本发明专利技术提供一种集成电路设计版图处理方法、装置、电子设备及存储介质，属于集成电路设计技术领域，所述方法包括：通过预设的电路顶层名称表将所述第一待处理设计版图的顶层的名称与第一待处理设计版图的命名进行关联，从而确定脚本文件的各目标参数，以确定出目标脚本文件来进行修正等操作。本发明专利技术的集成电路设计版图处理方法，通过对第一待处理版图在脚本文件中对应的目标参数进行替换，得到目标脚本文件，以便于自动对第一待处理设计版图进行设计修正，且保证了第一待处理设计版图与第二待处理设计版图之间的关联关系不会出错，既提高了设计版图处理的效率，也保证了设计版图处理的准确性。的准确性。的准确性。
【技术实现步骤摘要】
集成电路设计版图处理方法、装置、电子设备及存储介质
[0001]本专利技术涉及集成电路设计
，尤其涉及一种集成电路设计版图处理方法、装置、电子设备及存储介质。
技术介绍
[0002]在芯片的流片过程中，必须满足使用到的层次的密度要求，才能保证芯片的可靠性和芯片制造过程中光刻机的自对准工艺的准确性。现阶段研发所采用的方式使用芯片代加工方所提供的脚本文件在原有设计版图的基础上生成集成电路设计版图对应的修正版图，从而满足芯片一定的可靠性要求。针对不同的集成电路设计版图数据，需要从设计版图编辑工具中不断导出集成电路设计版图，执行脚本修正、导出修改后的设计版图并合并版图得到新设计版图这四个步骤，并且每个过程都需要手动执行，如果数据有修改，必须重复操作，效率和准确性都比较低。
技术实现思路
本专利技术提供一种集成电路设计版图处理方法、装置、电子设备及存储介质，用以解决现有技术中集成设计电路版图修正导出修正操作繁琐的缺陷，实现集成设计电路版图修正导出修正操作的自动化与高效化。
[0003]本专利技术提供一种集成电路设计版图处理方法，包括：通过导出函数将第一待处理设计版图从设计版图编辑软件库导出至目标存储地址；所述导出函数的输入端为所述第一待处理设计版图的存储地址，所述导出函数的输出端为所述目标存储地址；基于预设的电路顶层名称表对所述第一待处理设计版图的顶层进行命名，以将所述第一待处理设计版图的顶层的名称与所述第一待处理设计版图进行关联；基于所述第一待处理设计版图的顶层的名称与所述预设的电路顶层名称表，确定所述第一待处理设计版图对应的脚本文件的各目标参数；所述预设的电路顶层名称表包括对应的脚本文件的各目标参数；基于各目标参数对脚本文件的参数进行调整，得到目标脚本文件；基于所述目标脚本文件，对所述第一待处理设计版图进行设计修正，生成第二待处理设计版图，并保存于所述目标存储地址；基于所述目标存储地址的所述第一待处理设计版图和所述第二待处理设计版图，生成目标设计版图；所述目标设计版图用于芯片的流片。
[0004]根据本专利技术提供的一种集成电路设计版图处理方法，所述基于预设的电路顶层名称表对所述第一待处理设计版图的顶层进行命名，包括:识别所述第一待处理设计版图的顶层的版图内容，通过数据库操作语言从所述预设的电路顶层名称表中查找所述第一待处理设计版图对应的顶层的名称，并对所述第一待处理设计版图的顶层进行命名。
[0005]根据本专利技术提供的一种集成电路设计版图处理方法，所述基于各目标参数对脚本文件的参数进行调整，得到目标脚本文件，包括：基于各目标参数，通过所述脚本文件的端口将所述脚本文件的各参数分别替换为各目标参数；在各目标参数替换完成的情况下，生成所述目标脚本文件。
[0006]根据本专利技术提供的一种集成电路设计版图处理方法，所述基于所述目标脚本文件，对所述第一待处理设计版图进行设计修正，生成第二待处理设计版图，并保存于所述目标存储地址，包括：基于所述目标脚本文件，对所述第一待处理设计版图的设计参数进行修正，根据修正后的参数与修正前的参数的差值生成所述第二待处理设计版图，并保存于所述目标存储地址。
[0007]根据本专利技术提供的一种集成电路设计版图处理方法，在所述通过导出函数将所述第一待处理设计版图从所述设计版图编辑软件库导出至目标存储地址之前，所述方法还包括：将设计版图编辑软件库中的待处理设计版图进行命名，得到命名后的所述第一待处理设计版图。
[0008]根据本专利技术提供的一种集成电路设计版图处理方法，所述基于所述目标存储地址的所述第一待处理设计版图和所述第二待处理设计版图，生成目标设计版图，包括：通过导入函数将所述目标存储地址的所述第一待处理设计版图和所述第二待处理设计版图导入所述设计版图编辑软件库中；通过所述设计版图编辑软件库中的合并函数，将所述第一待处理设计版图和所述第二待处理设计版图进行合并，生成所述目标设计版图。
[0009]根据本专利技术提供的一种集成电路设计版图处理方法，所述第一待处理设计版图的设计参数包括芯片不同位置的金属厚度。
[0010]本专利技术还提供一种集成电路设计版图处理装置，包括：第一处理模块，用于通过导出函数将第一待处理设计版图从设计版图编辑软件库导出至目标存储地址；所述导出函数的输入端为所述第一待处理设计版图的存储地址，所述导出函数的输出端为所述目标存储地址；第二处理模块，用于基于预设的电路顶层名称表对所述第一待处理设计版图的顶层进行命名，以将所述第一待处理设计版图的顶层的名称与所述第一待处理设计版图进行关联；第三处理模块，用于基于所述第一待处理设计版图的顶层的名称与所述预设的电路顶层名称表，确定所述第一待处理设计版图对应的脚本文件的各目标参数；所述预设的电路顶层名称表包括对应的脚本文件的各目标参数；第四处理模块，用于基于各目标参数对脚本文件的参数进行调整，得到目标脚本文件；第五处理模块，用于基于所述目标脚本文件，对所述第一待处理设计版图进行设计修正，生成第二待处理设计版图，并保存于所述目标存储地址；第六处理模块，用于基于所述目标存储地址的所述第一待处理设计版图和所述第
二待处理设计版图，生成目标设计版图；所述目标设计版图用于芯片的流片。
[0011]本专利技术还提供一种电子设备，包括存储器、处理器及存储在存储器上并可在处理器上运行的计算机程序，所述处理器执行所述程序时实现如上述任一种所述集成电路设计版图处理方法。
[0012]本专利技术还提供一种非暂态计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，该计算机程序被处理器执行时实现如上述任一种所述集成电路设计版图处理方法。
[0013]本专利技术还提供一种计算机程序产品，包括计算机程序，所述计算机程序被处理器执行时实现如上述任一种所述集成电路设计版图处理方法。
[0014]本专利技术提供的集成电路设计版图处理方法、装置、电子设备及存储介质，通过自动对第一待处理设计版图进行导出并对第一待处理版图在脚本文件中对应的目标参数进行替换，得到目标脚本文件，以便于自动对第一待处理设计版图进行设计修正，且将当次处理的第一待处理设计版图与第二待处理设计版图保存于目标存储地址，保证了第一待处理设计版图与第二待处理设计版图之间的关联关系不会出错，既提高了设计版图处理的效率，也保证了设计版图处理的准确性。
附图说明
[0015]为了更清楚地说明本专利技术或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作一简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0016]图1是本专利技术提供的集成电路设计版图处理方法的流程示意图之一；图2是本专利技术提供的集成电路设计版图处理方法的流程示意图之二；图3是本专利技术提供的集成电路设计版图处理装置的结构示意图；图4是本专利技术提供的电子设备的结构示意图。
具体实施方式
[0017]为使本专利技术的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本专利技术中的附图，对本专利技术本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种集成电路设计版图处理方法，其特征在于，包括：通过导出函数将第一待处理设计版图从设计版图编辑软件库导出至目标存储地址；所述导出函数的输入端为所述第一待处理设计版图的存储地址，所述导出函数的输出端为所述目标存储地址；基于预设的电路顶层名称表对所述第一待处理设计版图的顶层进行命名，以将所述第一待处理设计版图的顶层的名称与所述第一待处理设计版图进行关联；基于所述第一待处理设计版图的顶层的名称与所述预设的电路顶层名称表，确定所述第一待处理设计版图对应的脚本文件的各目标参数；所述预设的电路顶层名称表包括对应的脚本文件的各目标参数；基于各目标参数对脚本文件的参数进行调整，得到目标脚本文件；基于所述目标脚本文件，对所述第一待处理设计版图进行设计修正，生成第二待处理设计版图，并保存于所述目标存储地址；基于所述目标存储地址的所述第一待处理设计版图和所述第二待处理设计版图，生成目标设计版图；所述目标设计版图用于芯片的流片。2.根据权利要求1所述的集成电路设计版图处理方法，其特征在于，所述基于预设的电路顶层名称表对所述第一待处理设计版图的顶层进行命名，包括:识别所述第一待处理设计版图的顶层的版图内容，通过数据库操作语言从所述预设的电路顶层名称表中查找所述第一待处理设计版图对应的顶层的名称，并对所述第一待处理设计版图的顶层进行命名。3.根据权利要求1所述的集成电路设计版图处理方法，其特征在于，所述基于各目标参数对脚本文件的参数进行调整，得到目标脚本文件，包括：基于各目标参数，通过所述脚本文件的端口将所述脚本文件的各参数分别替换为各目标参数；在各目标参数替换完成的情况下，生成所述目标脚本文件。4.根据权利要求1所述的集成电路设计版图处理方法，其特征在于，所述基于所述目标脚本文件，对所述第一待处理设计版图进行设计修正，生成第二待处理设计版图，并保存于所述目标存储地址，包括：基于所述目标脚本文件，对所述第一待处理设计版图的设计参数进行修正，根据修正后的参数与修正前的参数的差值生成所述第二待处理设计版图，并保存于所述目标存储地址。5.根据权利要求1所述的集成电路设计版图处理方法，其特征在于，在所述通过导出函数将所述第一待处理设计版图从所述设计版图编辑软件库导出至目标存储地址之前，所述方法...
【专利技术属性】
技术研发人员：何显，王晓阳，张晓辉，
申请(专利权)人：上海奎芯集成电路设计有限公司，
类型：发明
国别省市：
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