光阻膜及其应用制造技术

本发明专利技术提供一种光阻膜及其应用，该光阻膜具有在30

【技术实现步骤摘要】
光阻膜及其应用


[0001]本专利技术是关于一种光阻膜，尤其是关于一种高厚度光阻膜，以及该光阻膜的应用。

技术介绍

[0002]光阻膜一般由树脂、光敏材料及添加剂组成，根据曝光显影后的变化，分为正型光阻膜以及负型光阻膜。正型光阻膜在曝光之后，受到光照的部分在显影时将溶解，显影后留下未受曝光部分的图案。负型光阻膜在曝光之后，未受到光照的部分在显影时将溶解，显影后留下受曝光部分的图案。
[0003]在印刷电路板(PCB)产业中，必须利用光阻膜来进行蚀刻程序，以形成电路图案。由于电子元件越来越复杂，体积渐大，印刷电路板产业对于具有高深宽比的厚光阻膜需求逐渐增加。然而，既有光阻膜与基板的贴合性不佳，或外观存在皱纹，或者在贴合时会产生流胶，进而造成光阻膜的厚度不均，影响蚀刻精准度等问题，仍亟待改良。

技术实现思路

[0004]有鉴于上述技术问题，本专利技术旨在提供一种操作性、贴合性、及外观均良好的高厚度光阻膜。
[0005]因此，本专利技术的一个目的在于提供一种光阻膜，其具有在30℃下的剪切损耗模数(shear loss modulus)G”值以及在30℃下的剪切储存模数(shear storage modulus)G'值，其中该G”值相对于该G'值的比值(G"/G')为0.50至10.40。于本专利技术的部分实施方案中，该G”值相对于该G'值的比值为0.50至10.36。
[0006]于本专利技术的部分实施方案中，该30℃下的剪切储存模数G'值为0.001kPa至4300kPa，以及该30℃下的剪切损耗模数G”值为0.08kPa至1900kPa。
[0007]于本专利技术的部分实施方案中，该30℃下的剪切损耗模数G”值及30℃下的剪切储存模数G'值是借由流变仪以如下操作条件测得：夹具为25毫米平行平板式ETC铝、模式为剪切模式、静置时间(soak time)为0秒、起始温度为30℃、升温速度为3℃/分钟、终温为150℃、升温后静置时间为0秒、压力为1000Pa、单点测定、以及频率为1Hz。
[0008]于本专利技术的部分实施方案中，该光阻膜的厚度为60微米至600微米，例如65微米至400微米。
[0009]于本专利技术的部分实施方案中，该光阻膜是负型光阻膜。
[0010]于本专利技术的部分实施方案中，该负型光阻膜包含：具有羧基的(甲基)丙烯酸系聚合物以及光聚合起始剂。
[0011]本专利技术的另一目的在于提供一种复合膜，其包含如上所述的光阻膜，以及一形成于该光阻膜的至少一表面上的保护膜。
[0012]于本专利技术的部分实施方案中，该保护膜选自以下群组：聚对苯二甲酸乙二酯膜、聚烯烃膜及前述的复合物。
[0013]为使本专利技术的上述目的、技术特征及优点能更明显易懂，下文以部分具体实施方
案进行详细说明。
具体实施方式
[0014]以下将具体地描述根据本专利技术的部分具体实施方案；但，本专利技术尚可以多种不同形式的方案来实践，不应将本专利技术保护范围解释为限于说明书所陈述的内容。
[0015]除非文中有另外说明，于本说明书中(尤其是在权利要求书中)所使用的“一”、“该”及类似用语应理解为包含单数及复数形式。
[0016]除非文中有另外说明，于本说明书中所使用的“(甲基)丙烯酸”旨在涵盖“丙烯酸”与“甲基丙烯酸”的情形，例如，“具有羧基的(甲基)丙烯酸系聚合物”旨在涵盖具有羧基的丙烯酸系聚合物与具有羧基的甲基丙烯酸系聚合物。于本说明书中所使用的“(甲基)丙烯酸酯”旨在涵盖丙烯酸酯与甲基丙烯酸酯，例如“(甲基)丙烯酸甲酯”旨在涵盖丙烯酸甲酯与甲基丙烯酸甲酯。
[0017]本专利技术对照于现有技术的功效尤其在于，借由控制光阻膜的流变性质，来提供贴合性佳，且外观与操作性均良好的厚光阻膜。以下就本专利技术光阻膜及其应用提供详细说明。
[0018]1.光阻膜
[0019]本专利技术光阻膜具有特定流变性质。于本专利技术中，该光阻膜可由使用适当的聚合性化合物来制得。以下针对光阻膜的流变性质及例示性制备方法进行说明。
[0020]1.1.光阻膜的流变性质
[0021]本专利技术的光阻膜具有在30℃下的剪切损耗模数G”值以及在30℃下的剪切储存模数G'值，其中该G”值相对于该G'值的比值为0.50至10.40，例如0.50、0.55、0.60、0.65、0.70、0.75、0.80、0.85、0.90、0.95、1.00、1.05、1.10、1.15、1.20、1.25、1.30、1.35、1.40、1.45、1.50、1.55、1.60、1.65、1.70、1.75、1.80、1.85、1.90、1.95、2.00、2.05、2.10、2.15、2.20、2.25、2.30、2.35、2.40、2.45、2.50、2.55、2.60、2.65、2.70、2.75、2.80、2.85、2.90、2.95、3.00、3.05、3.10、3.15、3.20、3.25、3.30、3.35、3.40、3.45、3.50、3.55、3.60、3.65、3.70、3.75、3.80、3.85、3.90、3.95、4.00、4.05、4.10、4.15、4.20、4.25、4.30、4.35、4.40、4.45、4.50、4.55、4.60、4.65、4.70、4.75、4.80、4.85、4.90、4.95、5.00、5.05、5.10、5.15、5.20、5.25、5.30、5.35、5.40、5.45、5.50、5.55、5.60、5.65、5.70、5.75、5.80、5.85、5.90、5.95、6.00、6.05、6.10、6.15、6.20、6.25、6.30、6.35、6.40、6.45、6.50、6.55、6.60、6.65、6.70、6.75、6.80、6.85、6.90、6.95、7.00、7.05、7.10、7.15、7.20、7.25、7.30、7.35、7.40、7.45、7.50、7.55、7.60、7.65、7.70、7.75、7.80、7.85、7.90、7.95、8.00、8.05、8.10、8.15、8.20、8.25、8.30、8.35、8.40、8.45、8.50、8.55、8.60、8.65、8.70、8.75、8.80、8.85、8.90、8.95、9.00、9.05、9.10、9.15、9.20、9.25、9.30、9.35、9.40、9.45、9.50、9.55、9.60、9.65、9.70、9.75、9.80、9.85、9.90、9.95、10.00、10.05、10.10、10.15、10.20、10.25、10.30、10.35或10.40，或介于由上述任两个数值所构成的范围。于本专利技术的部分实施方案中，该G”值相对于该G'值的比值(G"/G')为0.50至10.36。若该G”值相对于该G'值的比值小于上述范围，则光阻膜对基板的贴合性不佳；反之，若该G”值相对于该G'值的比值大于上述范围，则光阻膜表面会产生皱纹，甚至在操作时会发生流胶问题，进而本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光阻膜，其特征在于，具有在30
o
C下的剪切损耗模数（shear loss modulus）G''值以及在30
o
C下的剪切储存模数（shear storage modulus）G'值，其中该G''值相对于该G'值的比值（G"/G'）为0.50至10.40。2.如权利要求1所述的光阻膜，其特征在于，该G''值相对于该G'值的比值为0.50至10.36。3.如权利要求1所述的光阻膜，其特征在于，该30
o
C下的剪切储存模数G'值为0.001 kPa至4300 kPa，以及该30
o
C下的剪切损耗模数G''值为0.08 kPa至1900 kPa。4.如权利要求1所述的光阻膜，其特征在于，该30
o
C下的损耗模数G''值及30
o
C下的剪切储存模数G'值借由流变仪以如下操作条件测得：夹具为2...

【专利技术属性】
技术研发人员：庄子毅，杜安邦，
申请(专利权)人：长春人造树脂厂股份有限公司，
类型：发明
国别省市：