【技术实现步骤摘要】
一种GaN HEMT器件的寄生电容放电损耗的检测电路
[0001]本专利技术涉及于电力电子
,尤其涉及一种GaN HEMT器件的寄生电容放电损耗的检测电路。
技术介绍
[0002]氮化镓高电子迁移率晶体管(GaN HEMT)是第三代半导体器件中继SiC晶体管之后的新型宽禁带半导体器件,其具有的直接带隙的纤锌矿晶体结构使它拥有着3.39eV的禁带宽度与远高于硅锗以及砷化镓材料的电子迁移率。因此,GaN HEMT器件能够制备出具有高耐压、大电流、高耐温、高频、强抗干扰等优越性能的晶体管。GaN HEMT器件目前是一个新的领域,具有远大的应用前景、市场机遇与巨大的发展潜力。
[0003]基于与AlGaN形成的异质结的GaN HEMT,在其自身的自发极化以及晶格常数所形成的势阱中存在着体密度高达1019量级的高浓度二维电子气(2DEG),使得其导通阻抗非常低。且GaN HEMT器件层间材料禁带宽,介电常数高,从而可以将结电容控制到非常低的水平,例如GaN Systems公司的GS66502B型号GaN HEMT输入电容(Ciss)、输出电容(Coss)、米勒电容(Crss)在栅源电压Vgs=0V、漏源电压Vds=400V、频率为100kHZ时通常为60pf、17pf、0.5pf,远远低于硅基MOSFET的上千pf量级。
[0004]GaN HEMT凭借其极高的电子迁移率和开关速度能够应用于各种高频场合,但也正因如此,在其实际应用中损耗分析就尤为重要。在基于双脉冲测试电路的GaN HEMT的硬开关过程中, ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种GaNHEMT器件的寄生电容放电损耗的检测电路,其特征在于包括供电电源、一系列并联的电容组、由一组串联电阻构成的分压电路和运算放大器组成的电压检测单元、电流检测电路、以及控制电容并联进电路和从电路断开的单片机控制单元;所述供电电源用于对运算放大器以及单片机控制单元供电;所述电容组用于适配GaN HEMT的寄生电容值;所述由一组串联电阻构成的分压电路和运算放大器LM324PW组成的电压检测单元用于测量GaNHEMT的目标寄生电容两端的电压值;所述电流测量电路用于检测并联电容支路的电流大小以获得寄生电容上电容放电电流的大小;所述单片机控制单元用于控制对应的电容组并联入电路和从电路断开以及用于采样电压值与电流值并将数据通过串口通讯上传至上位机进行读取。2.根据权利要求1所述的一种GaNHEMT器件的寄生电容放电损耗的检测电路,其特征在于所述运算放大器为四运放集成电路,所述运算放大器的芯片型号为LM324PW,所述运算放大器采用SOP封装,所述运算放大器一共有14个引脚,四组所述运算放大器的输出引脚分别为:引脚1、引脚7、引脚8、引脚14,四组所述运算放大器的正向和反向输入端分别为引脚2、引脚3、引脚5、引脚6、引脚9、引脚10、引脚12、引脚13,所述引脚4为VCC+引脚,所述引脚4连接到5V供电电源,所述引脚11为VCC
‑
引脚接地,所述运算放大器个数为四个,四个所述运算放大器形式完全相同,除电源共用之外相互独立,一个单独的所述运算放大器,其拥有五个信号引出脚,其中“+”,
“‑”
为两个信号输入端,“V+”、“V
‑”
为正、负电源端,“Vo”为输出端,两个信号输入端中,Vi(
‑
)为反相输入端,表示运放输出端Vo的信号与该输入端的相位相反;Vi(+)为同向输入端,表示运放输出端Vo的信号与该输入端的相位相同。3.根据权利要求1所述的一种GaNHEMT器件的寄生电容放电损耗的检测电路,其特征在于所述四运放集成电路的运算放大器内部电压跟随器的电路中R1为消反射电阻,该运放的5、6脚电压相同且输入阻抗无穷大,输入信号的电流主要通过R4流入地,输入点电压在INPUT处形成,理论上,R1并无电流流过,若无消反射电阻R1存在,该信号则会完全反射到INPUT上,如果此时信号源内阻过大,即带载能力低下,反射的信号就会在R4输入点附近形成很强的发射震荡,这样的噪声经过放大就会使输出信号质量非常差。4.根据权利要求1所述的一种GaNHEMT器件的寄生电容放电损耗的检测电路,其特征在于所述一组串联电阻的型号相同。5.根...
【专利技术属性】
技术研发人员:高圣伟,傅孝愚,王昭,田金锐,牛萍娟,
申请(专利权)人:天津工业大学,
类型:发明
国别省市:
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