膜靶材是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。常用的靶材按其形态分为宽幅靶材和旋转靶材。旋转靶材成型工艺包括等静压成型、烧结、挤压机挤压;将管坯烧结后,需要通过上料设备将烧结后的管坯输送到与液压机的挤压杆平齐的位置。
[0003]专利号CN218855228U公开了一种钼旋转靶坯料挤压用上料设备,该上料设备安装使用时,需要将中频加热炉、以及上料设备安装在液压机的上侧,然后通过向下送料的方式将加热后的管坯输送到与液压机的挤压杆平齐的位置;这种向下输送的上料方式存在的缺点是:需要在液压机上侧搭建操纵平台,用于安装中频加热炉和上料设备,然后才能实现管坯向下输送的上料操作,管坯经过了向上运送加热、以及向下上料挤压的工序,浪费时间,操作麻烦。
技术实现思路
[0004]本技术要解决的技术问题是克服现有的缺陷,提供一种旋 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种旋转靶材制备用水平上料装置,包括水平设置的液压缸(1),其特征在于:所述液压缸(1)的固定端设有能够调节高度的升降座,所述液压缸(1)的伸缩端设有固定座(4),所述固定座(4)远离液压缸(1)的一侧设有V型结构的夹板,所述固定座(4)的底部设有控制夹板卸料的控制件。2.根据权利要求1所述的旋转靶材制备用水平上料装置,其特征在于:所述夹板包括倾斜安装在固定座(4)上的固定板(5),所述固定板(5)的底部转动设置有转轴(6),所述转轴(6)的侧面设有活动板(61),所述控制件能够控制活动板(61)转动。3.根据权利要求2所述的旋转靶材制备用水平上料装置,其特征在于:所述控制件包括气缸(7)和推杆(8...
【专利技术属性】
技术研发人员:王德建,王淑辉,李德华,黄飞虎,
申请(专利权)人:洛阳汇晶新材料科技有限公司,
类型:新型
国别省市:
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