光学检验机用晶圆表面清洁结构制造技术

本实用新型专利技术公开了一种光学检验机用晶圆表面清洁结构，包括晶圆平台和检测装置。晶圆平台用于放置晶圆。检测装置其一端设有吹气组件，另一端设有吸气组件。晶圆平台能够沿检测装置的一端移至另一端，使吹气组件能够将晶圆上的灰尘吹起并经吸气组件将灰尘吸除，以实现晶圆表面的清洁。该光学检验机用晶圆表面清洁结构，在进行晶圆检验的同时，可对晶圆表面的灰尘等杂物进行及时的清洁处理，提升晶圆良品率。避免二次污染，也避免了因人员手持气枪吹拭造成的晶圆损伤的情况。拭造成的晶圆损伤的情况。拭造成的晶圆损伤的情况。

【技术实现步骤摘要】
光学检验机用晶圆表面清洁结构


[0001]本技术是涉及晶圆检测领域，特别是关于一种光学检验机用晶圆表面清洁结构。

技术介绍

[0002]在现有技术中，在对晶圆进行检测之前，需要手持式气枪将晶圆表面的杂物清除掉或者通过清洗机进行晶圆的清洗。使用手持式气枪进行清洁时，很容易对晶圆表面造成划痕，而使用清洁机进行晶圆清洗增加了一道工序，这样会使得晶圆的生产周期变长，间接的增加了晶圆的生产成本。
[0003]公开于该
技术介绍
部分的信息仅仅旨在增加对本技术的总体背景的理解，而不应当被视为承认或以任何形式暗示该信息构成已为本领域一般技术人员所公知的现有技术。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种光学检验机用晶圆表面清洁结构，其能够有效缓解晶圆表面清洁不便的问题。
[0005]为实现上述目的，本技术提供了一种光学检验机用晶圆表面清洁结构，包括晶圆平台和检测装置。所述晶圆平台用于放置晶圆。所述检测装置其一端设有吹气组件，另一端设有吸气组件。其中，所述晶圆平台能够沿所述检测装置的一端移至另一端，使所述吹气组件能够将所述晶圆本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光学检验机用晶圆表面清洁结构，其特征在于，包括：晶圆平台(1)，用于放置晶圆；检测装置(2)，其一端设有吹气组件，另一端设有吸气组件；以及驱动装置，所述晶圆平台(1)连接于所述驱动装置上，所述驱动装置驱动所述晶圆平台(1)在所述检测装置(2)的一端至另一端之间做水平移动的往复运动；其中，所述晶圆平台(1)能够沿所述检测装置(2)的一端水平移至另一端，使所述吹气组件能够将所述晶圆上的灰尘吹起并经所述吸气组件将灰尘吸除，以实现晶圆表面的清洁。2.如权利要求1所述的光学检验机用晶圆表面清洁结构，其特征在于，所述吹气组件包括吹气头(3)及控制所述吹气头(3)通断的电磁阀(5)，所述吹气头(...

【专利技术属性】
技术研发人员：顾振鹏，凌栋，茅志敏，曹春晖，
申请(专利权)人：苏州康钛检测科技有限公司，
类型：新型
国别省市：