用于真空泵的壳体、真空泵以及真空系统技术方案

本实用新型专利技术提供了用于真空泵的壳体、真空泵以及真空系统，所述壳体用于真空泵、特别是NEG或IGP

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于真空泵的壳体、真空泵以及真空系统


[0001]本技术的目的是一种用于真空泵并且特别是用于非蒸散型吸气泵(NEG)或离子吸气泵(IGP)
‑
NEG组合的壳体、一种具有这种壳体的真空泵以及一种具有这种真空泵的真空系统。

技术介绍

[0002]在许多工业和科学仪器和系统中，需要具有低于10
‑7毫巴的压力的超高真空。为了在真空装置中产生这种真空，已知使用不同泵类型的组合。因此，使用主泵或前级泵来产生从最后10
‑1毫巴至10
‑3毫巴的压力作为低真空。通常，所述主泵或前级泵与另一真空泵组合以产生高真空或者甚至包括低于10
‑7毫巴的压力的超高真空。超高真空泵包括吸收泵以便产生所期望压力。此类吸收泵包括离子吸气泵(IGP)和体积吸气泵，即，蒸散型吸气材料泵(NEG)。两种类型的泵都包括吸气材料，其中例如在NEG的操作期间，并且来自真空装置的容器的分子和气体粒子结合到NEG材料的表面，并且因此不再参与真空装置内部的压力。由于此沉积，贡献于NEG泵的泵性能的NEG材料的活性表面减少。如果NEG的活性表面不再可用，则NEG的泵性能趋于零，并且NEG泵必须再生。吸气材料的再生通常通过加热吸气材料进行。在其中，一部分结合的分子和气体粒子在再生过程期间被释放，并且必须通过额外真空泵从真空装置去除。特别地，在吸气材料的再生期间，从吸气材料释放的分子和气体粒子可能损害真空装置的容器内部的压力。因此，压力增加，这是不期望的。因此，众所周知在真空泵与容器之间包括阀以在NEG材料的再生期间使真空泵与真空装置的容器分离。然而，由于此阀，真空泵与容器之间的距离增加，从而降低连接的传导性，并且从而降低真空泵的泵性能，因为在分子流态下，分子或气体粒子进入真空泵的概率因低传导性而降低。
[0003]US 2017/276129描述一种低温泵气体量估计设备，其包括低温泵，所述低温泵具有用以关闭低温泵的进气口的入口的闸阀。
[0004]US 6,186,749描述一种分子拖曳泵，其包括容纳在具有抽吸入口和输送出口的壳内部的转子，所述泵在其入口处与一阀相关联，所述阀包括位于阀封套内部的阀机构，其中所述阀封套与所述泵壳成一体。

技术实现思路

[0005]本技术的目的是提供一种如下用于真空泵的壳体：其提高真空泵的传导性并且避免在真空泵的再生期间对容器内部的真空的损害。
[0006]给定程序的解决方案由根据本技术的壳体、根据本技术的真空泵以及根据本技术的真空系统提供。
[0007]根据本技术的用于真空泵、特别是用于NEG或IGP的壳体包括限定用以容纳所述真空泵的内部空间的本体。特别地，所述内部空间分别包含NEG材料或NEG或IGP的铁吸气材料。进一步，第一凸缘连接到所述壳体，所述第一凸缘包括用以将所述真空泵连接到容器的开口。因此，来自容器的分子或气体粒子可以通过所述开口进入所述内部空间，并且然后
与内部空间中的真空泵相互作用。进一步，所述本体包括用以至少在再生期间将所述壳体连接到额外真空泵的第二凸缘。因此，所述第二凸缘可以仅在再生期间连接到另一真空泵，以便泵送在再生过程期间释放的气体粒子和分子，或者替代地，所述第二凸缘用于在操作期间将所述壳体连接到前级泵。
[0008]根据本技术，使用可移动屏蔽元件，其中所述屏蔽元件可从第一位置移动到第二位置，其中在所述第一位置中，所述第一凸缘的所述开口未被遮挡，并且在所述第二位置中，所述开口被阻挡并且优选地完全被阻挡。特别地，所述屏蔽元件设置在所述内部空间内部，并且如果在第二位置中，则设置在第一凸缘的开口前面。通过所述屏蔽元件，真空泵与容器之间的传导性显著降低。因此，在NEG的再生期间，屏蔽元件移动到第二位置中。由于低传导性，在再生期间从真空泵释放的分子或气体粒子无法重新进入容器并损害容器内部的真空。所述气体粒子或分子被连接到第二凸缘的额外真空泵泵送的可能性更大、并且概率高得多。
[0009]优选地，未在第一凸缘处、优选地在真空泵与容器之间布置阀，或者未在本体与凸缘之间并入阀。由于屏蔽元件，用于真空泵的壳体可以直接连接到容器，以便在操作期间在屏蔽元件在第一位置中的情况下增强和提高传导性。在真空泵与容器之间不需要采用另外的元件。
[0010]优选地，屏蔽元件是可以被容易地制造的片材元件，其中对屏蔽元件的要求低，因为屏蔽元件不需要完全密封。
[0011]优选地，屏蔽元件由引导轨道或导轨引导以能够从第一位置移动到第二位置。
[0012]优选地，屏蔽元件不包括密封弹性体等等以便提供真空严密密封。本技术的目的在于，通过屏蔽元件，为避免在真空泵的再生期间对容器中的真空的损害，只需要降低真空泵与容器之间的传导性，因为真空泵和容器处于分子流态。壳体的内部空间与真空装置的容器之间的完全密封既不必要、也不必需。
[0013]优选地，屏蔽元件包括磁性元件，或者替代地，屏蔽元件自身可以是磁性的并由磁性材料制成。所述磁性元件与壳体的本体外部的磁性手柄连接，以便将所述磁性手柄的移动传递到所述屏蔽元件。因此，通过所述磁性手柄，所述屏蔽元件可以在内部空间内部从第一位置移动到第二位置。无需在本体外部的手柄与屏蔽元件之间提供任何机械馈通接触，所述机械馈通接触将导致泄漏并且将需要额外努力来密封可移动部件。因此，由于磁性手柄与屏蔽元件的磁性元件之间的磁吸引力，磁性屏蔽元件自身可以以简单方式移动以控制屏蔽元件的位置。
[0014]进一步，本技术涉及一种如先前所述壳体中的真空泵，所述真空泵包括NEG和/或IGP真空泵。
[0015]进一步，本技术涉及一种真空系统，其包括如先前所述的真空泵以及真空容器，其中所述容器直接连接到所述真空泵。特别地，为了增强容器与真空泵之间的传导性，在真空泵与阀之间未设置阀。
附图说明
[0016]在下文中，参考附图中所示的实施例更详细地描述本技术。
[0017]图1示出了：
[0018]根据本技术的壳体的实施例。
具体实施方式
[0019]所述图1示出了根据本技术的壳体，其包括限定内部空间12的本体10，其中真空泵(未示出)设置在内部空间12中。进一步，第一凸缘14连接到本体10，其中真空室或容器可以连接到第一凸缘14。进一步，所述本体包括连接到所述壳体的第二凸缘16，其中另一真空泵可以连接到第二凸缘16作为前级泵或真空泵以泵送在壳体内部的真空泵的再生过程期间释放的气体粒子和分子。优选地，壳体内部的真空泵是IGP或NEG。
[0020]进一步，所述壳体包括屏蔽元件18，屏蔽元件18可从如图中所示的第一位置移动到第一凸缘14的开口20前面的第二位置。在其中，屏蔽元件18由引导轨道22引导。如果屏蔽元件18在第一凸缘14的开口20前面的第二位置中，则连接到第一凸缘14的容器与壳体的内部空间12之间的直接路径被遮挡。在壳体内部的真空泵的再生期间，比起通过第一凸缘14的开口20，从真空泵释放的气体粒子或分子本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于真空泵的壳体，其包括：限定用以容纳所述真空泵的内部空间(12)的本体(10)，第一凸缘(14)，其连接到所述本体(10)并且包括用以将所述真空泵连接到容器的开口(20)，以及第二凸缘(16)，其连接到所述本体(10)以至少在再生期间将所述壳体连接到额外真空泵，其特征在于，设置在所述本体的所述内部空间(12)内部并且能够从第一位置移动到第二位置的可移动的屏蔽元件(18)，其中在所述第一位置中，所述第一凸缘(14)的所述开口未被遮挡，并且在所述第二位置中，所述开口(20)被阻挡但不使所述内部空间(12)与所述容器完全密封隔绝。2.根据权利要求1所述的壳体，其特征在于，在所述第一凸缘(14)处未布置阀。3.根据权利要求1或2所述的壳体，其特征在于，所述屏蔽元件(18)包括磁性元件(26...

【专利技术属性】
技术研发人员：M，
申请(专利权)人：爱德华兹真空泵有限责任公司，
类型：新型
国别省市：