用来加热以及冷却对象物的工作台制造技术

本发明专利技术的课题是提供一种工作台，其以简易的方法使设置在工作台的管永续地与工作台接触，并且也容易修正。本发明专利技术的解决方案是一种工作台1，其设置在腔室内，且用于加热及冷却对象物，工作台1具有：工作台本体5，其具有搭载对象物的搭载表面；第一管状部7，其用于使第一流体流通，所述第一流体是用于调整搭载表面的温度；以及第一管支撑部9，其用于支撑第一管状部7；工作台本体5具有：第一槽部11，其用于容纳第一管状部7；以及缺口对13a、13b，其隔着第一槽部11而对向；第一管支撑部9具有：连结部15，其连结缺口对13a、13b。13b。13b。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用来加热以及冷却对象物的工作台


[0001]本专利技术涉及一种用来加热以及冷却对象物的工作台。

技术介绍

[0002]日本特许第5427367号公报记载有一种矩形基座。基座例如是在制造半导体集成电路、平面显示器面板及太阳能电池板时使用作为工作台。基座在制造工序中例如是将基板加热。此时要求迅速且均一地加热基板。又，也期望能冷却基板。因此，考虑使用冷却管或加热管控制工作台的温度。此时，在单纯将管接触工作台的情况下，会有管脱落而温度控制效率下降的问题。并且，在将管插入工作台内部的情况下，加工困难，也会有不能修正的问题。
[0003]现有技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1：日本特许第5427367号公报

技术实现思路

[0006]专利技术所欲解决的课题
[0007]本专利技术的目的在于提供一种工作台，其以简易的方法使设置在工作台的管永续地与工作台接触，并且也容易修正。
[0008]解决课题的技术方案
[0009]上述课题通过具备不仅是加热工作台的搭载表面的加热部且还具备冷却部的工作台而可解决。又，上述课题通过在容纳加热部或冷却部的槽的间隙填充热传导介质而可解决。
[0010]第一型态的专利技术是关于一种工作台1，其设置在腔室内，且用于加热及冷却对象物。
[0011]此工作台1具有：
[0012]工作台本体5，其具有搭载对象物的搭载表面；
[0013]第一管状部7，其用于使第一流体流通，所述第一流体是用于调整搭载表面的温度；以及
[0014]第一管支撑部9，其用于支撑第一管状部7。
[0015]然后，工作台本体5具有：
[0016]第一槽部11，其用于容纳第一管状部7；以及
[0017]缺口对13a、13b，其隔着第一槽部11而对向。
[0018]然后，第一管支撑部9具有：
[0019]连结部15，其连结缺口对13a、13b。
[0020]此工作台的优选例为，在第一管状部7与第一槽部11的间隙具有热传导介质。热传导介质的优选例为银、润滑脂、金属纤维或气体。
[0021]此工作台的优选例为如权利要求1所记载的工作台，
[0022]第一流体是用于提高搭载表面的温度的流体；
[0023]所述工作台进一步具有：第二管状部21，其用于使第二流体流通，所述第二流体是用于降低搭载表面的温度；
[0024]第二槽部23，其用于容纳第二管状部21；以及
[0025]第二管支撑部25，其用于支撑第二管状部23。
[0026]第二型态的专利技术是关于一种真空装置，其具有上述工作台作为基座的。
[0027]此真空装置例如是使用于制造半导体集成电路、平面显示器面板或太阳能电池板。
[0028]第三型态的专利技术是关于一种使用上述真空装置的制造半导体集成电路、平面显示器面板或太阳能电池板的方法。
[0029]专利技术效果
[0030]本专利技术具有：容纳管状部的槽部、隔着槽部而对向的缺口对以及具有连结缺口对的连结部的管支撑部，因此可提供一种工作台，其以简易的方法使设置在工作台的管永续地与工作台接触，并且也容易修正。
附图说明
[0031][图1]图1为表示工作台的设置的状况的概念图；
[0032][图2]图2为工作台的概略图；
[0033][图3]图3为工作台的局部剖面图；
[0034][图4]图4为用于说明连结部的概念图；
[0035][图5]图5为用于说明制造途中的工作台的参考图；
[0036][图6]图6为表示热传导介质的使用例的概念图；
[0037][图7]图7为取代表示已形成槽及缺口的工作台的背面的附图的照片；
[0038][图8]图8为取代表示已熔接管支撑部的模样的附图的照片。
具体实施方式
[0039]以下使用附图说明用于实施本专利技术的实施方式。本专利技术并不限定于以下说明的方式，亦包含所属
技术人员由以下的方式在显而易见的范围内进行适当修正者。
[0040]图1为表示工作台的设置的状况的概念图。工作台1一般设置在制程腔室2的内部并进行基板3的温度管理。制程腔室2与外部空气隔绝，并保持在期望的真空度。制程腔室2亦可以制程气体4填满而保持压力。根据相异类型的制程腔室，例如物理气相沉积(PVD)腔室或溅镀腔室、离子金属注入(IMP)腔室、化学气相沉积(CVD)腔室、原子层沉积(ALD)腔室、电浆蚀刻腔室、退火腔室、其他腔室，制程气体4的压力会不同。
[0041]图2为工作台的概略图。图3为工作台的局部剖面图。工作台是设置于腔室内，且是用于加热及冷却对象物的搭载台。腔室的例子为真空腔室。对象物的例子为半导体集成电路、平面显示器面板及太阳能电池板，或是制造这些对象物的途中的基板。
[0042]如图1～图3所示，工作台1具有工作台本体5、第一管状部7以及第一管支撑部9。工作台本体5具有：第一槽部11以及缺口对13a、13b。然后，第一管支撑部9具有连结部15。并
且，工作台1的优选例为进一步具有：第二管状部21、第二槽部23以及第二管支撑部25。在图1～图3的例子中，管状部通过工作台支撑部6的内部而与腔室2的外部连通。因此可使流体从外部流入至管状部。
[0043]工作台本体5
[0044]工作台本体5意指具有搭载对象物的搭载表面的部位。
[0045]第一管状部7
[0046]第一管状部7是用于使第一流体流通的管，所述第一流体是用于调整搭载表面的温度。管状部优选为具有在工作台1被加热时不会溶解的材质者。通过在此管使温度调节用的液体适当地流通，而可调整工作台1的温度。第一管状部7例如可以是由使冷却工作台1用的液体流通的圆柱形的管所组成的部位。第一管状部7的管的形状例如可以是以半径5mm的圆作为底面的筒状者。上述半径可为3mm以上9mm以下，也可为4mm以上8mm以下。管的大小或长度只要配合工作台1的尺寸适当调整即可。第一管状部7的半径可皆为相等，也可随着从上游往下游前进而变大。第一管状部7的管的剖面形状可为圆形、可为椭圆形，也可为矩形(四角形、五角形、六角形或八角形)。第一流体可为用于提高搭载表面的温度的流体，也可为用于降低温度的流体。也可对一根管注入目的不同的流体。
[0047]第一管支撑部9
[0048]第一管支撑部9是用于支撑第一管状部7的要素。
[0049]第一槽部11
[0050]第一槽部11是设置在工作台本体5且用于容纳第一管状部7的要素。第一槽部11可设置在工作台本体5的搭载表面侧，也可设置在背面(与搭载表面相反的面)侧。槽部11为高度低于周围的部位。
[0051]缺口对13a、13b
[0052]缺口对13a、13b是设置在隔着第一槽部11而对向的位置的凹陷。缺口对13a、13b也可说是隔着管状部11而对向，且设置在管状部11的两侧的插入用的孔。于此凹陷插入本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种工作台(1)，其特征在于，设置在腔室内，且用于加热及冷却对象物，所述工作台(1)具有：工作台本体(5)，其具有搭载对象物的搭载表面；第一管状部(7)，其用于使第一流体流通，所述第一流体是用于调整所述搭载表面的温度；以及第一管支撑部(9)，其用于支撑第一管状部(7)；所述工作台本体5具有：第一槽部(11)，其用于容纳第一所述管状部(7)；以及缺口对(13a、13b)，其隔着第一槽部(11)而对向；第一管支撑部(9)具有：连结部(15)，其连结所述缺口对(13a、13b)。2.根据权利要求1所述的工作台，其特征在于，在第一管状部(7)与第一槽部(11)的间隙具有热传导介质。3.根据权利要求2所述的工作台，其特征在于，所述热传...

【专利技术属性】
技术研发人员：增田裕二，
申请(专利权)人：阿德帆堤股份有限公司，
类型：发明
国别省市：