一种离子束溅射镀膜机用样品盘保护涂层及其制备方法技术

本发明专利技术属于化工涂料技术领域，具体涉及一种离子束溅射镀膜机用样品盘保护涂层及其制备方法。本发明专利技术采用水性聚氨酯底漆、环氧树脂、乙酸丁酯、消泡剂、腰果酚固化剂和偶联剂制备保护涂层，保护涂层平整光滑、粘附性强，不易脱落，耐化学腐蚀性和耐高温性能强，同时对环境和人体健康无害。本发明专利技术的保护涂层均匀涂覆在样品盘表面，在镀膜过程中对样品盘具有保护作用，镀膜后利用溶剂将涂料溶解的同时去除了保护涂层表面沉积的金属薄膜，这种方法操作简单方便，清理耗时短，且不会对样品盘表面造成损伤，能够保证样品盘表面平整。能够保证样品盘表面平整。能够保证样品盘表面平整。

【技术实现步骤摘要】
一种离子束溅射镀膜机用样品盘保护涂层及其制备方法


[0001]本专利技术属于化工涂料
，具体涉及一种离子束溅射镀膜机用样品盘保护涂层及其制备方法。

技术介绍

[0002]离子束溅射镀膜是一种高级薄膜制备技术，通常用于制备具有高光学性能和化学稳定性的光学薄膜，该技术利用离子束轰击固体表面，使其材料从表面“喷射”出来并沉积在基底表面上，形成薄膜。如公开号为CN107988579B的专利技术专利涉及一种离子束溅射辅助镀膜机，包括真空腔室、一个主离子源和中和装置；所述真空腔室的一侧设置所述主离子源；所述主离子源由阴极灯丝组成，所述阴极灯丝为且缠绕成弹簧形状，直径为1.0mm，缠绕5
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10圈；所述中和装置安装在所述真空腔室与所述主离子源靠近的真空腔室内侧壁上；所述中和装置内设有中和灯丝，此专利技术通过更改主离子源灯丝结构，添加了中和装置，提高了离子束溅射辅助镀膜机的工作时长，大大提高了工作效率，并且可镀的薄膜的厚度增加到十微米以上，并且保证了薄膜不会因为厚度的增加而产生应力使得薄膜剥落。又如公开号为CN115612980A的专利技术专利涉及一种表面处理装置，具体涉及一种离子束清洗和离子束溅射镀膜两用的装置，包括离子源、腔室和真空系统；腔室包括样品转移机构和送样门；样品转移机构固定于腔室顶壁，用于转移基材和靶材；送样门开设于腔室侧壁，用于将基材和靶材送入或取出腔室；腔室的侧壁还开设有用于通过离子束的开孔以及抽气孔；离子源通过开孔连通腔室，由离子源引出的离子束经开孔射入腔室内；真空系统通过抽气孔与腔室相连通；此专利技术装置可用于镀膜工艺前处理和表面放射性金属镀膜；在实际操作时无需破坏真空条件，即可进行离子镀膜和离子清洗，有效的将离子清洗和离子镀膜结合于一体，大大提高了镀膜工艺的处理效率。
[0003]离子束溅射镀膜机是一种常见的表面处理设备，使用样品盘来容纳待处理的样品，在使用样品盘装载晶片镀膜时，未放置晶片的位置和晶片覆盖的位置经过多次沉积金属薄膜之后，由于不同位置的金属膜层厚度不同，会导致样品盘表面厚度不一，凹凸不平，因此在后续固定晶片时，容易与样片盘表面产生缝隙和夹角，影响薄膜的均匀性和成膜质量，且随着表面累积的薄膜越来越厚，容易导致表面起皮、掉渣污染晶片和待镀工件。目前使用的离子束溅射镀膜机的样品盘清洁方法是，通过喷砂机对使用过的样品盘进行喷砂清理，除去表面附着的金属薄膜。该方法步骤较为复杂，清理周期长，且在使用喷砂机喷砂清理时，会对样品盘表面造成一定损伤。喷砂后的样品盘表面粗糙、平整不一，在经过多次喷砂后，也会使样品盘逐渐损耗，厚度变薄，容易发生变形。

技术实现思路

[0004]针对上述现有技术的不足，本专利技术提供了一种离子束溅射镀膜机用样品盘保护涂层及其制备方法，目的是解决现有喷砂处理样品盘时，清理方法复杂，清理周期较长，且喷砂清理会对样品盘表面造成损伤，清理后样品盘表面粗糙、平整不一，在经过多次喷砂后，
也会使样品盘逐渐损耗，厚度变薄，容易发生变形等技术问题。
[0005]本专利技术提供了第一个技术方案为保护涂层，具体技术方案如下：
[0006]保护涂层，包括水性聚氨酯底漆、环氧树脂、乙酸丁酯、消泡剂固化剂和偶联剂，所述固化剂为腰果酚。
[0007]优选的，所述保护涂层按质量份计，包括如下组分：水性聚氨酯底漆10
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20份、环氧树脂20
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30份、乙酸丁酯10
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40份、消泡剂1
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5份、腰果酚固化剂30
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40份和偶联剂1
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5份。
[0008]优选的，所述水性聚氨酯底漆为Desmodur N 3390。
[0009]优选的，所述环氧树脂为E51、E44和E37中的一种，他们具有较高的耐化学腐蚀性和机械强度。
[0010]优选的，所述消泡剂为有机硅消泡剂，具体型号为BYK
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025；所述偶联剂为KH550和KH560中的一种。本专利技术中腰果酚选用粗制腰果酚即可；
[0011]本专利技术提供了第二个技术方案为保护涂层的制备方法，用于制备第一个技术方案所述的保护涂层，具体技术方案如下：
[0012]保护涂层的制备方法，具体包括如下步骤：
[0013]S1，对环氧树脂进行脱水处理，然后将处理后的环氧树脂与水性聚氨酯底漆和乙酸丁酯搅拌混匀，得到A组分；
[0014]S2，将消泡剂、固化剂和偶联剂置于分散机中进行搅拌混匀，得到B组分；
[0015]S3，将A组分与B组分搅拌混匀。
[0016]优选的，在步骤S1中，所述脱水处理参数为：脱水时间为1h
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2h，脱水温度为80℃
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120℃，真空度为0.1Mpa；高速搅拌器进行搅拌处理，所述搅拌转速为20000r/min
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35000r/min，搅拌时间为5min
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15min。
[0017]优选的，在步骤S2中，搅拌使用的是分散剂，搅拌转速为1500r/min
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3000r/min，搅拌时间为5min
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15min。
[0018]优选的，在步骤S3中，所述搅拌使用的设备为高速剪切乳化机，转速为5000r/min
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15000r/min，搅拌时间为2min
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3min。
[0019]本专利技术使用的水性聚氨酯底漆，具体为Desmodur N 3390，这种底漆是一种水性产品，不含有机溶剂，对环境和人体健康无害，具有优异的附着力和耐腐蚀性能，且能够提供均匀、平滑的涂层表面，有利于保证保护涂层表面平整和光滑；消泡剂能够有效地消除液体表面的气泡，使用量非常少就可以达到良好的消泡效果，使涂料表面更加平整和均匀。将保护涂层涂覆在样品盘表面时，能够保证样品盘表面平整，从而不会因为表面不平整而影响镀膜效果。本专利技术使用的环氧树脂本身对金属具有很好的粘结性，偶联剂的加入能够进一步增强环氧树脂与金属材料之间的粘结性能，本专利技术制备的保护涂层混合粘度为200
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1000mPa
·
s，因此保护涂层能够很好的粘贴在样品盘表面，不易脱落。腰果酚固化剂本身粘度小，容易配制，固化后易于去除，搭配粘度大的环氧树脂，既方便搅拌配制，又能够配制出粘度适中的涂层，较好的粘贴在样品盘表面，同时，腰果酚固化剂能够很好的增加固化后的韧性，稳定性良好，在金属镀膜工艺过程中能够承受金属溅射的能力，避免使用中开裂和剥落的问题。
[0020]本专利技术提供了第三个技术方案为保护涂层在离子束溅射镀膜机用样品盘中的应用，基于第一个技术方案所述的保护涂层，具体技术方案如下：
[0021]保护涂层在离子束溅射镀膜机用样品盘中的应用，具体为：使用涂膜仪将保护涂层均匀涂覆在样品盘表面，室温固化。
[0022]优选的，所述涂覆厚度为0.5mm
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1mm，所述固化时间为7h
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10h。<本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.保护涂层，其特征在于，所述保护涂层包括水性聚氨酯底漆、环氧树脂、乙酸丁酯、消泡剂、固化剂和偶联剂，所述固化剂为腰果酚。2.根据权利要求1所述的保护涂层，其特征在于，按质量份计，包括如下组分：水性聚氨酯底漆10
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20份、环氧树脂20
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30份、乙酸丁酯10
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40份、消泡剂1
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5份、固化剂30
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40份和偶联剂1
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5份。3.根据权利要求1所述的保护涂层，其特征在于，所述水性聚氨酯底漆为Desmodur N3390；所述环氧树脂为E51、E44和E37中的一种。4.根据权利要求1所述的保护涂层，其特征在于，所述消泡剂为有机硅消泡剂；所述偶联剂为KH550和KH560中的一种。5.权利要求1
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4任一项所述保护涂层的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：S1，环氧树脂脱水处理后，与水性聚氨酯底漆和乙酸丁酯搅拌混匀，得到A组分；S2，将消泡剂、固化剂和偶联剂进行搅拌混匀，得到B组分；S3，将A组分与B组分搅拌混匀。6.根据权利要求5所述的保护涂层的制备方法，其特征在于，在步骤S1中，所述脱水处理参数为：脱...

【专利技术属性】
技术研发人员：牛治军，张堂，
申请(专利权)人：无锡兴华衡辉科技有限公司，
类型：发明
国别省市：