【技术实现步骤摘要】
肾盂内温度监测控制方法、系统及灌注吸引平台
[0001]本专利技术涉及医疗器械
,特别涉及一种肾盂内温度监测控制方法、系统及灌注吸引平台。
技术介绍
[0002]随着近年来外科手术发展的微创化趋势,经皮肾镜碎石和输尿管镜碎石等微创手术已经成为结石治疗的首选方式。但在实际应用中,在实施上述手术时,仅考虑肾盂腔内压力或灌注进肾盂的流量或吸引出肾盂的流量。但对手术时腔压安全的考虑不是线性问题,需要综合考虑多种影响因素。
[0003]现有技术中采用的灌注吸引平台大多采用激光碎石,激光碎石的作用机理是激光经过光纤维,将激光束能量打到结石的表面,滤光部分被结石表面吸收,在结石表面形成等离子体,等离子体在吸收不可见红外光后,将激光能量瞬间转换为机械冲击波粉碎结石。此时,腔内压力安全影响因素如下:1、从临床角度来说,肾内液体温度越高,会对组织有热损伤的风险。形成热损伤最大的原因也是因为术中灌注和引流不足导致的。2、肾盂内压增高引起肾实质返流肾实质返流极限压力30mmHg。有研究显示,当肾盂压大于35mmHg时,会引起持续的肾盂静脉及淋巴管逆流。而当感染存在时,15~18mmHg的压力即可造成逆流。低压灌注相比较高压灌注,并发症明显降低证明压力越高感染率越高。3、形成热损伤和肾盂高压最大的原因也是因为术中灌注和引流的配合不足导致的。
[0004]综上所述,现有技术在有必要提出一种肾盂内温度监测控制方法及系统,解决因温度因素引起的腔内压力不稳定而导致的手术不安全性问题。
技术实现思路
[0005]本 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种肾盂内温度监测控制方法,用于灌注吸引系统,其特征在于,包括如下步骤:采集并监测当前腔内温度数据和与当前所述腔内温度数据对应的各影响因子数据,所述腔内温度数据对应的影响因子数据包括向腔内流入的灌注流量、向腔外流出的吸引流量以及腔内压力数据;启动工作后,判断当前所述腔内温度数据是否大于预设温度阈值;在当前所述腔内温度数据大于所述预设温度阈值的情况下,通过智能控制中心发出第一温度信号提示信息;基于所述第一温度信号提示信息确定当前温度信号的改变状态,根据所述温度信号的改变状态对所述灌注流量和所述吸引流量进行同步调整以控制所述灌注流量和所述吸引流量在运行过程中达到新的动态平衡,从而得到能够控制在预设腔内温度阈值范围下腔内压力的稳定性。2.根据权利要求1所述的肾盂内温度监测控制方法,其特征在于,所述判断当前所述腔内温度数据是否大于预设温度阈值包括:在当前所述腔内温度数据小于等于所述预设温度阈值的情况下,启动平衡模式;控制所述吸引流量和所述灌注流量恒定在预设流量范围内以确保所述灌注流量和所述吸引流量在运行过程中达到动态平衡,从而得到能够控制在预设腔内压力范围内的腔压信息。3.根据权利要求1所述的肾盂内温度监测控制方法,其特征在于,所述判断当前所述腔内温度数据是否大于预设温度阈值之前包括:启动的工作状态划分为碎石模式和非碎石模式;当控制进程处于碎石模式时,腔内液体在激光作用下,获取到的所述温度信号从初始温度信号转变成异常温度信号;判断所述异常温度信号是否在预设的温度范围内,发出对应的温度信号提示信息;当控制进程处于非碎石模式时,监控所述初始温度信号能够控制在预设的温度阈值范围内。4.根据权利要求1所述的肾盂内温度监测控制方法,其特征在于,所述根据所述第一温度信号的改变状态对所述灌注流量和所述吸引流量进行同步调整以控制所述灌注流量和所述吸引流量在运行过程中达到新的动态平衡包括:启动调整模式;接收并根据所述第一温度信号向第一目标电机发送调节灌注流量的控制指令进行一次调节;根据所述调节灌注流量的控制指令调整第一目标电机的转速以增加向腔内流入的灌注流量;当灌注流量的增加使得腔内压力升高时,将升高状态的腔内压力数据传输至智能控制中心;基于升高状态的腔内压力数据发出调节吸引流量的控制指令;根据所述调节吸引流量的控制指令调整第二目标电机的转速以增加吸引强度使得腔内吸引流量与灌注流量达到动态平衡。5.根据权利要求1所述的肾盂内温度监测控制方法,其特征在于,所述根据所述第一温
度信号的改变状态对所述灌注流量和所述吸引流量进行同步调整以控制所述灌注流量和所述吸引流量在运行过程中达到新的动态平衡进一步包括:当所述第一温度信号下降至第二温度信号,且所述第一温度信号呈下降趋势变化;根据所述第二温度信号向第一目标电机发送调节灌注流量的控制指令进行二次调节;根据所述调节灌注...
【专利技术属性】
技术研发人员:姚拥军,
申请(专利权)人:上海璞跃医疗器械有限公司,
类型:发明
国别省市:
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