输尿管内窥镜及肾盂内压控制系统技术方案

本发明专利技术公开了一种输尿管内窥镜，用于肾盂内压控制系统，包括:内窥镜导管，设置在肾盂内压控制系统的导引鞘内；内窥镜导管上设有灌注通道，灌注通道与灌注装置的接口连通，向腔内执行灌注模式以向腔内灌注水流从而撑开腔内空间；内窥镜导管与导引鞘鞘管之间形成吸引通道，所述吸引通道与吸引装置的接口连通；内窥镜导管上设有一个或多个测压孔，且测压孔设置在不同方位，通过不同方向的测压孔稳定水流冲击的压力，在不同模式下对腔内压力值进行实时监测。通过不同方向的测压孔稳定水流冲击的压力，避免水流反射冲击下测得的局部压力不准确，减少反射水流对压力传感器的影响；实时监测腔内压力值，提供压力测量精度。提供压力测量精度。提供压力测量精度。

【技术实现步骤摘要】
输尿管内窥镜及肾盂内压控制系统
专利

[0001]本专利技术涉及医疗设备领域，特别涉及一种输尿管内窥镜及肾盂内压控制系统。

技术介绍

[0002]输尿管镜的就是从尿道口进入，通过病人的尿道、膀胱，进而进入输尿管进行检查和治疗。输尿管镜是一种由光源、摄象头和多种工作配件组成的，针对输尿管相关疾病进行检查和治疗的设备。对于输尿管中的的结石，传统的检查要治疗方式主要是开刀，开刀进入腹腔，然后对输尿管进行检查和治疗。众所周知输尿管是一个通过膀胱和尿道与外界相通的管道系统，这就为我们提供了一条对输尿管系统进行检查、治疗的自然通道。输尿管镜是用于泌尿科治疗的医学设备，利用输尿管镜开展输尿管疾病的诊断、治疗，大大提高了输尿管疾病的诊断、治疗水平，缩短了患者住院时间，减少治疗费用，临床可取得满意效果。
[0003]公开号为CN213129745U的技术专利提供了一种输尿管内窥镜导入鞘，其包括：该输尿管内窥镜导入鞘包括导入鞘主体通道、肾盂内压测压管道和输尿管内压测压管道，导入鞘主体通道具有外接到负压吸附系统的吸引口，肾盂内压测压管道的前端具有延伸到对应于肾盂的位置的肾盂测压孔，所述输尿管内压测压管道的前端具有延伸到对应于输尿管的位置的输尿管测压孔，后端分支为接灌水泵通道和接压力传感器通道，所述接灌水泵通道连接所述灌注系统，用于将水通过所述肾盂测压孔灌注到肾盂内，所述接压力传感器通道连接所述肾盂压力传感器，用于通过所述肾盂测压孔进行肾盂内压监测，所述输尿管内压测压管道的前端具有延伸到对应于输尿管的位置的输尿管测压孔，所述输尿管内压测压管道的后端连接所述输尿管压力传感器，用于通过所述输尿管测压孔进行输尿管内压监测。虽然提供了肾盂内压测定、输尿管内压测定等功能，但是，传感器需要另外附接通道，导致导入鞘结构复杂，容易伤及器官，且传感器均为外接模式，容易导致测压精度不准确。
[0004]在使用时进入的器官腔内是软的，在没有水的情况下，腔内基本处于闭合状态，通过灌注水流，可以将腔体撑开，便形成手术空间。在静态装满水的腔体内，管路里面的传感器，只要有一个测压孔就可以完成精确的测压任务。但在一个有流动水腔体内，腔内的不同的点压力有比较大不同。特别是出水流的地方，在水流的作用下，压力最大。在水流冲击到腔壁，反射回来的水流会产生冲击，此时测到的压力就会明显大于这个腔内其它地方的压力，形成水流冲击下的局部压力，导致测压精度不准确。
[0005]综上所述，现有技术缺陷在于：腔内在水流作用下容易对内压测量精度产生影响。

技术实现思路

[0006]本专利技术的目的在于提供一种输尿管内窥镜及肾盂内压控制系统，通过不同方向的测压孔稳定水流冲击的压力，避免水流反射冲击下测得的局部压力不准确，通过不同方向的测压孔泄压减少反射水流对压力传感器的影响；在不同模式下对腔内压力值进行实时监测，完成精确的测压任务，提供压力测量精度。适用于经皮肾镜碎石取石手术，也可广泛应
用于输尿管镜手术及其他需要灌注的手术中。
[0007]本专利技术提供了一种输尿管内窥镜，用于肾盂内压控制系统，包括:
[0008]内窥镜导管，设置在所述肾盂内压控制系统的导引鞘内；
[0009]所述内窥镜导管上设有灌注通道，所述灌注通道与灌注装置的接口连通，向腔内执行灌注模式以向腔内灌注水流从而撑开腔内空间；
[0010]所述内窥镜导管与所述导引鞘鞘管之间形成吸引通道，所述吸引通道与吸引装置的接口连通，向腔内执行吸引模式以在负压吸引作用下对粉碎后的碎石进行吸石并排出体外；
[0011]所述内窥镜导管上设有一个或多个测压孔，且所述测压孔设置在不同方位，通过不同方向的所述测压孔稳定水流冲击的压力，在不同模式下对腔内压力值进行实时监测。
[0012]作为优选地，还包括测压通道，所述测压通道穿过所述测压孔沿所述内窥镜导管长度方向延伸并贯穿所述内窥镜导管，所述测压孔靠近所述测压通道的一侧与所述压力传感器连接，所述测压孔远离所述测压通道的一侧与腔内介质连通。
[0013]作为优选地，所述测压通道靠近所述内窥镜导管远端设置，从所述内窥镜导管远端与内窥镜手柄电路连接。
[0014]作为优选地，所述灌注通道内设有独立的光纤，所述光纤与所述灌注通道一体化设置，向腔内执行碎石模式以将所述光纤靠近腔内的肾结石并进行激光粉末化。
[0015]作为优选地，所述测压孔设置在所述内窥镜导管远端面上。
[0016]作为优选地，所述测压孔设置在所述内窥镜导管远端的外表面上。
[0017]作为优选地，所述测压孔同时设置在所述内窥镜导管远端面和所述内窥镜导管远端的外表面上，在水流的作用下，对同一方向的所述测压孔进行冲击，得到局部压力值；当水流对腔壁冲击产生反射流量冲击时，对另一方向的所述测压孔进行泄压，得到真实压力值。
[0018]作为优选地，所述内窥镜导管远端面设有成像组件和光源组件，用于在照明光源下提供清晰视野从而采集并监测腔内环境。
[0019]本专利技术还提供了一种肾盂内压控制系统，包括导引鞘、灌注装置、吸引装置以及如本专利技术实施例所述的输尿管内窥镜。
[0020]作为优选地，所述内窥镜导管在所述导引鞘鞘管内运动时形成内窥镜通道，能够向腔内执行并切换入镜模式、清石模式和碎石模式。
[0021]与现有技术相比，本专利技术具有以下优点：
[0022]本专利技术提供的输尿管内窥镜通过不同方向的测压孔稳定水流冲击的压力，避免水流反射冲击下测得的局部压力不准确，通过不同方向的测压孔泄压减少反射水流对压力传感器的影响；在不同模式下对腔内压力值进行实时监测，完成精确的测压任务，提供压力测量精度。
[0023]本专利技术采用不同方位测压孔的设置，减小反射流的影响，真实的测出腔内的正确压力值。
[0024]本专利技术采用一种肾盂内压控制系统，有效控制肾盂内压，保持良好的手术空间。
[0025]最后，适用于经皮肾镜碎石取石手术，也可广泛应用于输尿管镜手术及其他需要灌注的手术中，适用范围极广。
附图说明
[0026]图1为本专利技术实施例中输尿管内窥镜在肾盂内的使用示例图。
[0027]图2为本专利技术实施例中输尿管内窥镜的示例图；
[0028]图3
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5为本专利技术实施例中输尿管内窥镜中测压孔的分布示例图；
[0029]图6
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7为本专利技术实施例中反射时的泄压示例图。
具体实施方式
[0030]以下通过特定的具体实例说明本专利技术的实施方式，本领域技术人员可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本专利技术的其他优点与功效。本专利技术还可以通过另外不同的具体实施方式加以实施或应用，本说明书中的各项细节也可以基于不同观点与应用，在没有背离本专利技术的精神下进行各种修饰或改变。需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种输尿管内窥镜，其特征在于，用于肾盂内压控制系统，包括:内窥镜导管，设置在所述肾盂内压控制系统的导引鞘内；所述内窥镜导管上设有灌注通道，所述灌注通道与灌注装置的接口连通，向腔内执行灌注模式以向腔内灌注水流从而撑开腔内空间；所述内窥镜导管与所述导引鞘鞘管之间形成吸引通道，所述吸引通道与吸引装置的接口连通，向腔内执行吸引模式以在负压吸引作用下对粉碎后的碎石进行吸石并排出体外；所述内窥镜导管上设有一个或多个测压孔，且所述测压孔设置在不同方位，通过不同方向的所述测压孔稳定水流冲击的压力，在不同模式下对腔内压力值进行实时监测。2.如权利要求1所述的输尿管内窥镜，其特征在于，还包括测压通道，所述测压通道穿过所述测压孔沿所述内窥镜导管长度方向延伸并贯穿所述内窥镜导管，所述测压孔靠近所述测压通道的一侧与所述压力传感器连接，所述测压孔远离所述测压通道的一侧与腔内介质连通。3.如权利要求1所述的输尿管内窥镜，其特征在于，所述测压通道靠近所述内窥镜导管远端设置，从所述内窥镜导管远端与内窥镜手柄电路连接。4.如权利要求1所述的输尿管内窥镜，其特征在于，所述灌注通道内设有独立的光纤，...

【专利技术属性】
技术研发人员：姚拥军，
申请(专利权)人：上海璞跃医疗器械有限公司，
类型：发明
国别省市：