一种辐射敏感标志及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种辐射敏感标志及其制备方法，属于高分子辐射化学和核技术的应用领域。原料组成如下：树脂基材5

【技术实现步骤摘要】
一种辐射敏感标志及其制备方法


[0001]本专利技术涉及一种辐射敏感标志及其制备方法，属于高分子辐射化学和核技术的应用领域。

技术介绍

[0002]随着辐射化学与工艺的快速发展，电子加速器和
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Coγ射线辐照装置在放射医疗和辐射工业中得到广泛应用，辐射化学剂量计作为辐射效应定量研究的必要手段在辐射化学与工艺中被大量使用。
[0003]通常要求电子辐射剂量计具有重复性好、稳定性好、准确性好、体积小、空间分辨率高等优点。而辐射变色薄膜(Radiochromic film,RCF)是一种利用化合物辐射显色效应来测量辐射剂量的有机固体薄膜，适合作为高质量辐射剂量计。辐射变色薄膜剂量计具有操作简单、测试方便，具有分辨率高、响应一致性好、可直接读取等优点，使其成为测量
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Coγ和电子束吸收剂量及电子加速器场分布、深度剂量分布及能量等参数较理想的剂量计，广泛应用于辐射加工中。
[0004]我国关于薄膜剂量计的研究在二十世纪八十年代也陆续开展过辐射变色薄膜剂量计的研制工作，但是由于难以大批量生产、重现性差本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种辐射敏感标志，其特征在于，通过溶解、流延成膜、制片和粘贴步骤制得：各组分以重量份计，（1）在搅拌条件下，将树脂基材5
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30份；显色剂0.5
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1.5份；增塑剂0.5
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2.5份，加入到70
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100份四氢呋喃溶液中，于温度40℃~70℃加热溶解；（2）将步骤（...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨明成，叶子森，张秋霞，郭文慧，陈阳，刘树博，郭亚欣，梁运增，张本尚，吕峰和，张丁丁，田青亮，张宏娜，樊红丽，
申请(专利权)人：郑州市新视明科技工程有限公司焦作同辐科技有限责任公司河南省科学院，
类型：发明
国别省市：