本发明专利技术涉及一种化妆品组合物，其含有至少一种二苯甲酰甲烷衍生物和至少一种式（Ⅰ）中的含硅氧烷的芳烷基酰胺衍生物的混合物：本发明专利技术还涉及一种通过有效量的至少一种式（Ⅰ）中的含硅氧烷的芳烷基苯甲酸酯酰胺衍生物使至少一种二苯甲酰衍生物对辐射具有耐光性的方法。本发明专利技术还涉及所述式（Ⅰ）的特定芳烷基酰胺衍生物在包括至少一种在化妆可接受介质中的二苯甲酰基甲烷衍生物的组合物中改善所述组合物对ＵＶ－Ａ射线效果的用途。
【技术实现步骤摘要】
含有:3甲酰甲烷衍生物禾晗硅敏的芳烷基苯甲酸翻魏旨衍生物的化妆品组合物本专利技术涉及一种化妆品组合物，其含有至少一种二苯甲酰甲烷衍生物和至 少一种式(I)中的特定含硅氧院的芳'皿苯甲酸酯翻安衍生物的混合物，式(I) 在下文中给出定义。本专利技术还涉及一种Mil有效量的至少一种下文中给出定义的式(I)中的特 定含硅氧烷的芳烷基苯甲酸酯翻安衍生物，使至^"禾中二苯甲酰衍生物对辐射 具有耐光性的方法。本专利技术还涉^Sff述式(I)中特定含硅氧院的芳烷基苯甲酸酯翻安衍生物在 包括至少一种在化妆可接受介质中的二苯甲酰甲烷衍生物类防晒剂的组合物中的用途，其目的是舰所述组激对于UV-A射线的效果。在280nm到400nm之间波长的光射线已知可使人的皮肤变褐;更尤其波长 在280-320nm的射线称为UV-B射线，已知可导致天然晒黑形成的有害红斑和 皮肤灼伤。因为这些原因以及美学上的原因，对于控制该天然晒黑以及这样控 制皿的颜色的方式存在不断的需求；因皿当的^ii^^述的UV-B辐射。弓胞皿褐变的波长在320400nm的UV-A射线已知會滩弓l起皿的有害 变化，尤，敏感 ^ 辦卖暴露于日光辐射盼瞎况下。特别是UV-A射 线可弓胞皮肤弹性丧失和铍纹的出现，导致皮肤的过早衰老。它们在一些受试 者中促进红斑反应的触发或增强了该反应，甚至育,是光毒性或光敏感性反应 的原因。因此，由于美学和化妆的原因，例如保持皮肤的天然弹性，例如，越 来越多的人希望控制UV-A辐射对他们皮肤的影响。因此，不希望遮蔽UV-A 辐射。为了给皮肤和角质物质衛共对抗UV辐射的^J户，通常使用含有有机防晒 剂的防晒组合物，该防晒剂在UV-A区域和UV-B区域内都具有活性。这禾中防 晒剂大多数是脂溶性的。在这方面，目前特别有效的UV-A防晒剂家族包括二苯甲酰甲烷衍生物， 尤其是4-叔-丁基-4'-甲氧基二苯甲酰甲烷，其实际上具有极好的固有吸光率。这些二苯甲酰甲院衍生物本身现在是作为在uv_A区域具有活性的公知的防晒剂产品，尤其公开在法国专利申请FR-A-2326405和FR-A-2440933和欧洲专利 申请EP-A-0114607中；此外，4-叔-丁基4'-甲氧基二苯甲酰甲烷目前在市场上 由DSMNutritional Prodvets以商品名PARSOL 1789⑧销售。遗憾的是，已发现二苯甲酰甲烷衍生物，紫外(尤其UV-A)线辐射相 对敏感的产品，即更具体地说，它们在所述辐射下，具有或多或少地快速分解 的不禾i顺向性。因此，这种二苯甲酰甲烷衍生物，在紫外线辐射的面部中的光 化学稳定性(它们自然地经受紫外线辐射)的显著缺乏使得不可能在长期日晒 过程中在过长暴露于太阳下时，其不能樹共持续的保证有不变的防护作用，致 使使用者不得不定期和频繁间隔内重复施用，以便获得有效的皮肤防UV辐射 的保护。然而，申请现在冈,岭人惊奇地发现，通过将上述提及的二苯甲酰甲烷衍 生物与有效量下文给出具体定义的式(I)的特定芳烷基氨基酸衍生物合并，可 以充分并显著i也进一步e，这些同样的二苯甲酰甲烷衍生物的光化学稳定性及 它们在UV-A区域的效果。含有这种混合物的组合物在应用后还生成一种更均 匀分布的UV防晒剂。这些发现形成了本专利技术的基础。因此，根据本专利技术的一个主题，现在提供一种组合物，该组合物在化妆可 接受介质中包括至少一种UV防晒系统，特征在于含有(a) 至少一种二苯甲酰甲烷衍生物型的UV-A防晒抓禾口(b) 至少一种式(I)的含硅織的芳烷基苯甲酸酰胺酯衍生物，该分子 式在下文中给出定义。本专利技术的另一个主IK涉及改iS少一种二苯甲酰甲烷衍生物类UV-A防 晒剂对UV辐射的化学稳定性的方法，该方法包括将所述的二苯甲酰甲烷衍生 物与有效量的至少一种下文中给出定义的式(I)的含硅氧烷的芳烷基苯甲酸酰 胺酯衍生物合并。最后，本专利技术的另一主题是至少一种式(I)的含硅氧垸芳垸基苯甲酸酰 胺酯衍生物在包括至少一种化妆可接受介质中的有效量二苯甲酰甲烷衍生物的 组合物的用途，其目的是改进所述组合物对UV-A射线的交媒。在阅读下述详细l，之后，将清楚本专利技术的其它特征、方面和优点。术语"化妆可接受"应理解为指与皮肤和/或其外表皮(integuments)相 适应，具有令人愉悦的颜色、气味和感觉，且不会产生不可接受的不适感(剌 痛、紧绷、红斑)，-导致消费者不愿l顿这种组合物。术语"有效量"理解为足以使得化妆品组合物中二苯甲酰甲烷衍生物的耐 光性获得显著和有效改善的量。式(I)化合物的最小量可根据组合物介质的性 质而变化，其可以很容易地利用如下面例子给出的常规耐光性测量法试验确 定。根据本专利技术的含有硅氧垸的芳垸基酰胺衍生物选自对应于下述式(I)的那些<formula>formula see original document page 11</formula>其中■ R,是直链或者支链CVC4烷基； 画P是0陽2;-m是(M; -X是-N (R2)--R2是H，直链或者支链CVC2o烷基，乙酰基或者-012012丽(C=0) Ph;-R，是相同的或者不同的，代表直链或者支链qA。烷基，c;-c^芳基3,3,3-三氟丙基三甲基甲硅烷氧基或者直链或者支链C广q。烷氧基； a=l-2;B^it自下述式(n)， (m)或者(iv)之一的二{介基团<formula>formula see original document page 11</formula><formula>formula see original document page 12</formula>(iv〉其中，z是直链叙链，饱和或者不饱和的c1－c6亚烷基，任选的被羟基或者直链或者支链的，饱和或者不饱和的C1－C8烷魏代；W^樣氢原子，羟基或者直链駭链的，饱和或者不饱禾啲CV&烷基；并且v是o或者i。除了式-B- (SO (R) a (0)的单元，有机硅氧烷可以包括式(R)b- (SD (0),o的单元，其中R具有与式(I)定义相同的含义；并且b=2-3。优选地，基团-(Si) (R) a (0)(w。可以用下面的通式(V)或者(VI)表示<formula>formula see original document page 12</formula>(v)或者<formula>formula see original document page 12</formula>(vi)其中:(E)是在上面定义的式(I)中的基于石圭氧烷的,连和基团B之间的键；R3是相同或者不同的，选自直链或者支链CV&。烷基苯基3,3,3-三氟 丙基和三甲基甲硅烷氧基，至少80%的113基是甲基；(D)是相同的或者不同的，选自113基和(E)基； r是包括0至200的整数，并且s是包括0至50的整数，当s=0时，两个(D)中至少之一为B，u是包括1至10的整数，并且t是包括0至10的整数，可以理解为t+论3， 当q为l时，u=l， 3=1并且(D)不能为B或者s-0，贝ij仅有一个(D)为B。在通式(I)至(VI)中，烷基本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种组合物，在化妆品可接受介质中含有至少一种二苯甲酰甲烷衍生物型的ＵＶ－遮光剂和至少一种下述式（Ⅰ）中的含硅氧烷的芳基烷基苯甲酸酯酰胺衍生物：＊＊＊（Ⅰ）其中－Ｒ↓［１］是直链或者支链Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷基；－ｐ是０－２；－ｍ是０－４；－Ｘ是－Ｎ（Ｒ↓［２］）－－Ｒ↓［２］是Ｈ，直链或者支链Ｃ↓［１］－Ｃ↓［２０］烷基，乙酰基或者－ＣＨ↓［２］ＣＨ↓［２］ＮＨ（Ｃ＝Ｏ）Ｐｈ；－Ｒ，是相同的或者不同的，代表直链或者支链Ｃ↓［１］－Ｃ↓［２０］烷基，Ｃ↓［６］－Ｃ↓［１２］芳基，３，３，３－三氟丙基，三甲基甲硅烷氧基或者直链或者支链Ｃ↓［１］－Ｃ↓［１０］烷氧基；ａ＝１－２；Ｂ是选自下述通式（Ⅱ），（Ⅲ）或者（Ⅳ）之一的二价基团：－ＣＨ↓［２］－＊Ｈ－（Ｚ）↓［ｖ］－（Ⅱ）－ＣＨ＝ＣＨ－（Ｚ）↓［ｖ］－（Ⅲ）＊（Ｚ）↓［ｖ］ －（Ⅳ）其中，Ｚ是直链或支链饱和或者不饱和的Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］亚烃基，任选的被羟基或者直链或者支链，饱和或者不饱和的Ｃ↓［１］－Ｃ↓［８］烷基取代；Ｗ代表氢原子，羟基或者直链或支链，饱和或者不饱和的Ｃ↓［１］－Ｃ↓［８］烷基；并且Ｖ是０或者１。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：D坎多，B米勒，H里查德，
申请(专利权)人：莱雅公司，
类型：发明
国别省市：FR[法国]
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