一种喷涂设备制造技术

本申请公开了一种喷涂设备，包括：基座、喷涂机构、传输机构和托载机构，基座上设有喷涂区；喷涂机构设于基座，用于向经过喷涂区的硅片的正面喷涂物料；托载机构活动连接于基座，用于托载在硅片的背面的至少部分表面，并带动硅片经过喷涂区；传输机构活动连接于基座，用于将硅片送入托载机构，以及将硅片移出托载机构。通过传输机构和托载机构的配合，能够实现喷涂过程中硅片的自动传输；同时，利用托载机构托载在硅片背面的至少部分表面，在喷涂和传输过程中，可以避免硅片的背面粘附物料，提高了硅片的喷涂质量，节省了硅片的清洗环节，降低了生产成本。低了生产成本。低了生产成本。

【技术实现步骤摘要】
一种喷涂设备


[0001]本申请属于喷涂
，具体涉及一种喷涂设备。

技术介绍

[0002]在光伏电池制造领域，通过在P型或N型的硅片表面扩散形成PN结是光伏电池生产的重要环节，通常在制取PN结之前，需要在硅片的表面均匀喷涂掺杂源溶液，再经过热处理以形成PN结。
[0003]相关技术中，扩散源喷涂设备一般采用滚轴传输，通过滚轴依次将多个硅片分别传输至喷头的下方，再利用喷头向硅片的表面喷涂掺杂源溶液。然而，在实际喷涂过程中，由于前后两个硅片之间存有间隙，导致间隙处的滚轴会被喷涂上掺杂源溶液，当滚轴再次传输硅片时，容易造成硅片的背面粘附掺杂源溶液，影响了硅片的喷涂质量；同时，需要在后续工序中设置清洗环节，增加了生产成本。

技术实现思路

[0004]本申请旨在提供一种喷涂设备，至少解决相关技术中的喷涂设备在对硅片喷涂过程中，容易造成硅片的背面粘附掺杂源溶液，影响了硅片的喷涂质量增加了生产成本的问题之一。
[0005]为了解决上述技术问题，本申请是这样实现的：
[0006]本申请实施例提出了一种喷涂设备，包括：
[0007]基座，所述基座上设有喷涂区；
[0008]喷涂机构，所述喷涂机构设于所述基座，用于向经过所述喷涂区的硅片的正面喷涂物料；
[0009]托载机构，所述托载机构活动连接于所述基座，用于托载在所述硅片的背面的至少部分表面，并带动所述硅片经过所述喷涂区；
[0010]传输机构，所述传输机构活动连接于所述基座，用于将所述硅片送入所述托载机构，以及将所述硅片移出所述托载机构。
[0011]可选地，所述托载机构包括：第一移动模组和载台组件；
[0012]所述第一移动模组安装于所述基座，所述载台组件活动连接于所述第一移动模组；
[0013]所述载台组件用于托载在所述硅片的背面的至少部分表面，所述第一移动模组用于驱动所述载台组件移动，并通过所述载台组件托载所述硅片经过所述喷涂区。
[0014]可选地，所述载台组件包括：托载台和集料槽；
[0015]所述集料槽连接于所述第一移动模组，所述集料槽中设有收集所述物料的凹槽，所述托载台设于所述凹槽内，所述托载台用于托载在所述硅片的背面的至少部分表面。
[0016]可选地，所述第一移动模组包括：水平移动模组和升降移动模组；
[0017]所述水平移动模组安装于所述基座，所述升降移动模组活动连接于所述水平移动
模组，所述载台组件活动连接于所述升降移动模组；
[0018]所述升降移动模组用于驱动所述载台组件升降移动；
[0019]所述水平移动模组用于驱动所述升降移动模组移动，并通过所述升降移动模组带动所述载台组件经过所述喷涂区。
[0020]可选地，所述载台组件还包括：负压吸附结构，所述负压吸附结构设于所述托载台中；
[0021]在所述托载台托载所述硅片的情况下，所述负压吸附结构与所述硅片的背面的至少部分表面接触。
[0022]可选地，所述传输机构包括：第一传输装置和第二传输装置；
[0023]所述第一传输装置和所述第二传输装置分别设于所述喷涂区的两侧；所述第一传输装置用于将待喷涂的所述硅片送入所述托载机构，所述第二传输装置用于将喷涂完成的所述硅片移出所述托载机构。
[0024]可选地，所述第一传输装置和所述第二传输装置中至少一个为皮带传送机构。
[0025]可选地，所述喷涂设备还包括：第一感应件；
[0026]所述第一感应件设于所述第一传输装置中，所述第一感应件用于感应所述硅片的第一位置并发出第一感应信号，所述第一传输装置用于基于所述第一感应信号将所述硅片送入所述托载机构。
[0027]可选地，所述喷涂设备还包括：第二感应件；
[0028]所述第二感应件设于所述第二传输装置中，所述第二感应件用于感应所述硅片的第二位置并发出第二感应信号，所述第二传输装置用于基于所述第二感应信号将所述硅片移出所述托载机构。
[0029]可选地，所述喷涂机构包括：安装支架、第二移动模组和喷头组件；
[0030]所述安装支架安装在所述基座上，所述第二移动模组活动连接于所述安装支架，所述喷头组件连接于所述第二移动模组；
[0031]所述喷头组件用于向所述硅片的正面喷涂所述物料；所述第二移动模组用于驱动所述喷头组件移动，以调节所述喷头组件的位置。
[0032]可选地，所述喷涂机构还包括：喷气罩；
[0033]所述喷气罩连接于所述第二移动模组，所述喷气罩环绕所述喷头组件设置；所述喷气罩用于喷射气体以形成环形气墙，并通过所述环形气墙限制所述物料的喷射区域。
[0034]可选地，所述喷头组件包括：多个喷头和控制器；
[0035]所述多个喷头连接于所述第二移动模组，所述控制器分别与所述多个喷头电连接，所述控制器用于分别控制每个所述喷头的打开和关闭，以向所述硅片的表面喷涂所述物料。
[0036]在本申请的实施例中，喷涂设备的基座上设置喷涂区，在基座上设置喷涂机构，利用喷涂机构可以向经过喷涂区的硅片表面喷涂物料，在基座上活动连接有托载机构和传输机构，通过传输机构可以将待喷涂的硅片送入托载机构中，由托载机构托载在待喷涂的硅片的背面的至少部分表面，并通过托载机构带动硅片经过喷涂区，由喷涂机构向硅片的正面喷涂物料，在完成硅片正面的物料喷涂后，再由传输机构将喷涂完成的硅片移出托载机构。这样，通过传输机构和托载机构的配合，能够实现喷涂过程中硅片的自动传输；同时，利
用托载机构托载在硅片背面的至少部分表面，在喷涂和传输过程中，可以避免硅片的背面粘附物料，提高了硅片的喷涂质量，节省了硅片的清洗环节，降低了生产成本。
[0037]本申请的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本申请的实践了解到。
附图说明
[0038]本申请的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：
[0039]图1是根据本申请实施例的喷涂设备的俯视图；
[0040]图2是根据本申请实施例的喷涂设备的主视图；
[0041]图3是根据本申请实施例的喷涂设备的侧视图；
[0042]图4是根据本申请实施例的喷涂设备的局部示意图；
[0043]图5是根据本申请实施例的托载机构的主视图；
[0044]图6是根据本申请实施例的托载机构的侧视图；
[0045]图7是根据本申请实施例的传输机构的示意图；
[0046]图8是根据本申请实施例的第一传输装置的示意图；
[0047]图9是根据本申请实施例的喷涂机构的侧视图；
[0048]图10是根据本申请实施例的喷涂机构的仰视图。
[0049]附图标记：
[0050]100：基座；101：喷涂区；200：喷涂机构；210：安装支架；220：第二移动模组；230：喷头组件；231：多个喷头本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种喷涂设备，其特征在于，包括：基座，所述基座上设有喷涂区；喷涂机构，所述喷涂机构设于所述基座，用于向经过所述喷涂区的硅片的正面喷涂物料；托载机构，所述托载机构活动连接于所述基座，用于托载在所述硅片的背面的至少部分表面，并带动所述硅片经过所述喷涂区；传输机构，所述传输机构活动连接于所述基座，用于将所述硅片送入所述托载机构，以及将所述硅片移出所述托载机构。2.根据权利要求1所述的喷涂设备，其特征在于，所述托载机构包括：第一移动模组和载台组件；所述第一移动模组安装于所述基座，所述载台组件活动连接于所述第一移动模组；所述载台组件用于托载在所述硅片的背面的至少部分表面，所述第一移动模组用于驱动所述载台组件移动，并通过所述载台组件托载所述硅片经过所述喷涂区。3.根据权利要求2所述的喷涂设备，其特征在于，所述载台组件包括：托载台和集料槽；所述集料槽连接于所述第一移动模组，所述集料槽中设有收集所述物料的凹槽，所述托载台设于所述凹槽内，所述托载台用于托载在所述硅片的背面的至少部分表面。4.根据权利要求2所述的喷涂设备，其特征在于，所述第一移动模组包括：水平移动模组和升降移动模组；所述水平移动模组安装于所述基座，所述升降移动模组活动连接于所述水平移动模组，所述载台组件活动连接于所述升降移动模组；所述升降移动模组用于驱动所述载台组件升降移动；所述水平移动模组用于驱动所述升降移动模组移动，并通过所述升降移动模组带动所述载台组件经过所述喷涂区。5.根据权利要求3所述的喷涂设备，其特征在于，所述载台组件还包括：负压吸附结构，所述负压吸附结构设于所述托载台中；在所述托载台托载所述硅片的情况下，所述负压吸附结构与所述硅片的背面的至少部分表面接触。6.根据权利要求1所述的喷涂设备，其特征在于，所述传输机构包括：第一传输装置和第二传输装置；所述第一传输装置和所...

【专利技术属性】
技术研发人员：夏学，郭梦龙，李华，
申请(专利权)人：泰州隆基乐叶光伏科技有限公司，
类型：新型
国别省市：