用于制造显示装置的沉积装置包括：腔室；沉积器，布置在所述腔室的内部，并且被配置成喷射沉积物质；以及热成像摄像机模块，其中，所述热成像摄像机模块包括：热成像摄像机，被配置成测量被摄体的温度；透镜，包括第一表面和与所述第一表面相对的第二表面，并且与所述热成像摄像机相邻布置；以及热电偶，连接到所述透镜，并且被配置成测量所述透镜的温度。并且被配置成测量所述透镜的温度。并且被配置成测量所述透镜的温度。
【技术实现步骤摘要】
用于制造显示装置的沉积装置及使用其的沉积方法
[0001]本专利技术涉及用于制造显示装置的沉积装置及使用其的沉积方法。更详细地，本专利技术涉及将腔室的内部维持在真空状态的用于制造显示装置的沉积装置及使用其的沉积方法。
技术介绍
[0002]在制造显示装置的情况下，正在广泛地使用将基板和图案化的金属材质的掩模水平布置在腔室的内部，然后通过朝向所述掩模喷射沉积物质来将所述沉积物质沉积到所述基板的水平向上沉积方法。
[0003]所述水平向上沉积方法为，将相对于所述腔室的底表面水平布置的所述基板和所述掩模相互对准后粘接，并在水平状态下将有机物沉积到所述基板的方法。
[0004]另一方面，当所述基板和所述掩模在未对准的状态下粘接时，可能会发生所述沉积物质渗透到所述基板与所述掩模之间从而导致沉积图案扩散的阴影(shadow)现象。
技术实现思路
[0005]要解决的技术问题
[0006]本专利技术的一目的是提供工艺可靠性提高的用于制造显示装置的沉积装置。
[0007]本专利技术的另一目的是提供使用所述用于制造显示装置的沉积装置的沉积方法。
[0008]然而，本专利技术的目的不限于上述目的，并且可以在不脱离本专利技术的思想及领域的范围内进行各种扩展。
[0009]解决方法
[0010]为了达到前述本专利技术的一目的，根据本专利技术一实施例的用于制造显示装置的沉积装置包括：腔室；沉积器，布置在所述腔室的内部，并且被配置成喷射沉积物质；以及热成像摄像机模块，其中，所述热成像摄像机模块包括：热成像摄像机，被配置成测量被摄体的温度；透镜，包括第一表面和与所述第一表面相对的第二表面，并且与所述热成像摄像机相邻布置；以及热电偶，连接到所述透镜，并且被配置成测量所述透镜的温度。
[0011]根据一实施例，所述用于制造显示装置的沉积装置还可以包括：基板，在所述腔室的内部与所述沉积器相对，并且所述沉积物质沉积到所述基板；掩模，布置在所述基板与所述沉积器之间；以及静电卡盘，布置在所述基板之下，并且支承和固定所述基板。
[0012]根据一实施例，所述被摄体可以是所述基板、所述掩模和所述静电卡盘中的至少一者。
[0013]根据一实施例，所述热成像摄像机模块还可以包括：冷却线，与所述热成像摄像机接触，并且被配置成调节所述热成像摄像机的温度和所述透镜的温度。
[0014]根据一实施例，所述冷却线可以缠绕所述热成像摄像机的表面。
[0015]根据一实施例，所述热成像摄像机模块还可以包括：保护胶带，包括透明的物质，并且布置在所述透镜的所述第二表面上。
[0016]根据一实施例，所述热成像摄像机模块还可以包括：主体部，容纳所述热成像摄像机和所述热电偶；以及腿部，与所述主体部连接。
[0017]根据一实施例，所述腿部可以包括波纹管(bellows)。
[0018]根据一实施例，所述主体部可以包括第一开口，且所述透镜可以通过所述第一开口结合到所述主体部。
[0019]根据一实施例，所述热成像摄像机模块还可以包括：快门，结合到所述主体部，并且被配置成打开和关闭所述透镜的所述第二表面。
[0020]根据一实施例，所述主体部可以包括第二开口，且所述热成像摄像机模块还可以包括：快门驱动部，被配置成控制所述快门的打开状态或关闭状态；以及快门连接部，连接所述快门驱动部和所述快门，并且通过所述第二开口结合到所述主体部。
[0021]根据一实施例，所述热成像摄像机模块还可以包括：电机电缆，布置在所述主体部的内部，并且被配置成向所述快门驱动部供应电力；以及摄像机电缆，布置在所述主体部的内部，并且被配置成向所述热成像摄像机供应电力。
[0022]根据一实施例，所述热成像摄像机模块的由所述主体部、所述透镜、所述快门连接部和所述腿部密封的内部空间可以处于大气压状态。
[0023]根据一实施例，所述热成像摄像机模块还可以包括：角度调节部，布置在所述主体部和所述腿部的边界处，并且被配置成调节所述热成像摄像机进行拍摄的方向。
[0024]为了达到前述本专利技术的另一目的，根据本专利技术一实施例的使用用于制造显示装置的沉积装置的沉积方法可以包括：提供腔室的步骤，所述腔室包括沉积器、母材、布置在所述母材上的静电卡盘以及包括热成像摄像机和快门的热成像摄像机模块；打开所述快门以暴露所述热成像摄像机的步骤；利用所述热成像摄像机测量所述静电卡盘的温度的步骤；关闭所述快门以使所述热成像摄像机不暴露的步骤；以及从所述沉积器喷射沉积物质的步骤。
[0025]根据一实施例，使用用于制造显示装置的沉积装置的沉积方法在测量所述静电卡盘的温度的步骤与关闭所述快门的步骤之间还可以包括：将所述静电卡盘的温度调节为第一目标温度的步骤。
[0026]根据一实施例，所述第一目标温度可以是60℃以下。
[0027]根据一实施例，使用用于制造显示装置的沉积装置的沉积方法在将所述静电卡盘的温度调节为第一目标温度的步骤与关闭所述快门的步骤之间还可以包括：利用掩模传送部将掩模定位在所述腔室的内部的步骤；利用所述热成像摄像机测量所述掩模的温度的步骤；以及将所述掩模的温度调节为第二目标温度的步骤。
[0028]根据一实施例，使用用于制造显示装置的沉积装置的沉积方法在将所述掩模的温度调节为第二目标温度的步骤与关闭所述快门的步骤之间还可以包括：在所述腔室的内部，将基板定位在所述掩模与所述静电卡盘之间的步骤；利用所述热成像摄像机测量所述基板的温度的步骤；以及将所述基板的温度调节为第三目标温度的步骤。
[0029]根据一实施例，使用用于制造显示装置的沉积装置的沉积方法在将所述基板的温度调节为第三目标温度的步骤与关闭所述快门的步骤之间还可以包括：使所述掩模接触到所述基板上的步骤；利用所述热成像摄像机测量所述掩模的温度和所述基板的温度的步骤；以及将所述掩模的温度调节为第四目标温度，并且将所述基板的温度调节为第五目标
温度的步骤。
[0030]有益效果
[0031]用于制造显示装置的沉积装置可以通过包括包含热成像摄像机的热成像摄像机模块来测量被摄体的温度。更详细地，所述沉积装置可以直接测量所述被摄体的温度，而不是通过布置在所述被摄体周边的冷却剂的温度来推断所述被摄体的温度。
[0032]通过在完成用于制造显示装置的沉积工艺之前利用热成像摄像机来直接测量所述被摄体的温度，所述沉积装置可以提前预测在所述沉积工艺中可能发生的问题。因此，当所述被摄体的温度与目标温度不同时，所述沉积装置可以通过将所述被摄体的温度调节为所述目标温度来提前防止所述问题。
[0033]因此，通过测量和调节静电卡盘的温度以避免所述静电卡盘的温度过高，可以防止所述静电卡盘可能受到的热冲击。
[0034]此外，通过测量和调节基板的温度和掩模的温度以避免所述基板的温度和所述掩模的温度过高，所述基板和所述掩模可以以最佳的状态对准并粘接。因此，可以防止阴影现象。此外，沉积在所述基板上的沉积图案的厚度、所述沉本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种用于制造显示装置的沉积装置，包括：腔室；沉积器，布置在所述腔室的内部，并且被配置成喷射沉积物质；以及热成像摄像机模块，其中，所述热成像摄像机模块包括：热成像摄像机，被配置成测量被摄体的温度；透镜，包括第一表面和与所述第一表面相对的第二表面，并且与所述热成像摄像机相邻布置；以及热电偶，连接到所述透镜，并且被配置成测量所述透镜的温度。2.根据权利要求1所述的用于制造显示装置的沉积装置，还包括：基板，在所述腔室的内部与所述沉积器相对，并且所述沉积物质沉积到所述基板；掩模，布置在所述基板与所述沉积器之间；以及静电卡盘，布置在所述基板之下，并且支承和固定所述基板。3.根据权利要求1所述的用于制造显示装置的沉积装置，其中，所述热成像摄像机模块还包括：冷却线，与所述热成像摄像机接触，并且被配置成调节所述热成像摄像机的温度和所述透镜的温度。4.根据权利要求1所述的用于制造显示装置的沉积装置，其中，所述热成像摄像机模块还包括：主体部，容纳所述热成像摄像机和所述热电偶；以及腿部，与所述主体部连接。5.根据权利要求4所述的用于制造显示装置的沉积装置，其中，所述热成像摄像机模块还包括：角度调节部，布置在所述主体部和所述腿部的边界处，并且被配置成调节所述热成像摄像机进行拍摄的方向。6.一种使用用于制造显示装置的沉积装置的沉积方法，包括：提供腔室的步骤，所述腔室包括沉积器、母材、布置在所述母材上的静电卡盘以及包括热成像摄像机和快门的热成像摄像机模块；打开所述快门以暴露所述热成像摄像...
【专利技术属性】
技术研发人员：曹踊晧，朴俊河，全洪柱，许明洙，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：
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