一种超薄多通道晶圆级滤光片及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种超薄多通道晶圆级滤光片及其制备方法，属于光学镜头制作技术领域。本发明专利技术公开的制备方法，采用光刻+镀膜+Lift

【技术实现步骤摘要】
一种超薄多通道晶圆级滤光片及其制备方法


[0001]本专利技术属于光学镜头制作
，具体涉及一种超薄多通道晶圆级滤光片及其制备方法。

技术介绍

[0002]在现代光学信息技术中，多通道滤光片在遥感探测、Micro LED、CCM，TOF等方面有着广泛的应用。在这些应用中常常需要小型化、集成化。目前制作彩色滤光片通常采用Metal Mask进行蒸镀，但受限于Metal Mask的物理尺寸限制，无法做到微小型化，高像素化，且Metal Mask成本极高；因此如何制作高精度，小尺寸的多通道滤光片成为一个亟待解决的问题。
[0003]传统金属掩模板在银膜的时候不可避免地发生热膨胀，不能保证滤光片的位置精度。此外，由于金属掩模版的厚度远远大于银膜的厚度，在其边缘往往产生残留，整齐度较差。金属掩模版在反复的热冲击和频繁的清理下化容易损坏；此外还有使用染料墨水打印的方法来制作多通道滤光片的，这种方法受限于可使用的染料，不能自由调节通带波长范围，而且在空间福射下墨水会退化变性，造成通道漂移。这类多通道滤光片多用于显示领域，不适合作为高精度的分光器件本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种超薄多通道晶圆级滤光片的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：S1：首先在基底上进行一次镀膜，接着软烘处理后进行曝光处理，曝光处理完成后进行显影；S2：显影完成后进行一个光谱的镀膜，随后进行Lift Off作业，完成一个通道的制备；S3：重复S1～S2的步骤多次，得到一种超薄多通道晶圆级滤光片。2.根据权利要求1所述的一种超薄多通道晶圆级滤光片的制备方法，其特征在于，所述镀膜产生的薄膜是由高折射率材料和低折射率材料交替组成的膜系整体。3.根据权利要求2所述的一种超薄多通道晶圆级滤光片的制备方法，其特征在于，所述膜系整体的整体结构如下式所示：|(0.5LH0.5L)^n|；其中：H为高折射率材料；L为低折射率材料；n为高折射率材料和低折射率材料的交替构成周期，视为常数。4.根据权利要求3所述的一种超薄多通道晶圆级滤光片的制备方法，其特征在于，所述高折射率材料为Ti2O5、ZnS、ZnSe、ZrO2、HfO5、TiO5、Ta2O2、Si或Ge；所述低折射率材料为SiO2、Al...

【专利技术属性】
技术研发人员：庞军星，李昇，崔户丹，
申请(专利权)人：华天慧创科技西安有限公司，
类型：发明
国别省市：