一种用于制备混合气体的操作盘制造技术

本申请公开了一种用于制备混合气体的操作盘，包括主管道，主管道的一端与抽空管道相连，另一端与放空管道相连，主管道上连接有一路或多路原料气管道；主管道上设置有负压表、低压表和高压表；主管道上连接有多路气体充装管道；主管道与抽空管道相连的端部与一路气体充装管道相连，主管道与放空管道相连的端部与一路气体充装管道相连；负压表和低压表分别与一路气体充装管道与相连；与主管道相连的抽空管道、放空管道以及多路气体充装管道上均设置有阀门。相比现有配气装置，本申请提供的操作盘实现了集中供气，不需频繁补充替换原料气，避免了替换过程带来的杂质混入，维持气体稳定，且保证配气过程的连续性，进而实现连续生产。产。产。

【技术实现步骤摘要】
一种用于制备混合气体的操作盘


[0001]本申请涉及混合气体制备装备
，尤其涉及用于制备集成电路半导体材料和化工领域的标准混合气体的装备，具体是一种可用于制备电子特气、和标准气体的操作盘。

技术介绍

[0002]电子特气广泛应用于半导体、微电子和相关的太阳能电池等高科技产业，或用于薄膜沉积、刻蚀、掺杂、钝化、清洗，或用作载气、保护气氛等。半导体超高纯电子特气系统中的电子混合气是特种气体中的重要组成部分，电子混合气体广泛用于大规模集成电路、超大规模集成电路和半导体器件生产制造中。在生产应用过程中，运用最多也最为常见的电子混合气体包括下述五种：
[0003]1、掺杂混合气体：在半导体器件和集成电路制造中，将某些杂质掺入半导体材料内，使材料具有所需要的导电类型和一定的电阻率，以制造电阻、PN结、埋层等。掺杂工艺所用的气体称为掺杂气。主要包括砷烷、磷烷、三氟化磷、五氟化磷、三氟化砷、五氟化砷、三氟化硼和乙硼烷等。通常将掺杂源与运载气体(如氩气和氮气)在源柜中混合，混合后气流连续注入扩散炉内并环绕晶片四周，在晶片表面沉积上掺杂剂，进而与硅反本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于制备混合气体的操作盘，其特征在于，包括主管道，所述主管道的一端与抽空管道相连，另一端与放空管道相连，所述主管道上连接有一路或多路原料气管道；所述主管道上设置有负压表、低压表和高压表；所述主管道上连接有多路气体充装管道；所述主管道与抽空管道相连的端部与一路气体充装管道相连，所述主管道与放空管道相连的端部与一路气体充装管道相连；所述主管道上的一路气体充装管道与所述负压表相连，所述主管道上的一路气体充装管道与所述低压表相连；与所述主管道相连的抽空管道、放空管道以及多路气体充装管道上均设置有阀门。2.根据权利要求1所述的用于制备混合气体的操作盘，其特征在于，所述主管道的一端设置有一个三通，所述主管道与所述三通的第一个端口相连，所述抽空管道与所述三通的第二个端口相连，一路气体充装管道与所述三通的第三个端口相连；所述抽空管道和气体充装管道分别通过阀门与所述三通相连。3.根据权利要求2所述的用于制备混合气体的操作盘，其特征在于，所述主管道的另一端设置有一个三通，所述主管道与所述三通的第一个端口相连，所述放空管道与所述三通的第二个端口相连，一路...

【专利技术属性】
技术研发人员：王红亮，史长海，韩振威，
申请(专利权)人：北京环宇京辉京城气体科技有限公司，
类型：新型
国别省市：