一种高匹配研磨面的研磨头组制造技术

本实用新型专利技术公开了一种高匹配研磨面的研磨头组，包括调整平面台、维稳支架、第一电机、第二电机，第一电机设置于维稳支架内且固定，维稳支架与调整平面台连接，第一电机与调整平面台固定连接，调整平面台内部中空，调整平面台的端面上设有活动支架和打磨头，打磨头与第二电机固定连接，第二电机与活动支架固定连接。本实用新型专利技术能够较好的贴合与研磨面直接的距离和力度，从而达到更优的接触效果，从而降低研磨需要的时间，同步提高研磨面的效果。同步提高研磨面的效果。同步提高研磨面的效果。

【技术实现步骤摘要】
一种高匹配研磨面的研磨头组


[0001]本技术涉及研磨头
，尤其涉及一种高匹配研磨面的研磨头组。

技术介绍

[0002]研磨头在进行研磨的过程中，不仅需要依靠研磨头的质量，还需要与研磨面具有较好的贴合度，使其在不平整的研磨面上来达到最好的研磨效果，而目前研磨头的贴合存在一定的问题，主要在于贴合的距离不够精准，同时力度也无法更好的贴合，从而导致研磨时间增长、研磨效果一般，需要反复的进行研磨作业。
[0003]为此，我们提出一种高匹配研磨面的研磨头组来解决上述问题。

技术实现思路

[0004]本技术的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种高匹配研磨面的研磨头组。
[0005]为了实现上述目的，本技术采用了如下技术方案：
[0006]一种高匹配研磨面的研磨头组，包括调整平面台、维稳支架、第一电机、第二电机，所述第一电机设置于维稳支架内且固定，维稳支架与调整平面台连接，第一电机与调整平面台固定连接，所述调整平面台内部中空，调整平面台的端面上设有活动支架和打磨头，所述打磨头与第二电机固定连接，第二电机与活动支架固定连接。
[0007]优选地，所述维稳支架与调整平面台转动卡接。
[0008]优选地，所述活动支架包括一对活动块、螺纹杆、第三电机，所述调整平面台的端面上设有嵌槽，螺纹杆设置于嵌槽内并转动连接，所述第三电机固定在调整平面台侧面并与螺纹杆固定连接，其中一块活动块与螺纹杆螺纹连接，另一块活动块与第二电机固定连接。
[0009]优选地，所述嵌槽长度小于调整平面台的半径。
[0010]优选地，其中一块所述活动块内设有凹槽，凹槽与另一块活动块相抵接触，凹槽内设有多根弹簧并且弹簧的一端与凹槽固定连接，多个弹簧的另一端固定连接有活动板，活动板与其中一块活动块固定连接，所述凹槽内固定连接有激光传感器。
[0011]优选地，其中一个所述活动块的一端固定连接有支杆，所述支杆延伸至调整平面台的内部，且与调整平面台的内壁滑动卡接。
[0012]与现有技术相比，本技术的有益效果为：
[0013]通过设置的活动块、弹簧、活动板、激光传感器的配合，以达到利用两个活动块内部的弹簧来对打磨头的位置进行精确的判断，从而使得打磨头在对圆弧状工件进行打磨的过程前和过程中有效的把控与之的距离和力度，从而达到更优的接触效果，从而降低研磨需要的时间，同步提高研磨面的效果。
附图说明
[0014]图1为本技术提出的一种高匹配研磨面的研磨头组的外部结构示意图；
[0015]图2为图1中A处的局部放大图；
[0016]图3为图1中一对活动块的内部结构示意图。
[0017]图中：1调整平面台、2维稳支架、3第一电机、4第二电机、5第三电机、6打磨头、7活动块、8螺纹杆、9嵌槽、10弹簧、11活动板、12激光传感器、13支杆。
具体实施方式
[0018]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。
[0019]研磨头在进行研磨的过程中，不仅需要依靠研磨头的质量，还需要与研磨面具有较好的贴合度，使其在不平整的研磨面上来达到最好的研磨效果，而目前研磨头的贴合存在一定的问题，主要在于贴合的距离不够精准，同时力度也无法更好的贴合，从而导致研磨时间增长、研磨效果一般，需要反复的进行研磨作业，因此参照图1
‑
3，本方案设计了一种高匹配研磨面的研磨头组，其中主要包括调整平面台1、维稳支架2、第一电机3、第二电机4，第一电机3、第二电机4作为本方案的主要旋转动力来源，用于调整整体的结构和研磨的具体问题。
[0020]在外部架设有传统支撑结构的前提下，将第一电机3设置于维稳支架2内且固定，维稳支架2与外部传统支撑结构固定，维稳支架2呈镂空圆柱状，同时将维稳支架2与调整平面台1连接用于控制调整平面台1，调整平面台1用于调整与研磨面的间距和力度，因此维稳支架2与调整平面台1转动卡接，第一电机3与调整平面台1固定连，接使得第一电机3控制调整平面台1在维稳支架2上进行稳定的转动运动。
[0021]具体的研磨方式为：在调整平面台1的端面上设有活动支架和打磨头6，活动支架包括一对活动块7、螺纹杆8、第三电机5，调整平面台1的端面上设有嵌槽9，嵌槽9长度小于调整平面台1的半径，由于是采用的圆周运动，因此嵌槽9仅需设计为等于调整平面台1的半径即可，就能够覆盖全部的圆周区域作业需求，螺纹杆8设置于嵌槽9内并转动连接，第三电机5固定在调整平面台1侧面并与螺纹杆8固定连接用于驱动螺纹杆8转动，第三电机5通过正反转来驱动螺纹杆8转动方向，同时其中一块活动块7与螺纹杆8螺纹连接，另一块活动块7与第二电机4固定连接，因此螺纹杆8可以带动对应的活动块7进行同步的活动。
[0022]为了提高接触面的进度，本方案通过受力测量的方式进行，具体的：其中一块活动块7内设有凹槽，凹槽与另一块活动块7相抵接触，凹槽内设有多根弹簧10并且弹簧10的一端与凹槽固定连接，多个弹簧10的另一端固定连接有活动板11，活动板11与其中一块活动块7固定连接，通过活动板11的连接来将两块活动块7对接到一起，并通过弹簧10来感知打磨头6与接触面的受力力度，力度的测量，是通过在凹槽内固定连接有激光传感器12来完成的，激光传感器12测量活动板11的位移状况从而判断出受力面的数值大小，另外为了提高作用时的稳定性，在其中一个活动块7的一端固定连接有支杆13，而调整平面台1内部中空，支杆13延伸至调整平面台1的内部，调整平面台1的内部设有滑槽，支杆13通过滑槽与调整平面台1的内壁滑动卡接从而使活动块7在作业的过程中保持稳定，打磨头6与第二电机4固
定连接，第二电机4与活动支架固定连接，第二电机4用于提供转动力，驱动打磨头6进行研磨作业，本方案达到更优的接触效果，从而降低研磨需要的时间，同步提高研磨面的效果。
[0023]以上所述，仅为本技术较佳的具体实施方式，但本技术的保护范围并不局限于此，任何熟悉本
的技术人员在本技术揭露的技术范围内，根据本技术的技术方案及其技术构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本技术的保护范围之内。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种高匹配研磨面的研磨头组，其特征在于，包括调整平面台（1）、维稳支架（2）、第一电机（3）、第二电机（4），所述第一电机（3）设置于维稳支架（2）内且固定，维稳支架（2）与调整平面台（1）连接，第一电机（3）与调整平面台（1）固定连接，所述调整平面台（1）内部中空，调整平面台（1）的端面上设有活动支架和打磨头（6），所述打磨头（6）与第二电机（4）固定连接，第二电机（4）与活动支架固定连接。2.根据权利要求1所述的一种高匹配研磨面的研磨头组，其特征在于，所述维稳支架（2）与调整平面台（1）转动卡接。3.根据权利要求1所述的一种高匹配研磨面的研磨头组，其特征在于，所述活动支架包括一对活动块（7）、螺纹杆（8）、第三电机（5），所述调整平面台（1）的端面上设有嵌槽（9），螺纹杆（8）设置于嵌槽（9）内并转动连接，所述第三电机（5）固定在调整平面台（1）侧面并与...

【专利技术属性】
技术研发人员：谢成杰，张磊，
申请(专利权)人：南京航迅机电有限公司，
类型：新型
国别省市：