聚酯膜、干膜抗蚀剂、聚酯膜的制造方法技术

本发明专利技术的课题在于提供一种光学用聚酯膜，该光学用聚酯膜的耐擦伤性优异，并且通过将其用于干膜抗蚀剂的制造，即使在使用该干膜形成了高精细的抗蚀剂图案的情况下，也能够形成图案直线性优异的抗蚀剂图案。并且，本发明专利技术的课题还在于提供一种干膜抗蚀剂及聚酯膜的制造方法。本发明专利技术的聚酯膜为光学用聚酯膜，其具备：实质上不含粒子的聚酯基材；及配置于聚酯基材的至少一个表面上的含有粒子及树脂的粒子含有层，并且所述聚酯膜具有第1主表面及第2主表面，其中，第2主表面为粒子含有层的与聚酯基材侧相反的一侧的表面，第2主表面的最大截面高度SRt为20～150nm，粒子含有层的厚度为1～200nm。200nm。200nm。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】聚酯膜、干膜抗蚀剂、聚酯膜的制造方法


[0001]本专利技术涉及一种聚酯膜、干膜抗蚀剂及聚酯膜的制造方法。

技术介绍

[0002]从加工性、机械性质、电性质、尺寸稳定性、透明性及耐化学性等观点出发，聚酯膜被广泛地使用，例如用作干膜抗蚀剂的支承体及保护膜。干膜抗蚀剂例如具有将感光性树脂层(光致抗蚀剂层)层叠于支承体上之后进而层叠保护膜而成的结构。近年来，干膜抗蚀剂在触控面板领域中用于配线形成工序中的蚀刻的用途、保护诸如铜、ITO(氧化铟锡)及银纳米粒子等配线部分的保护膜形成的用途以及层间绝缘膜的用途等。
[0003]在专利文献J中公开了一种超细线光致抗蚀剂用聚酯膜，其为以聚酯膜为支承体且在支承体的单面设置抗蚀剂层而成的层叠聚酯膜，其中，层叠膜的雾度为1.0％以下，层叠膜的与抗蚀剂层侧相反的一侧的表面具有规定的表面固有电阻及耐磨性指数，并且表面划痕数小于规定值。
[0004]以往技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1：日本特开2006
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327158号公报
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技术实现思路
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种聚酯膜，其为光学用聚酯膜，其具备：实质上不含粒子的聚酯基材；及配置于所述聚酯基材的至少一个表面上的含有粒子及树脂的粒子含有层，所述聚酯膜具有第1主表面及第2主表面，所述第2主表面为所述粒子含有层的与所述聚酯基材侧相反的一侧的表面，所述第2主表面的最大截面高度SRt为20nm～150nm，所述粒子含有层的厚度为1nm～200nm。2.根据权利要求1所述的聚酯膜，其为干膜抗蚀剂制造用聚酯膜。3.根据权利要求1或2所述的聚酯膜，其中，所述第2主表面的表面自由能为50mJ/m2以下。4.根据权利要求3所述的聚酯膜，其中，所述树脂含有丙烯酸系树脂。5.根据权利要求4所述的聚酯膜，其中，所述丙烯酸系树脂为具有源自苯乙烯的结构单元和源自(甲基)丙烯酸酯的结构单元的共聚物。6.根据权利要求4或5所述的聚酯膜，其中，所述丙烯酸系树脂具有源自在酯部位具有碳原子数1～4的未经取代的烷基的(甲基)丙烯酸酯的结构单元和源自在酯部位具有碳原子数5～10的未经取代的烷基的(甲基)丙烯酸酯的结构单元。7.根据权利要求1至6中任一项所述的聚酯膜，其中，所述聚酯膜的厚度为1μm～35μm。8.根据权利要求1至7中任一项所述的聚酯膜，其中，所述第2主表面的最大截面高度SRt为20nm～40nm。9.根据权利要求1至8中任一项所述的聚酯膜，其中，构成所述第2主表面的突起的粒子的密度D与所述第2主表面的最大截面高度SRt的乘积即D
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【专利技术属性】
技术研发人员：宫宅一仁，丰岛悠树，江夏泰雄，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：