【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】表面处理剂
[0001]本专利技术涉及新型的含氟代聚醚基的硅烷化合物和含有这样的化合物的表面处理剂。
技术介绍
[0002]已知某种含氟代聚醚基的硅烷化合物在用于基材的表面处理时，能够提供优异的拨水性、拨油性、防污性等。由含有含氟代聚醚基的硅烷化合物的表面处理剂得到的层(以下也称为“表面处理层”)作为所谓的功能性薄膜，已被施用于例如玻璃、塑料、纤维、卫生用品、建筑材料等各种各样的基材(专利文献1)。
[0003]现有技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1：日本特开2014－218639号公报
技术实现思路
[0006]专利技术所要解决的技术问题
[0007]专利文献1所记载的含氟代聚醚基的硅烷化合物能够形成具有优异的功能的表面处理层，但要求具有更高的耐久性的表面处理层。
[0008]本专利技术的目的在于：提供一种能够形成耐久性、特别是摩擦耐久性和化学耐受性更高的表面处理层的含氟代聚醚基的化合物。
[0009]用于解决技术问题的技术方案
[0010]本专利技术包括以下的方案。
[0011][1]一种下述式(1)或(2)所示的含氟代聚醚基的硅烷化合物。
[0012][0013][式中：
[0014]R
F1
为Rf1－R
F
－O
q
－；
[0015]R
F2
为－Rf
2p
－R
F
－O
q
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种含氟代聚醚基的硅烷化合物，其特征在于：其由下述式(1)或(2)表示，式(1)和(2)中：R
F1
为Rf1－R
F
－O
q
－；R
F2
为－Rf
2p
－R
F
－O
q
－；Rf1为可以被1个或1个以上的氟原子取代的C
1－16
烷基；Rf2为可以被1个或1个以上的氟原子取代的C
1－6
亚烷基；R
F
分别独立地为2价氟代聚醚基；p为0或1；q分别独立地为0或1；R1分别独立地为－R3－(OR2)
m
－O
n
－R4－R5；R2在每次出现时分别独立地为C
1－6
亚烷基；m为2～10的整数；n为0或1；R3为单键或C
1－6
亚烷基；R4为单键或C
1－6
亚烷基；R5为氢原子或R
Si
；R
Si
分别独立地为含有键合有羟基或水解性基团的Si原子的1价基团；X
A
分别独立地为单键或下述式：－(X
51
)
p5
－所示的基团，式－(X
51
)
p5
－中：X
51
在每次出现时分别独立地为选自－O－、－S－、邻亚苯基、间亚苯基或对亚苯基、－C(O)O－、－OC(O)－、－Si(R
53
)2－、－(Si(R
53
)2O)
m5
－Si(R
53
)2－、－CONR
54
－、－NR
54
CO－、－O－CONR
54
－、－NR
54
CO－O－、－NR
54
－和－(CH2)
n5
－中的基团，R
53
在每次出现时分别独立地为苯基、C
1－6
烷基或C
1－6
烷氧基，R
54
在每次出现时分别独立地为氢原子、苯基或C
1－6
烷基，m5在每次出现时分别独立地为1～100的整数，n5在每次出现时分别独立地为1～20的整数，p5为1～10的整数；X
B
分别独立地为单键或下述式：－(X
61
)
p6
－所示的基团，式－(X
61
)
p6
－中：X
61
在每次出现时分别独立地为－O－、－S－、邻亚苯基、间亚苯基或对亚苯基、－C(O)O－、－OC(O)－、－Si(R
63
)2－、－(Si(R
63
)2O)
m6
－Si(R
63
)2－、－CONR
64
－、－NR
64
CO－、－O－CONR
64
－、－NR
64
CO－O－、－NR
64
－和－(CH2)
n6
－中的基团，
R
63
在每次出现时分别独立地为苯基、C
1－6
烷基或C
1－6
烷氧基，R
64
在每次出现时分别独立地为氢原子、苯基或C
1－6
烷基，m6在每次出现时分别独立地为1～100的整数，n6在每次出现时分别独立地为1～20的整数，p6为1～10的整数。2.如权利要求1所述的含氟代聚醚基的硅烷化合物，其特征在于：Rf1在每次出现时分别独立地为C
1－16
全氟烷基，Rf2在每次出现时分别独立地为C
1－6
全氟亚烷基。3.如权利要求1或2所述的含氟代聚醚基的硅烷化合物，其特征在于：R
F
在每次出现时分别独立地为式：－(OC6F
12
)
a
－(OC5F
10
)
b
－(OC4F8)
c
－(OC3R
Fa6
)
d
－(OC2F4)
e
－(OCF2)
f
－所示的基团，式中，R
Fa
在每次出现时分别独立地为氢原子、氟原子或氯原子，a、b、c、d、e和f分别独立地为0～200的整数，a、b、c、d、e和f之和为1以上，标注a、b、c、d、e或f并用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的，其中，全部R
Fa
为氢原子或氯原子时，a、b、c、e和f中的至少1个为1以上。4.如权利要求3所述的含氟代聚醚基的硅烷化合物，其特征在于：R
Fa
为氟原子。5.如权利要求1～4中任一项所述的含氟代聚醚基的硅烷化合物，其特征在于：R
F
在每次出现时分别独立地为下述式(f1)、(f2)、(f3)、(f4)或(f5)所示的基团，－(OC3F6)
d
－(OC2F4)
e
－(f1)式(f1)中，d为1～200的整数，e为0或1；－(OC4F8)
c
－(OC3F6)
d
－(OC2F4)
e
－(OCF2)
f
－(f2)式(f2)中，c和d分别独立地为0～30的整数，e和f分别独立地为1～200的整数，c、d、e和f之和为10～200的整数，标注下标c、d、e或f并用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意；－(R6－R7)
g
－(f3)式(f3)中，R6为OCF2或OC2F4，R7为选自OC2F4、OC3F6、OC4F8、OC5F
10
和OC6F
12
中的基团，或者为选自这些基团中的2或3个基团的组合，g为2～100的整数；－(OC6F
12
)
a
－(OC5F
10
)
b
－(OC4F8)
c
－(OC3F6)
d
－(OC2F4)
e
－(OCF2)
f
－(f4)式(f4)中，e为1以上200以下的整数，a、b、c、d和f分别独立地为0以上200以下的整数，a、b、c、d、e和f之和至少为1，而且标注a、b、c、d、e或f并用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的；－(OC6F
12
)
a
－(OC5F
10
)
b
－(OC4F8)
c
－(OC3F6)
d
－(OC2F4)
e
－(OCF2)
f
－(f5)式(f5)中，f为1以上200以下的整数，a、b、c、d和e分别独立地为0以上200以下的整数，a、b、c、d、e和f之和至少为1，而且标注a、b、c、d、e或f并用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的。
6.如权利要求1～5中任一项所述的含氟代聚醚基的硅烷化合物，其特征在于：R5为氢原子。7.如权利要求1～5中任一项所述的含氟代聚醚基的硅烷化合物，其特征在于：R5为R
Si
。8.如权利要求1～7中任一项所述的含氟代聚醚基的硅烷化合物，其特征在于：R
Si
分别独立地为下述式(S1)、(S2)、(S3)、(S4)或(S5)所示的基团，
‑
SiR
11n1
R
123
‑
n1
ꢀꢀ
(S2)SiR
a1k1
R
b111
R
c1m1
ꢀꢀ
(S3)
‑
CR
d1k2
R
e112
R
f1m2
ꢀꢀ
(S4)
‑
NR
g1
R
h1
ꢀꢀ
(S5)式中：R
11
在每次出现时分别独立地为羟基或水解性基团，R
12
在每次出现时分别独立地为氢原子或1价有机基团，n1在每个(SiR
11n1
R
123
‑
n1
)单元中分别独立地为0～3的整数，X
11
在每次出现时分别独立地为单键或2价有机基团，R
13
在每次出现时分别独立地为氢原子或1价有机基团，t在每次出现时分别独立地为2以上的整数，R
14
在每...
【专利技术属性】
技术研发人员：山下恒雄，前平健，三桥尚志，
申请(专利权)人：大金工业株式会社，
类型：发明
国别省市：
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