薄膜晶体管及其制作方法、显示基板技术

本公开提供了一种薄膜晶体管及其制作方法、显示基板，属于薄膜晶体管技术领域。其中，薄膜晶体管包括：衬底基板；位于所述衬底基板上的栅极；位于所述栅极远离所述衬底基板一侧的有源层，所述有源层在所述衬底基板上的正投影与所述栅极在所述衬底基板上的正投影重叠；位于所述有源层远离所述衬底基板一侧的源极和漏极，所述源极和所述漏极分别与所述有源层连接；其中，所述栅极与所述漏极之间的电阻大于所述栅极与所述源极之间的电阻。本公开能够提高薄膜晶体管的耐压范围。提高薄膜晶体管的耐压范围。提高薄膜晶体管的耐压范围。提高薄膜晶体管的耐压范围。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

【专利技术属性】
技术研发人员：胡合合，王东方，刘凤娟，宁策，李正亮，贺家煜，曲燕，赵坤，黄杰，雷利平，林允植，张舜航，姚念琦，李菲菲，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：