一种在位测量的磁流变抛光工具制造技术

本发明专利技术涉及磁流变抛光技术领域，尤其涉及一种在位测量的磁流变抛光工具；本申请的抛光工具包括安装支板、第一支架、第二支架、抛光轮、励磁组件、光学镜片和磁流变液喷射模块；抛光轮的侧壁设置测量窗口并安装光学镜片，抛光轮内励磁体组件中安装座上的激光测距仪发出的激光信号沿测量通道通过光学镜片聚焦于待加工件的加工镜面，以实现待加工件与抛光轮间的测距及试跑加工，试跑加工测量方便且测量精度高。另外，激光测距仪能够在动力转轴的带动下适应匹配抛光轮同步转动，使得激光测距仪同步对准抛光轮测量窗口的光学镜片，有效确保激光测距仪发出的激光信号透射出抛光轮的光学镜片进行聚焦测量，适应复杂曲面工件测量，且测量精度高。测量精度高。测量精度高。

【技术实现步骤摘要】
一种在位测量的磁流变抛光工具


[0001]本专利技术涉及磁流变抛光
，尤其涉及一种在位测量的磁流变抛光工具。

技术介绍

[0002]磁流变抛光技术是基于磁流变抛光液在磁场中的流变特性，依靠其中微小磨粒的剪切力实现对零件表面的材料去除，具有精度高、不会对加工表面产生二次损伤、加工效率高等优点。抛光轮在加工前需要进行试跑加工（试运行模拟加工），从而检验测试加工程序的正确性；目前普遍的做法是将抛光轮系统中抛光轮最底部的位置贴近需要加工工件的表面位置保留一定间隙，通过执行相应的加工轨迹程序，判断抛光轮在运动过程中，抛光轮底部与加工工件距离是否稳定均匀以确定轨迹的正确性。现有的磁流变抛光装置通常通过在抛光轮和加工件镜面间塞入一定厚度类似“塞尺”的软薄片，“塞尺”质地柔软不会对于加工件镜面造成划伤等破坏性结果，如果“塞尺”的数量及塞入的难易程度基本不变，则判定轨迹正确，满足精度要求。然而现有的这种“塞尺”式磁流变抛光装置面对加工件镜面为相对复杂的曲面，则试跑的精度差，难以保证加工出的工件镜面质量符合要求。

技术实现思路

[0003]本专利技术提供一种在位测量的磁流变抛光工具，以解决现有磁流变抛光装置试跑加工不便以及试跑精度差的问题。
[0004]本专利技术采用如下技术方案：本专利技术一方面在于提供一种在位测量的磁流变抛光工具，包括：安装支板；相对设置于安装支板的第一支架和第二支架；位于第一支架和第二支架间的抛光轮，所述抛光轮内部中空，抛光轮的一端通过抛光轮轴转动连接于第一支架；位于抛光轮内的励磁体组件，所述励磁体组件包括：转动连接于第二支架的动力转轴、连接于动力转轴的安装座，以及设置于安装座上励磁体；所述安装座和励磁体对应设有测量通道，测量通道入口端的安装座上设有激光测距仪；对应测量通道出口端的所述抛光轮的侧壁设有测量窗口，测量窗口设有光学镜片；所述光学镜片满足激光测距仪中激光信号的透射聚焦；所述第一支架和第二支架中的一者设有磁流变液喷射模块，磁流变液喷射模块用于将磁流变液喷射于抛光轮，以实现抛光轮利用磁流变液抛光。
[0005]进一步地，所述第一支架上设有第一安装内孔，抛光轮轴一端连接抛光轮，抛光轮轴另一端穿过第一安装内孔设置，且抛光轮轴和第一安装内孔之间设有第一轴承定位；抛光轮轴另一端连接有提供转动动力的第一驱动件。
[0006]进一步地，所述第二支架设有第二安装内孔，动力转轴一端连接有位于抛光轮内的安装座，动力转轴另一端穿过第二安装内孔设置，且动力转轴和第二安装内孔之间设有
第二轴承定位；动力转轴另一端连接有提供转动动力的第二驱动件。
[0007]进一步地，第一轴承为角接触轴承，第二轴承为交叉滚子轴承。
[0008]进一步地，第一驱动件为伺服电机，第二驱动件为谐波一体机。
[0009]进一步地，第二轴承的两侧分别设有轴承外压圈和轴承内压圈以对第二轴承压紧定位。
[0010]进一步地，第二轴承、第二安装内孔和动力转轴件设有平滑式迷宫密封结构，用以防尘及防止抛光轮外壁的磁流变液侵入。
[0011]进一步地，所述光学镜片为非球面镜片，光学镜片的外表面镀有耐磨层，耐磨层的表面轮廓与抛光轮中缺失的测量窗口轮廓面相吻合。
[0012]进一步地，所述第一支架和第二支架中的另一者设有回收模块，回收模块用以回收抛光轮上的磁流变液。
[0013]进一步地，本申请的抛光工具还包括角度测量模块，角度测量模块用以定位测量抛光轮轴的转动角度；角度测量模块优选为编码器。
有益效果：
[0014]本申请提供的一种在位测量的磁流变抛光工具，包括：安装支板；相对设置于安装支板的第一支架和第二支架；位于第一支架和第二支架间的抛光轮，所述抛光轮内部中空，抛光轮的一端通过抛光轮轴转动连接于第一支架；位于抛光轮内的励磁体组件，所述励磁体组件包括：转动连接于第二支架的动力转轴、连接于动力转轴的安装座，以及设置于安装座上励磁体；所述安装座和励磁体对应设有测量通道，测量通道入口端的安装座上设有激光测距仪；对应测量通道出口端的所述抛光轮的侧壁设有测量窗口，测量窗口设有光学镜片；所述光学镜片满足激光测距仪中激光信号的透射聚焦；所述第一支架和第二支架中的一者设有磁流变液喷射模块，磁流变液喷射模块用于将磁流变液喷射于抛光轮，以实现抛光轮利用磁流变液抛光。相较于现有技术方案，本申请的磁流变抛光工具，抛光轮的侧壁设置测量窗口并安装光学镜片，抛光轮内励磁体组件中安装座上的激光测距仪发出的激光信号沿测量通道通过光学镜片聚焦于待加工件的加工镜面，以实现待加工件与抛光轮间的测距及试跑加工，试跑加工测量方便且测量精度高。另外，抛光轮内安装座上的激光测距仪能够在动力转轴的带动下适应匹配抛光轮同步转动，使得激光测距仪同步对准抛光轮测量窗口的光学镜片，有效确保激光测距仪发出的激光信号透射出抛光轮的光学镜片进行聚焦测量，能够适应复杂曲面工件测量，且测量精度高。抛光轮转动抛光时，抛光轮内励磁组件中的励磁体提供磁力吸附，以使得磁流变液附着于抛光轮外壁，利用附着的磁流变液加工待加工件进行抛光。
附图说明
[0015]为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请中记载的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0016]图1为本实施例一种在位测量的磁流变抛光工具的结构示意图；
图2为本实施例一种在位测量的磁流变抛光工具另一视角的结构示意图；图3为图1中励磁组件和激光测距仪的安装结构示意图；图4为图1中励磁组件和激光测距仪另一视角的安装结构示意图；图5为图1中激光测距仪配合光学镜片的测距聚焦示意图；其中，1、安装支板；2、第一支架，3、第二支架，4、抛光轮，5、抛光轮轴，6、励磁组件，61、动力转轴，62、安装座，63、励磁体，7、激光测距仪；8、光学镜片；9、回收模块，10、第一轴承，11、第二轴承，12、第二驱动件，13、轴承内压圈，14、轴承外压圈，15、轴承端盖，16、编码器，17、主动轮，18、从动轮，19、传动带，20、第一驱动件。
具体实施方式
[0017]为了使本领域的技术人员更好地理解本申请中的技术方案，下面将对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
[0018]需要说明的是，当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件上，它可以直接在另一个元件上或者间接设置在另一个元件上；当一个元件被称为是“连接于”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或间接连接至另一个元件上。
[0019]需要理解的是，术语“长度”、“宽度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种在位测量的磁流变抛光工具，其特征在于，包括：安装支板；相对设置于安装支板的第一支架和第二支架；位于第一支架和第二支架间的抛光轮，所述抛光轮内部中空，抛光轮的一端通过抛光轮轴转动连接于第一支架；位于抛光轮内的励磁体组件，所述励磁体组件包括：转动连接于第二支架的动力转轴、连接于动力转轴的安装座，以及设置于安装座上励磁体；所述安装座和励磁体对应设有测量通道，测量通道入口端的安装座上设有激光测距仪；对应测量通道出口端的所述抛光轮的侧壁设有测量窗口，测量窗口设有光学镜片；所述光学镜片满足激光测距仪中激光信号的透射聚焦；所述第一支架和第二支架中的一者设有磁流变液喷射模块，磁流变液喷射模块用于将磁流变液喷射于抛光轮，以实现抛光轮利用磁流变液抛光。2.根据权利要求1所述的在位测量的磁流变抛光工具，其特征在于，所述第一支架上设有第一安装内孔，抛光轮轴一端连接抛光轮，抛光轮轴另一端穿过第一安装内孔设置，且抛光轮轴和第一安装内孔之间设有第一轴承定位；抛光轮轴另一端连接有提供转动动力的第一驱动件。3.根据权利要求2所述的在位测量的磁流变抛光工具，其特征在于，所述第二支架设有第二安装内孔，动力转轴一端连接有位于抛光轮内的安装座，动力转轴另一端穿过第二安装内孔设置，且动力转轴和第二安装内孔之间设有第二...

【专利技术属性】
技术研发人员：张南生，
申请(专利权)人：朗信苏州精密光学有限公司，
类型：发明
国别省市：