用于灌装的等液位真空设备制造技术

技术编号:38670377 阅读:14 留言:0更新日期:2023-09-02 22:48
本实用新型专利技术提供了一种用于灌装的等液位真空设备,其包括底座、支架、密闭模具和真空设备,所述密闭模具的下部分安装在所述底座的上端面上,所述密闭模具的上部分通过所述支架安装在底座的上方;所述支架内设置有第一气缸,用于驱动所述第一气缸驱动所述密闭模具的上部分与所述密闭模具的下部分上下闭合;待加工产品安装在所述密闭模具中,所述真空设备与所述密闭模具的上部分连接,用于对所述待加工产品抽真空。本实用新型专利技术可以增加产品的出料效率,减少大小管起泵排空次数和原液浪费。双管能够同时出料,减少两种产品不能同时出料而造成的原液浪费,同时解决固有的产品灌装问题,有效提高客户及市场的满意度。有效提高客户及市场的满意度。有效提高客户及市场的满意度。

【技术实现步骤摘要】
用于灌装的等液位真空设备


[0001]本技术涉及护肤品原液灌装领域,特别涉及一种用于灌装的等液位真空设备。

技术介绍

[0002]在护肤品原液灌装领域,现有市场上无抽真空设备,产品灌入原液,加入内塞后活塞式真空管内是有带有空气的。
[0003]特别是,精华类的产品出料量少,产品内部通常带有空气,需要非常多的起泵次数才能够出料。
[0004]通常,这类产品是双相,要控制双相产品的出料量和起泵次数。
[0005]因此,如何把产品内部的空气排除,减少产品出料的起泵次数,成为了本领域技术人员需要努力改进的方向。
[0006]目前,现有技术中的灌装设备具有如下诸多缺陷:
[0007]一、人工生产瓶内空气无法排空,使用过程起泵次数过多。
[0008]二、到达市场易产生客诉和负面市场反应。
[0009]三、双管不能同时出料,造成原液浪费。
[0010]有鉴于此,本申请技术人设计了一种用于灌装的等液位真空设备,以期克服上述技术问题。

技术实现思路

[0011]本技术要解决的技术问题是为了克服现有技术中产品灌入原液无抽真空设备,起泵次数非常多等缺陷,提供一种用于灌装的等液位真空设备。
[0012]本技术是通过下述技术方案来解决上述技术问题的:
[0013]一种用于灌装的等液位真空设备,其特点在于,所述等液位真空设备包括底座、支架、密闭模具和真空设备,所述密闭模具的下部分安装在所述底座的上端面上,所述密闭模具的上部分通过所述支架安装在底座的上方;
[0014]所述支架内设置有第一气缸,用于驱动所述第一气缸驱动所述密闭模具的上部分与所述密闭模具的下部分上下闭合;
[0015]待加工产品安装在所述密闭模具中,所述真空设备与所述密闭模具的上部分连接,用于对所述待加工产品抽真空。
[0016]根据本技术的一个实施例,所述待加工产品为双相产品,包含有第一管件和第二管件,所述第一管件的直径大于所述第二管件的直径,所述第二管件位于所述第一管件内。
[0017]根据本技术的一个实施例,所述密闭模具的上部分的顶部安装有第二气缸,当所述密闭模具的上部分与所述密闭模具的下部分闭合时,通过所述第二气缸压紧所述待加工产品的第二管件的管盖。
[0018]根据本技术的一个实施例,所述等液位真空设备还包括一支撑座,所述密闭模具的上部分固定在所述支撑座的下端面上,所述第二气缸安装在所述支撑座的上端面上,所述支撑座安装在所述支架上,位于所述密闭模具的下部分上方。
[0019]根据本技术的一个实施例,所述支撑座与所述第一气缸连接,通过所述第一气缸驱动所述支撑座上下升降。
[0020]根据本技术的一个实施例,所述密闭模具的上部分的顶部设置有抽真空气管,所述真空设备与所述抽真空气管连接。
[0021]根据本技术的一个实施例,所述密闭模具的下部分内部设置有多个固定凹槽,用于放置待加工产品。
[0022]根据本技术的一个实施例,所述第二管件的底部开设有进气孔。
[0023]根据本技术的一个实施例,所述底座内设置有伸缩气缸,用于驱动所述密闭模具的下部分上下升降。
[0024]根据本技术的一个实施例,所述底座上设置有启动按钮和停止按钮,所述启动按钮和所述停止按钮与所述第一气缸连接,用于控制所述第一气缸工作。
[0025]本技术的积极进步效果在于:
[0026]本技术用于灌装的等液位真空设备,具有如下诸多优势:
[0027]一、增加产品的出料效率,减少大小管起泵排空次数和原液浪费。
[0028]二、减少客户投诉,提高市场满意度,打开精华类产品的市场。
[0029]三、双管能够同时出料,减少两种产品不能同时出料而造成的原液浪费。
[0030]四、解决固有的产品灌装问题,有效提高客户及市场的满意度。
附图说明
[0031]本技术上述的以及其他的特征、性质和优势将通过下面结合附图和实施例的描述而变的更加明显,在附图中相同的附图标记始终表示相同的特征,其中:
[0032]图1为本技术用于灌装的等液位真空设备的立体图一。
[0033]图2为本技术用于灌装的等液位真空设备的立体图二。
[0034]图3为本技术用于灌装的等液位真空设备的主视图。
[0035]图4为本技术用于灌装的等液位真空设备的侧视图。
[0036]【附图标记】
[0037]底座
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10
[0038]支架
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20
[0039]密闭模具的下部分
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30
[0040]密闭模具的上部分
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40
[0041]第二气缸
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50
[0042]支撑座
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60
[0043]固定凹槽
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31
[0044]启动按钮
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11
[0045]停止按钮
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12
具体实施方式
[0046]为让本技术的上述目的、特征和优点能更明显易懂,以下结合附图对本技术的具体实施方式作详细说明。
[0047]现在将详细参考附图描述本技术的实施例。现在将详细参考本技术的优选实施例,其示例在附图中示出。在任何可能的情况下,在所有附图中将使用相同的标记来表示相同或相似的部分。
[0048]此外,尽管本技术中所使用的术语是从公知公用的术语中选择的,但是本技术说明书中所提及的一些术语可能是申请人按他或她的判断来选择的,其详细含义在本文的描述的相关部分中说明。
[0049]此外,要求不仅仅通过所使用的实际术语,而是还要通过每个术语所蕴含的意义来理解本技术。
[0050]图1为本技术用于灌装的等液位真空设备的立体图一。
[0051]图2为本技术用于灌装的等液位真空设备的立体图二。
[0052]图3为本技术用于灌装的等液位真空设备的主视图。
[0053]图4为本技术用于灌装的等液位真空设备的侧视图。
[0054]如图1至图4所示,本技术公开了一种用于灌装的等液位真空设备,其包括底座10、支架20、密闭模具和真空设备(图中未示)。其中,所述密闭模具的下部分30安装在底座10的上端面上,所述密闭模具的上部分40通过支架20安装在底座10的上方。
[0055]支架2本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于灌装的等液位真空设备,其特征在于,所述等液位真空设备包括底座、支架、密闭模具和真空设备,所述密闭模具的下部分安装在所述底座的上端面上,所述密闭模具的上部分通过所述支架安装在底座的上方;所述支架内设置有第一气缸,用于驱动所述第一气缸驱动所述密闭模具的上部分与所述密闭模具的下部分上下闭合;待加工产品安装在所述密闭模具中,所述真空设备与所述密闭模具的上部分连接,用于对所述待加工产品抽真空。2.如权利要求1所述的用于灌装的等液位真空设备,其特征在于,所述待加工产品为双相产品,包含有第一管件和第二管件,所述第一管件的直径大于所述第二管件的直径,所述第二管件位于所述第一管件内。3.如权利要求2所述的用于灌装的等液位真空设备,其特征在于,所述密闭模具的上部分的顶部安装有第二气缸,当所述密闭模具的上部分与所述密闭模具的下部分闭合时,通过所述第二气缸压紧所述待加工产品的第二管件的管盖。4.如权利要求3所述的用于灌装的等液位真空设备,其特征在于,所述等液位真空设备还包括一支撑座,所述密闭模具的上部分固定在...

【专利技术属性】
技术研发人员:王爱军孙裕粱陶元蒋旭祥陶壮
申请(专利权)人:上海西西艾尔启东日用化学品有限公司
类型:新型
国别省市:

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