【技术实现步骤摘要】
掩模组件及其制造方法以及使用其制造显示面板的方法
[0001]本专利申请要求于2022年1月19日在韩国知识产权局(KIPO)提交的第10
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2022
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0007840号韩国专利申请的优先权和权益,该韩国专利申请的全部内容通过引用包含于此。
[0002]公开在此涉及一种掩模组件、一种用于制造该掩模组件的方法以及一种用于使用该掩模组件制造显示面板的方法,更具体地,涉及一种能够形成通常与像素叠置的沉积层的掩模组件、一种用于制造该掩模组件的方法以及一种用于使用该掩模组件制造显示面板的方法。
技术介绍
[0003]显示面板包括像素。像素中的每个包括诸如晶体管的驱动元件和诸如有机发光元件的显示元件。显示元件可以通过在基底上层叠电极和各种功能层来形成。
[0004]构成显示元件的功能层可以使用具有通孔限定在其中的掩模通过沉积工艺形成。在这种情况下,可以根据掩模的开口区域的形状来控制图案化功能层中的每个的形状。因此,为了改善图案化功能层的沉积质量,有必要开发用于掩模组件的技术和以高精度制造掩模的方法。
技术实现思路
[0005]公开提供了一种包括诸如杆部的细长部的掩模组件。
[0006]公开还提供了一种用于制造掩模组件的方法。
[0007]公开还提供了一种用于制造显示面板的方法,该方法能够制造具有沉积精度的显示面板。
[0008]公开的实施例提供了一种掩模组件,所述掩模组件包括:框架,所述框架包括:长边部,在第一方向上延伸并且在与第一方向交
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种掩模组件,所述掩模组件包括:框架,所述框架包括:长边部,在第一方向上延伸并且在与所述第一方向交叉的第二方向上彼此间隔开;以及短边部,连接到所述长边部,所述框架限定框架开口;第一杆部,在所述第二方向上延伸并且连接到所述框架;第一掩模片,限定第一沉积开口并且连接到所述第一杆部和所述框架,所述第一沉积开口的至少一部分在所述第一方向上布置并且在平面图中与所述框架开口叠置;以及第二掩模片,限定第二沉积开口并且连接到所述第一杆部和所述框架,所述第二沉积开口的至少一部分在所述第一方向上布置并且在所述平面图中与所述框架开口叠置。2.根据权利要求1所述的掩模组件,其中,所述第一杆部的一部分在所述第一掩模片与所述第二掩模片之间被暴露。3.根据权利要求1所述的掩模组件,其中,所述长边部包括杆部槽,并且所述第一杆部插入到所述杆部槽中。4.根据权利要求1所述的掩模组件,其中,所述第一杆部设置在所述第一掩模片的后表面和所述第二掩模片的后表面上。5.根据权利要求1所述的掩模组件,其中,所述第一杆部设置在所述第一掩模片的前表面和所述第二掩模片的前表面上。6.根据权利要求1所述的掩模组件,其中,所述第一掩模片和所述第二掩模片中的每个具有在50μm至300μm的范围内的厚度。7.根据权利要求1所述的掩模组件,其中,所述第一杆部具有在50μm至300μm的范围内的厚度,并且所述第一杆部在所述第一方向上具有在1mm至5mm的范围内的宽度。8.根据权利要求1所述的掩模组件,其中,所述第一掩模片、所述第二掩模片、所述第一杆部和所述框架中的每个包括因瓦合金。9.根据权利要求1所述的掩模组件,所述掩模组件还包括:第二杆部,在所述第二方向上延伸并且在所述第一方向上与所述第一杆部间隔开;以及第三掩模片,限定第三沉积开口并且连接到所述第二杆部和所述框架,所述第三沉积开口在所述第一方向上布置并且在所述平面图中与所述框架开口叠置,其中,所述第二掩模片设置在所述第一掩模片与所述第三掩模片之间,并且所述第二杆部的一部分在所述第二掩模片与所述第三掩模片之间被暴露。10.根据权利要求9所述的掩模组件,其中,所述第一掩膜片至所述第三掩膜片中的每个包括在所述第一方向上彼此间隔开的边和在所述第二方向上彼此间隔开的其它边,所述第一掩模片的所述边中的一个连接到所述第一杆部,所述边中的另一个连接到所述短边部中的与其叠置的一个,并且所述其它边中的每个连接到所述长边部中的与其叠置的一个,所述第三掩模片的所述边中的一个连接到所述第二杆部,所述边中的另一个连接到所述短边部中的与其叠置的一个,并且所述其它边中的每个连接到所述长边部中的与其叠置
的一个,并且所述第二掩模片的所述边中的一个连接到所述第一杆部,所述边中的另一个连接到所述第二杆部,并且所述其它边中的每个连接到所述长边部中的与其叠置的一个。11.根据权利要求10所述的掩模组件,所述掩模组件还包括:第一焊接突起,分别设置在所述第一掩模片和所述第二掩模片中的每个的前表面以及所述第二掩模片和所述第三掩模片中的每个的前表面上,所述第一掩模片和所述第二掩模片中的每个的所述前表面在所述平面图中与所述第一杆部叠置,所述第二掩模片和所述第三掩模片中的每个的所述前表面在所述平面图中与所述第二杆部叠置;以及第二焊接突起,在所述平面图中与所述框架叠置地分别设置在所述第一掩模片至所述第三掩模片的所述前表面上。12.根据权利要求9所述的掩模组件,其中,所述第一沉积开口、所述第二沉积开口和所述第三沉积开口中的至少一者在所述第一方向和所述第二方向上按n行
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m列布置,n和m是大于0的自然数,并且n和m中的至少一个大于或等于2。13.根据权利要求1所述的掩模组件,其中,所述第一掩模片和所述第二掩模片中的每个在所述第一方向上的宽度小于所述第一掩模片和所述第二掩模片中的每个在所述第二方向上的宽度。14.一种用于制造掩模组件的方法,所述方法包括以下步骤:设置限定框架开口的框架,所述框架在第一方向上的宽度大于所述框架在与所述第一方向交叉的第二方向上的宽度;在所述框架上设置掩模片和至少一个杆部,所述至少一个杆部支撑所述掩模片中的两个相邻掩模片;在所述掩模片和所述至少一个杆部向在所述第二方...
【专利技术属性】
技术研发人员:洪宰敏,罗成进,卢熙锡,李晟彻,
申请(专利权)人:三星显示有限公司,
类型:发明
国别省市:
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